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1. 发明申请

WO2016021496A1 スパッタ装置および処理装置审中-公开
标题翻译：溅射装置和加工装置
公开(公告)号：WO2016021496A1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/JP2015/071788
申请日：2015-07-31
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：廣見　太一 , 下川　英利 , 市川　篤行
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/00 , C23C14/54 , G01L21/00 , H01L21/203 , H01L21/285
CPC分类号： H01J37/3447 , C23C14/564 , C23C16/4401 , G01L21/00 , H01J37/32816 , H01J37/32935 , H01J37/3411 , H01J37/3441 , H01J37/3476 , H01J2237/026 , H01J2237/24585 , H01J2237/3322 , H01L21/203 , H01L21/285 , H01L21/2855
摘要：　スパッタ装置は、基板に膜を形成するためのスパッタリング空間を規定する空間規定部材を有する。前記空間規定部材は、凹部を有し、前記凹部の底部には、開口部が設けられている。前記スパッタ装置は、前記開口部を前記スパッタリング空間から遮蔽する遮蔽部材を備えている。前記開口部は、前記スパッタリング空間内の圧力を計測可能な圧力計が取り付け可能に形成され、前記遮蔽部材は、少なくとも一部が前記凹部に埋め込まれるように配置されている。
摘要翻译：该溅射装置具有限定用于在衬底上形成膜的溅射空间的空间限定构件。空间限定构件具有凹部，并且凹部的底部设置有开口。溅射装置设置有用于屏蔽来自溅射空间的开口的屏蔽构件。开口形成为使得能够附接能够测量溅射空间内的压力的压力计，并且屏蔽构件被布置成至少部分地嵌入在凹部内。

2. 发明申请

WO2009032566A3 TECHNIQUES FOR TERMINAL INSULATION IN AN ION IMPLANTER 审中-公开
标题翻译：离子注入机终端绝缘技术
公开(公告)号：WO2009032566A3
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：PCT/US2008074066
申请日：2008-08-22
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT , LOW RUSSELL J , LUBICKI PIOTR R , LISCHER JEFFREY D , KRAUSE STEPHEN E , HERMANSON ERIC D , OLSON JOSEPH C , TEKLETSADIK KASEGN D
发明人： LOW RUSSELL J , LUBICKI PIOTR R , LISCHER JEFFREY D , KRAUSE STEPHEN E , HERMANSON ERIC D , OLSON JOSEPH C , TEKLETSADIK KASEGN D
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/248 , H01J2237/026 , H01J2237/038 , H01J2237/2001
摘要： Techniques for terminal insulation for an ion implanter are disclosed. In one particular exemplary embodiment, the techniques may be realized as an ion implanter comprising a terminal structure defining a terminal cavity. The ion implanter may also comprise a grounded enclosure defining a grounded cavity and the terminal structure may be at least partially disposed within the grounded cavity. The ion implanter may further comprise an intermediate terminal structure disposed proximate an exterior portion of the terminal structure and at least partially disposed within the grounded cavity.
摘要翻译：公开了用于离子注入机的端子绝缘技术。在一个特定的示例性实施例中，该技术可以被实现为包括限定终端腔的终端结构的离子注入机。离子注入机还可以包括限定接地腔的接地外壳，并且端子结构可以至少部分地设置在接地腔内。离子注入机还可以包括设置在终端结构的外部附近并且至少部分地设置在接地腔内的中间终端结构。

3. 发明申请

WO2009032566A2 TECHNIQUES FOR TERMINAL INSULATION IN AN ION IMPLANTER 审中-公开
标题翻译：在离子植入物中终端绝缘的技术
公开(公告)号：WO2009032566A2
公开(公告)日：2009-03-12
申请号：PCT/US2008/074066
申请日：2008-08-22
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , LOW, Russell, J. , LUBICKI, Piotr, R. , LISCHER, Jeffrey, D. , KRAUSE, Stephen, E. , HERMANSON, Eric, D. , OLSON, Joseph, C. , TEKLETSADIK, Kasegn, D.
发明人： LOW, Russell, J. , LUBICKI, Piotr, R. , LISCHER, Jeffrey, D. , KRAUSE, Stephen, E. , HERMANSON, Eric, D. , OLSON, Joseph, C. , TEKLETSADIK, Kasegn, D.
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/248 , H01J2237/026 , H01J2237/038 , H01J2237/2001
摘要： Techniques for terminal insulation for an ion implanter are disclosed. In one particular exemplary embodiment, the techniques may be realized as an ion implanter comprising a terminal structure defining a terminal cavity. The ion implanter may also comprise a grounded enclosure defining a grounded cavity and the terminal structure may be at least partially disposed within the grounded cavity. The ion implanter may further comprise an intermediate terminal structure disposed proximate an exterior portion of the terminal structure and at least partially disposed within the grounded cavity.
摘要翻译：公开了用于离子注入机的端子绝缘的技术。在一个特定的示例性实施例中，可以将技术实现为包括限定端子腔的端子结构的离子注入机。离子注入机还可以包括限定接地腔的接地外壳，并且端子结构可以至少部分地设置在接地空腔内。离子注入机还可以包括设置在端子结构的外部部分附近并且至少部分地设置在接地腔内的中间端子结构。

4. 发明申请

WO2006133038A3 PARTICULATE PREVENTION IN ION IMPLANTATION 审中-公开
标题翻译：离子注入中的颗粒预防
公开(公告)号：WO2006133038A3
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：PCT/US2006021643
申请日：2006-06-02
申请人： AXCELIS TECH INC , VANDERPOT JOHN , BERRIAN DONALD
发明人： VANDERPOT JOHN , BERRIAN DONALD
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/08 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/302 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/026 , H01J2237/028 , H01J2237/30433 , H01J2237/31705
摘要： A system and method for mitigating contamination in an ion implantation system is provided. The system comprises an ion source (200), a power supply (216) operable to supply power to a filament (214) and mirror electrode (218) of the ion source, a workpiece handling system, and a controller (228), wherein the ion source is selectively tunable via the controller to provide rapid control of a formation of an ion beam. The controller is operable to selectively rapidly control power to the ion source, therein modulating a power of the ion beam between an implantation power and a minimal power in less than approximately 20 microseconds based, at least in part, to a signal associated with a workpiece position. Control of the ion source therefore mitigates particle contamination in the ion implantation system by minimizing an amount of time at which the ion beam is at the implantation current.
摘要翻译：提供了一种减轻离子注入系统污染的系统和方法。该系统包括离子源（200），可操作以向离子源的细丝（214）和镜电极（218）供电的电源（216），工件处理系统和控制器（228），其中离子源可以经由控制器选择性地调节，以提供对离子束形成的快速控制。控制器可操作以选择性地快速地控制离子源的功率，其中至少部分地基于与工件相关联的信号，在小于约20微秒内在注入功率和最小功率之间调制离子束的功率位置。因此，离子源的控制因此通过使离子束处于注入电流的时间量最小化来减轻离子注入系统中的颗粒污染。

5. 发明申请

WO2015098031A1 光源装置审中-公开
标题翻译：光源设备
公开(公告)号：WO2015098031A1
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：PCT/JP2014/006223
申请日：2014-12-12
申请人：ウシオ電機株式会社
发明人：新美　剛太 , 藪田　泰伸
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , F21V14/04 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , H01J37/16 , H01J37/3244 , H01J37/3266 , H01J2237/022 , H01J2237/026 , H01J2237/028 , H05G2/008
摘要：　デブリに起因するデブリトラップの光透過率の低下や集光鏡における反射率の低下を抑制する光源装置が開示される。この装置において、固定式ホイルトラップ（５）の前に開口部（６ａ）を有する遮へい部材（６）を設け、高温プラズマ（Ｐ）から放出される光の立体角を制限する。また、固定式ホイルトラップ（５）に駆動機構（７）を設け、ホイルトラップのデブリ付着部分が開口部（６ａ）から臨む位置から外れるように回動させる。これにより、デブリの付着に起因する光の透過率の低下を抑制（または回復）させ、使用寿命を長寿命化することができる。なお、ホイルトラップとして、回転動作によりプラズマから飛来するデブリを捕捉する回転式ホイルトラップ（４）を用いてもよい。さらに、ＥＵＶ集光鏡（９）を回動させることにより、デブリの付着による反射率の低下を抑制するようにしてもよい。
摘要翻译：本发明公开了一种使聚光镜的反射率降低或由于碎片导致的碎片陷阱的透射率最小化的光源装置。在该装置中，在固定箔捕获器（5）的前方设置有具有开口（6a）的遮蔽构件（6），以限制由高温等离子体（P）发射的光所对向的立体角。此外，固定箔捕获器（5）设置有驱动机构（7），并且远离其上附着有碎屑的箔片捕获部分面向上述开口（6a）的位置旋转。这使得可能由于附着的碎屑而使透光率降低（或反转）最小化（或反转），导致更长的使用寿命。箔捕获器还可以是旋转的箔捕获器（4），其通过旋转捕获来自等离子体的碎屑。还可以旋转EUV聚光镜（9），以便最小化由附着的碎片引起的反射率的降低。

6. 发明申请

WO2014200927A1 GLASS PALLET FOR SPUTTERING SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：玻璃胶囊用于喷射系统
公开(公告)号：WO2014200927A1
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：PCT/US2014/041569
申请日：2014-06-09
申请人： VIEW, INC.
发明人： FRANK, Trevor , ROZBICKI, Robert T. , SATERN, Jason
IPC分类号： C23C14/34 , B65G49/06
CPC分类号： H01J37/32715 , C23C14/34 , C23C14/50 , C23C14/562 , C23C14/568 , H01J37/32651 , H01J37/32779 , H01J2237/026 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/332 , H01L21/6734 , H01L21/67712 , H01L21/6776
摘要： Pallets for transporting one or more glass substrates in a substantially vertical orientation through a sputtering system. In some cases, a pallet comprising a frame with an aperture and an adjustable grid array within the aperture. The adjustable grid array is configurable to hold a plurality of glass substrates of different shapes and/or sizes. In one case, the adjustable grid array comprises a system of vertical and horizontal support bars, wherein the vertical support bars configured to both support the plurality of glass substrates at their vertical edges, wherein the horizontal support bars are configured to support the plurality of glass substrates at their horizontal edges, wherein the ends of the horizontal support bars are slideably engaged with the vertical support bars.
摘要翻译：用于通过溅射系统以基本垂直的方向输送一个或多个玻璃基板的托盘。在一些情况下，托盘包括具有孔的框架和孔内的可调网格阵列。可调网格阵列可配置为容纳多个不同形状和/或尺寸的玻璃基板。在一种情况下，可调网格阵列包括垂直和水平支撑杆的系统，其中所述垂直支撑杆构造成在其垂直边缘处支撑多个玻璃基板，其中水平支撑杆构造成支撑多个玻璃基板在其水平边缘处，其中水平支撑杆的端部可滑动地与垂直支撑杆接合。

7. 发明申请

WO2013171229A1 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY SYSTEM AND BEAM GENERATOR 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光刻系统和光束发生器
公开(公告)号：WO2013171229A1
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：PCT/EP2013/059963
申请日：2013-05-14
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , URBANUS, Willem Henk
IPC分类号： H01J37/30 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
摘要： The invention relates to a charged particle lithography system for exposing a target. The system includes a charged particle beam generator for generating a charged particle beam; an aperture array (6) for forming a plurality of beamlets from the charged particle beam; and a beamlet projector (12) for projecting the beamlets onto a surface of the target. The charged particle beam generator includes a charged particle source (3) for generating a diverging charged particle beam; a collimator system (5a,5b,5c,5d; 72;300) for refracting the diverging charged particle beam; and a cooling arrangement (203) for removing heat from the collimator system, the cooling arrangement comprising a body surrounding at least a portion of the collimator system.
摘要翻译：本发明涉及用于曝光目标物的带电粒子光刻系统。该系统包括用于产生带电粒子束的带电粒子束发生器; 用于从带电粒子束形成多个子束的孔径阵列（6）以及用于将子束投影到目标表面上的小射束投影仪（12）。带电粒子束发生器包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源（3）用于折射发散带电粒子束的准直器系统（5a，5b，5c，5d; 72; 300）以及用于从准直器系统去除热的冷却装置（203），所述冷却装置包括围绕准直器系统的至少一部分的主体。

8. 发明申请

WO2010021543A1 CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET POSITIONING DEVICE 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束光刻系统和目标定位装置
公开(公告)号：WO2010021543A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：PCT/NL2009/050499
申请日：2009-08-18
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , PEIJSTER, Jerry , DE BOER, Guido
发明人： PEIJSTER, Jerry , DE BOER, Guido
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/026 , H01J2237/202 , H01J2237/304
摘要： The invention relates to a charged particle beam lithography system comprising: a charged particle optical column arranged in a vacuum chamber for projecting a charged particle beam onto a target, wherein the column comprises deflecting means for deflecting the charged particle beam in a deflection direction, a target positioning device comprising a carrier for carrying the target, and a stage for carrying and moving the carrier along a first direction, wherein the first direction is different from the deflection direction, wherein the target positioning device comprises a first actuator for moving the stage in the first direction relative to the charged particle optical column, wherein the carrier is displaceably arranged on the stage and wherein the target positioning device comprises retaining means for retaining the carrier with respect to the stage in a first relative position.
摘要翻译：本发明涉及一种带电粒子束光刻系统，包括：带电粒子光学柱，布置在真空室中，用于将带电粒子束投射到靶上，其中该柱包括偏转装置，用于偏转带电粒子束的偏转方向，目标定位装置，包括用于承载目标的载体，以及用于沿着第一方向承载和移动载体的载物台，其中所述第一方向不同于所述偏转方向，其中所述目标定位装置包括用于使所述载物台移动的第一致动器相对于带电粒子光学柱的第一方向，其中所述载体可位移地布置在所述载物台上，并且其中所述目标定位装置包括用于将所述载体相对于所述载物台保持在第一相对位置的保持装置。

9. 发明申请

WO1997035325A1 ELECTRON BOMBARDMENT INSTALLATION 审中-公开
标题翻译：电子厂
公开(公告)号：WO1997035325A1
公开(公告)日：1997-09-25
申请号：PCT/EP1997001215
申请日：1997-03-10
申请人： VIOTECHNIK GESELLSCHAFT FÜR INNOVATIVE OBERFLÄCHENTECHNIK MBH , KAMPMEIER, Franz
发明人： VIOTECHNIK GESELLSCHAFT FÜR INNOVATIVE OBERFLÄCHENTECHNIK MBH
IPC分类号： G21K05/10
CPC分类号： B29C37/0089 , B29C35/10 , B29C2035/0877 , G21K5/04 , G21K5/10 , H01J37/317 , H01J2237/026 , H01J2237/316
摘要： Described is an electron bombardment installation for curing plastic coatings on workpieces, the installation having a workpiece-irradiation chamber (2), an electron gun (3), a conveyor (4) to convey the workpieces into the workpiece-irradiation chamber, and a shield (8) to provide protection against radiation. In order to ensure a high workpiece throughput and good shielding, the installation is fitted with two or more locking devices (26) which can be moved with respect to the direction in which the workpieces are being conveyed and which are located on the conveyor, before and after the workpiece-irradiation chamber, for radiation-protection purposes, the distance along the conveyor between the locking devices being such that at least on workpiece fits between two locking devices.

10. 发明申请

WO2019128942A1 用于矿产成分分析的加速器系统、用于矿产成分分析的系统及方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019128942A1
公开(公告)日：2019-07-04
申请号：PCT/CN2018/123254
申请日：2018-12-24
申请人：同方威视技术股份有限公司
发明人：刘耀红 , 张亮 , 张晓桐 , 高峰
IPC分类号： G01N23/02
CPC分类号： H01J37/09 , G01N33/20 , G01N33/24 , H01J37/065 , H01J37/32229 , H01J2237/026 , H01J2237/0473 , H01J2237/2487
摘要：一种用于矿产成分分析的加速器系统及其方法，该加速器系统(100)包括：电子枪(102)，用于产生电子束；加速管(104)，用于将所述电子枪(102)发出的电子束加速到预定能量；复合靶(106)，用于接收电子束轰击之后在所述复合靶(106)上产生放射性射线；探测器(112)，用于接收所述放射性射线，并生成射线数据以进行后续分析；传送装置(108)，用于将待测样品在所述复合靶(106)的前端与探测器(112)之间进行位置移动；以及屏蔽机构(110)，用于对所述放射性射线进行屏蔽。

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