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热词
    • 1. 发明申请
    • 半導体レーザ光源及び半導体レーザ光源の製造方法
    • 半导体激光光源和半导体激光光源制造方法
    • WO2015198377A1
    • 2015-12-30
    • PCT/JP2014/066568
    • 2014-06-23
    • 富士通株式会社
    • 木村 徳治山本 剛之高林 和雅植竹 理人
    • H01S5/026H01S5/227
    • H01S5/026H01S5/0425H01S5/1064H01S5/2227H01S5/227H01S5/2275H01S5/3412H01S5/34313
    •  第1の導電型の半導体材料により形成された半導体基板と、前記半導体基板の上に、第1の導電型の半導体材料により形成された下部クラッド層と、前記下部クラッド層の上に形成された導波路層と、前記導波路層の上に形成された第2の導電型の半導体材料により形成された上部クラッド層と、を有し、前記導波路層は、光が導波するコア領域と、前記コア領域の両側において前記コア領域よりも薄く形成されたリブ領域とを有しており、前記コア領域には活性層として量子ドット層が形成されており、前記リブ領域には、前記量子ドット層が形成されていないものであって、前記コア領域の幅が一定のレーザ部と、前記レーザ部に接しているレーザ光のスポットサイズを変換するスポットサイズ変換部とを有しており、前記スポットサイズ変換部は、前記レーザ部に接している側から、スポットサイズ変換部の端部に向かって、前記コア領域の幅が徐々に狭くなっていることを特徴とする。
    • 该半导体激光光源的特征在于具有:由第一导电型半导体材料形成的半导体基板; 在半导体衬底上由第一导电型半导体材料形成的下包层; 形成在下包层上的波导层; 以及在所述波导层上由第二导电型半导体材料形成的上部包覆层。 半导体激光光源的特征还在于:波导层具有光引导的芯区域,以及形成为比芯区域的两侧的芯区域薄的肋区域; 在芯区域中形成量子点层作为有源层; 量子点层不形成在肋区域中; 所述半导体激光光源具有固定所述芯部区域的宽度的激光部,以及将所述光斑尺寸转换部与激光部接触的激光的光斑尺寸变换的光点尺寸变换部, 并且在光点尺寸转换部分中,从光斑尺寸转换部分与激光部分接触的一侧,光点尺寸转换部分的光纤芯区域的宽度逐渐减小。
    • 3. 发明申请
    • TUNABLE LASER FOR FLUORESCENCE MICROSCOPY
    • 荧光显微镜的荧光激光
    • WO2014076445A1
    • 2014-05-22
    • PCT/GB2013/000487
    • 2013-11-14
    • THE UNIVERSITY OF DUNDEE
    • FEDOROVA, KseniaRAFAILOV, EdikSOLOLOVSKII, Grigorili
    • H01S5/00H01S5/14G01N21/64H01S5/34H01S5/40H01S5/10
    • H01S5/0092B82Y20/00G01N21/47G01N21/6458H01S5/005H01S5/0064H01S5/1092H01S5/142H01S5/3412H01S5/4087
    • A compact broadly tunable visible spectrum laser source which can provide a continuous wave (CW) output or a pulsed output with a picosecond pulse length for use in fluorescence microscopy. The laser source has a quantum-dot external-cavity diode laser optically coupled with a periodically poled nonlinear crystal waveguide in which, two or more tunable wavelengths may be generated substantially simultaneously in the visible spectral range. By using an one or more additional diffraction grating and a beam splitter in the external cavity setup to provide the coverage of a broad visible spectral range. Multi-wavelength emission is enabled using a coupled resonator with a beam splitter (6) and at least two diffraction gratings (3,5) and a Quantum-Dot active media (9) to realize the external cavity laser diode. The broad tunable emission is frequency- converted into the visible with a periodically poled waveguide SHG PPKTP (19).
    • 可以提供连续波(CW)输出的紧凑型宽可调谐可见光谱激光源或用于荧光显微镜的皮秒脉冲长度的脉冲输出。 激光源具有与周期性极化的非线性晶体波导光学耦合的量子点外腔二极管激光器,其中可在可见光谱范围内基本上同时产生两个或多个可调谐波长。 通过在外部空腔设置中使用一个或多个附加的衍射光栅和分束器来提供宽的可见光谱范围的覆盖。 使用具有分束器(6)和至少两个衍射光栅(3,5)和量子点有源介质(9)的耦合谐振器来实现多波长发射,以实现外部腔激光二极管。 使用周期性极化的波导SHG PPKTP(19)将宽可调谐发射频率转换成可见光。
    • 10. 发明申请
    • 半導体装置の製造方法及び半導体装置
    • 制造半导体器件和半导体器件的方法
    • WO2011010389A1
    • 2011-01-27
    • PCT/JP2009/063280
    • 2009-07-24
    • パイオニア株式会社沢渡 義規吉沢 勝美
    • 沢渡 義規吉沢 勝美
    • H01S5/343
    • H01S5/34306H01S5/3412
    •  半導体装置の製造方法は、温度300Kにおいて、PL発光のピーク波長が1.2μm以上となる半導体装置の製造方法である。該製造方法は、半導体基板(110)上に、GaAsを含んでなるバッファ層(120)を形成する第1形成工程と、形成されたバッファ層上に、InAsを含んでなる量子ドット(131)を自己形成させる第2形成工程と、形成された量子ドットを覆うように、GaAsを含んでなるキャップ層(140)を形成する第3形成工程とを備える。第2形成工程において量子ドットを自己形成させる際の温度である第1成長温度よりも、第3形成工程においてキャップ層を形成する際の温度である第2成長温度が低い。
    • 一种在300K的温度下制造具有不小于1.2μm的PL发射峰值波长的半导体器件的方法。该方法包括:第一形成步骤,其中在半导体衬底上形成含有GaAs的缓冲层(120) (110); 第二形成步骤,其中包含InAs的量子点(131)在这样形成的缓冲层上自形成; 以及第三形成步骤,其中形成包含GaAs的盖层(140)以覆盖由此形成的量子点。 在第三形成步骤中形成盖层的第二生长温度低于在第二形成步骤中自形成量子点的第一生长温度。