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    • 6. 发明申请
    • 半導体装置およびその製造方法
    • 半导体器件及其制造方法
    • WO2016092791A1
    • 2016-06-16
    • PCT/JP2015/006035
    • 2015-12-04
    • 株式会社デンソー
    • 林 英二小林 渉野村 英司神田 和輝
    • H01L23/48H01L23/40
    • H01L23/40H01L23/48H01L2224/26145H01L2224/26175H01L2224/291H01L2224/33H01L2224/33181H01L2224/48247H01L2224/83365H01L2224/83385H01L2924/0002H01L2924/181H01L2924/00012H01L2924/00H01L2924/014
    •  半導体装置は、一面(11a)に電極(12)を有する半導体チップ(11,11H,11L)と、前記半導体チップの一面側の第1導電部材(23,23H,23L)と、基材(19a)と皮膜(19b)を有し、前記半導体チップと前記第1導電部材の間に介在する金属部材(18,18H,18L)と、前記半導体チップの電極と前記金属部材との間の第1はんだ(17)と、前記金属部材と前記第1導電部材の間の第2はんだ(22)とを備える。前記皮膜が、前記基材の表面上の金属薄膜(20)と凹凸酸化膜(21,31,32)とを有する。前記凹凸酸化膜は、前記金属部材の表面のうち、前記第1はんだが接続される第1接続領域(18d)と前記第2はんだが接続される第2接続領域(18e)とをつなぐつなぎ領域(18f)の一部において、前記金属薄膜上に配置されている。
    • 该半导体装置设置有:在一个表面(11a)上具有电极(12)的半导体芯片(11,11H,11L) 在半导体芯片的一个表面侧的第一导电构件(23,23H,23L); 具有基材(19a)和膜(19b)的金属构件(18,18H,18L),并且设置在所述半导体芯片和所述第一导电构件之间; 金属构件和半导体芯片的电极之间的第一焊料(17); 以及金属构件和第一导电构件之间的第二焊料(22)。 该薄膜在基材的前表面上具有金属薄膜(20)和凹凸的氧化膜(21,31,32)。 凹凸突出的氧化膜在连接区域(18f)的连接区域(18f)的一部分上配置在金属薄膜上,第一连接区域(18d)与第一焊料连接,第二连接区域(18e) 所述第二焊料与其连接,所述部分是所述金属构件的前表面的一部分。