会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 5. 发明申请
    • TUNABLE SOI LASER
    • TUNABLE SOI激光器
    • WO2015107365A1
    • 2015-07-23
    • PCT/GB2015/050104
    • 2015-01-19
    • ROCKLEY PHOTONICS LIMITED
    • RICKMAN, Andrew GeorgeZILKIE, Aaron
    • H01S5/14H01S5/028H01S5/12H01S3/1055H01S3/106
    • H01S5/125H01S3/1055H01S3/106H01S5/021H01S5/028H01S5/1007H01S5/1209H01S5/142H01S5/3031H01S5/3224H01S5/3427
    • A wavelength tunable silicon-on-insulator (SOI) laser comprising: a laser cavity including: a semiconductor gain medium (2) having a front end (21) and a back end (22); and a phase-tunable waveguide platform (3) coupled to the front end of the semiconductor gain medium; wherein the phase-tunable waveguide platform includes a first Distributed Bragg Reflector (31) and a second Distributed Bragg Reflector (32); at least one of the Distributed Bragg Reflectors having a comb reflectance spectrum; and wherein a mirror (10) of the laser cavity is located at the back end (22) of the semiconductor gain medium. The coupled cavity allows via the Vernier effect improved mode selectivity and the electro-optic tuning of the gratings results in faster wavelength tuning of the ECLD.A further phase control element (53) may compensate for a thermal wavelength drift of the laser.
    • 一种波长可调的绝缘体上硅(SOI)激光器,包括:激光腔,包括:具有前端(21)和后端(22)的半导体增益介质(2) 以及耦合到所述半导体增益介质的前端的相位可调波导平台(3); 其中所述相位可调谐波导平台包括第一分布布拉格反射器(31)和第二分布布拉格反射器(32); 分布布拉格反射器中的至少一个具有梳状反射光谱; 并且其中所述激光腔的反射镜(10)位于所述半导体增益介质的后端(22)处。 耦合腔允许通过游标效应改善模式选择性,并且光栅的电光调谐导致ECLD的更快的波长调谐。另外的相位控制元件(53)可以补偿激光器的热波长漂移。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER LASERDIODE, HALTERUNG UND LASERDIODE
    • 用于生产激光二极管,支持和激光二极管
    • WO2014033106A1
    • 2014-03-06
    • PCT/EP2013/067679
    • 2013-08-27
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • AUEN, KarstenDACHS, JürgenENZMANN, RolandGRAUL, MarkusHANEDER, StephanROZYNSKI, AndreasSWIETLIK, TomaszWALTER, Christoph
    • H01S5/022H01S5/028G02B6/42
    • H01L33/60H01L33/005H01L33/48H01L33/62H01L2933/0033H01L2933/0058H01L2933/0066H01S5/0201H01S5/0217H01S5/02252H01S5/02268H01S5/028
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Laserdiode (17), wobei mehrere Laserdioden auf einem Wafer hergestellt werden, wobei der Wafer in Waferstücke zerteilt wird, wobei jedes Waferstück mehrere Laserdioden nebeneinander auf- weist, wobei ein Waferstück in eine erste Halterung (6) eingelegt wird, wobei die erste Halterung (6) ein erstes Abdeckelement (10) aufweist, das über eine Vorderseite (4) des Waferstücks hinausragt und einen unteren Bereich der Vorderseite des Waferstückes abschattet, wobei auf einen nicht abgeschatteten oberen Bereich (11) der Vorderseite des Waferstückes eine Spiegelschicht (15) abgeschieden wird, wobei das Waferstück in eine zweite Halterung (12) eingelegt wird, wobei die zweite Halterung (12) ein zweites Abdeckelement (14) aufweist, wobei das zweite Abdeckelement (14) die Spiegelschicht (15) des oberen Bereiches der Vorderseite abschattet, wobei auf einen nicht abgeschatteten unteren Bereich der Vorderseite des Waferstückes eine elektrisch leitende Kontaktschicht (19) abgeschieden wird, wobei das Waferstück anschließend in einzelne Laserdioden aufgeteilt wird. Zudem betrifft die Erfindung eine einfach herzustellende Laserdiode und Halterungen zur Durchführung des Verfahrens.
    • 本发明涉及一种制造激光二极管(17),其中多个激光二极管的在晶片上制造的方法,该晶片被切成晶片的片,将每个晶片件具有彼此相邻时,多个激光二极管的方法,其中的一块晶片分割成第一支架(6) 被插入时,其特征在于,前部的第一保持器(6),具有第一盖部件(10)突出超过前表面(4)的晶片块的和色调晶片片的前侧的下部,其中,非阴影上部区域(11) 晶片轨迹,反射镜层(15),其中,所述晶片片插入在第二支架(12)被沉积,所述第二保持器(12)包括第二盖部件(14),其中,所述第二盖(14)中,反射镜层(15) 前色调的上部,其特征在于,一个EL到晶片片的前端侧的非阴影下部 ektrisch导电接触层(19),其中所述片晶片然后被分成单个的激光二极管被沉积。 此外,本发明涉及一种易于制造的激光二极管和固定装置用于执行该方法。