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1. 发明申请

WO2023079770A1 成膜制御装置、成膜装置及び成膜方法审中-公开
公开(公告)号：WO2023079770A1
公开(公告)日：2023-05-11
申请号：PCT/JP2022/004474
申请日：2022-02-04
申请人：株式会社シンクロン
发明人：大瀧　芳幸 , 松平　学幸 , 山口　剛 , 宮内　充祐
IPC分类号： C23C14/54
摘要：回転体（２５）に配置された基板（Ｓ）に光を照射する光源（４２）と、前記光源から照射した光に対し、前記基板に成膜された薄膜の層を透過する透過光または反射する反射光を受光する受光部（４６）と、前記回転体の円周方向の位置に対応した位置情報を取得する位置情報取得部（４８）と、成膜条件を制御する制御部（４）と、を備え、前記制御部は、前記位置情報取得部で取得した前記回転体の円周方向の位置情報に基づいて目的とする基板の位置を特定し、当該特定した位置の基板に対して前記光源から照射した光の透過光または反射光を受光するタイミングを制御するタイミング制御部と、前記受光部で受光した透過光または反射光に基づいて、複数の層からなる薄膜の各層の膜厚を算出し、前記各層の膜厚と、所望の分光特性を有する薄膜を構成する各層の目標膜厚との膜厚差を判定する膜厚判定部と、前記各層の膜厚が前記目標膜厚に対して所定値以上の膜厚差がある場合には、当該膜厚差がある層の膜厚が当該層の目標膜厚になるように当該層に対する成膜条件を補正したうえで、前記成膜条件を設定する成膜条件設定部と、を含む。

2. 发明申请

WO2023057706A1 DISPOSITIF DE CHAUFFAGE D'UN SUBSTRAT POUR DÉPÔT SOUS VIDE 审中-公开
公开(公告)号：WO2023057706A1
公开(公告)日：2023-04-13
申请号：PCT/FR2022/051846
申请日：2022-09-29
申请人： SAFRAN ELECTRONICS & DEFENSE
发明人： DUPEYRAT, Cyril , PARAILLOUS, Maxime , FLEURY, Joël
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/54 , C23C16/458 , C23C16/46 , H01L21/687 , H01L21/67 , C23C14/541 , C23C16/4585 , C23C16/4586 , H01L21/67103 , H01L21/67248
摘要： Ce dispositif de chauffage d'un substrat (2) dans une enceinte sous vide pour dépôt multicouche sur ledit substrat (2) comprend une source de chaleur (5) destinée à être en contact avec le substrat (2), un support (6) de la source de chaleur (5), un isolant thermique (7) positionné entre le support (6) et la source de chaleur (5), une batterie d'alimentation (8) de la source de chaleur (5), et une structure de maintien (15) du substrat (2) contre la source de chaleur (5).

3. 发明申请

WO2023040675A1 镀膜过程的工艺参数优化方法、装置及镀膜实时监控系统审中-公开
公开(公告)号：WO2023040675A1
公开(公告)日：2023-03-23
申请号：PCT/CN2022/116627
申请日：2022-09-01
申请人：佛山市博顿光电科技有限公司 , 中山市博顿光电科技有限公司
发明人：刘伟基 , 冀鸣 , 赵刚 , 易洪波
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/52 , G01B11/06
摘要：本申请涉及一种镀膜过程的工艺参数优化方法、装置及镀膜实时监控系统，该方法包括：获取薄膜的目标性能参数和薄膜镀制的初始工艺参数；对目标性能参数进行光学计算得到对应的目标光谱曲线；在薄膜镀制过程中，读取光控系统实时计算的膜层的透过率曲线，根据透过率曲线计算膜层的实际光谱曲线；对初始工艺参数进行调整并实时计算实际光谱曲线与目标光谱曲线之间的差值，直至实际光谱曲线与目标光谱曲线一致；记录调整得到的镀制过程的实际工艺参数，利用实际工艺参数优化初始工艺参数并输出相应的光学导纳；该技术方案，实现了对膜层的初始参数的误差检测和校正，保证该膜层的镀膜过程可监控和可预测，实现对每个膜层的镀膜过程的稳定和精准控制。

4. 发明申请

WO2023001992A1 PROCÉDÉ D'OBTENTION D'UNE COUCHE NANO STRUCTURÉE DE NITRURE DE TITANE PAR DÉPÔT PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE 审中-公开
公开(公告)号：WO2023001992A1
公开(公告)日：2023-01-26
申请号：PCT/EP2022/070562
申请日：2022-07-21
申请人： UNIVERSITE GUSTAVE EIFFEL , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE , UNIVERSITE PARIS-SACLAY
发明人： ROUSSEAU, Lionel , WILFINGER, Claudia - Antonella , HERTH, Etienne
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/06 , C23C14/54 , C23C14/58 , C23C28/04 , C23C14/0015 , C23C14/0036 , C23C14/0641 , C23C14/5873
摘要： Procédé d'obtention d'une couche nano structurée de nitrure de titane par dépôt par pulvérisation cathodique un substrat à température ambiante caractérisé en ce qu'il comprend une première étape de pulvérisation cathodique réactive à température ambiante dans une enceinte sous vide comprenant un gaz réactif, un gaz inerte, le substrat de 100 mm ou plus de diamètre et une cathode cible, sous des conditions spécifiques; une deuxième étape de gravure humide de la monocouche de nitrure de titane déposée lors de la première étape, la gravure humide comprenant l'application d'une solution, afin d'obtenir une monocouche mince de nitrure de titane TiN de coloration contrôlée de type noire; la pulvérisation cathodique réactive étant effectuée lors de la première étape avec une décharge fournie par un générateur de courant continu, le gaz réactif étant composé d'azote; avec un débit déterminé de gaz inerte et de gaz réactif entrant dans l'enceinte, un ratio déterminé de gaz inerte et de gaz réactif, une pression déterminée dans l'enceinte et une puissance déterminée du générateur de courant continu. La variation de ces paramètres ou le nom respect du ratio n'offrant plus l'obtention de la nano structuration en étape 2.

5. 发明申请

WO2022256138A1 AUTOMATED TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE SUPPORT 审中-公开
公开(公告)号：WO2022256138A1
公开(公告)日：2022-12-08
申请号：PCT/US2022/028280
申请日：2022-05-09
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： HARTWIG, Robert , HUDERI SOMANNA, Dinkesh , WEST, Brian T.
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , C23C14/50 , C23C14/54
摘要： Methods and apparatus for processing a substrate are provided herein. For example, a cooling apparatus for use with a substrate support of a processing chamber comprises a heat exchanger, a manifold assembly comprising a first input configured to connect to an output of the heat exchanger, a second input configured to connect to a first coolant supply configured to supply a first coolant, a first output configured to connect to the substrate support of the processing chamber, and a second output configured to connect to an input of the heat exchanger, a gas input configured to connect to a second coolant supply that is configured to supply a second coolant that is different from the first coolant to the substrate support, a first three-way valve connected between the first output of the manifold assembly and the substrate support and connected between the gas input and the substrate support, and a controller configured to control supplying one of the first coolant or the second coolant during operation.

6. 发明申请

WO2022250824A1 APPARATUS FOR GENERATING MAGNETIC FIELDS DURING SEMICONDUCTOR PROCESSING 审中-公开
公开(公告)号：WO2022250824A1
公开(公告)日：2022-12-01
申请号：PCT/US2022/026291
申请日：2022-04-26
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： BANGALORE UMESH, Suhas , RIKER, Martin Lee
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/54 , C23C14/50 , C23C14/22 , H01J37/34
摘要： A plasma vapor deposition (PVD) chamber used for depositing material includes an apparatus for influencing ion trajectories during deposition in an edge region of a substrate. The apparatus includes a reflector assembly that surrounds a substrate support and is configured to reflect heat to the substrate during reflowing of material deposited on the substrate and a plurality of permanent magnets embedded in the reflector assembly that are configured to influence ion trajectories on the edge region of the substrate during deposition processes, the plurality of permanent magnets are spaced symmetrically around the reflector assembly.

7. 发明申请

WO2022240385A1 A METHOD FOR CALIBRATING OPTICAL COATING APPARATUSES 审中-公开
公开(公告)号：WO2022240385A1
公开(公告)日：2022-11-17
申请号：PCT/US2021/031520
申请日：2021-05-10
申请人： CARL ZEISS VISION INTERNATIONAL GMBH , CARL ZEISS VISION INC.
发明人： MURPHY, Daragh, John , ROLLINS, Jr., Don
IPC分类号： G02B1/10 , C23C14/54 , C23C14/547 , C23C16/52
摘要： The invention relates to a computer-implemented method (20) of generating data for calibrating optical coating apparatuses (12) configured to apply optical coatings to surfaces of substrates: the invention is characterized by comparing (26) the measured spectral data of a test optical coating applied by an optical coating apparatus to a surface of a substrate to target specification data for the test optical coating for the optical coating apparatus and determining (28) correction factors for the process parameters of the optical coating apparatus for correcting deviations to the target specification data for the optical coating apparatus based on the comparison of the measured spectral data and the target specification data.

8. 发明申请

WO2022232870A1 VAPOUR DEPOSITION PRODUCT AND METHOD THEREFOR 审中-公开
公开(公告)号：WO2022232870A1
公开(公告)日：2022-11-10
申请号：PCT/AU2022/050408
申请日：2022-05-02
申请人： SURVIVON LTD
发明人： HUSSEY, Thomas , LIN, Chih Lung , CHEN, Shih-Yang , SUTTI, Alessandra , WHITBY, Scott
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/02 , C23C14/08 , C23C14/24 , C23C14/34 , C23C16/02 , C23C16/40 , D06M10/04
摘要： A substrate with a film. The substrate with a film comprising a porous substrate. The porous substrate having one or more pores extending through the substrate. A film can be applied to the porous substrate. The film being a vapour deposited film formed from a metal vapour adhering to the surface of the substrate, and wherein the film comprises a metal and a metal oxide.

9. 发明申请

WO2022203320A1 패턴화된 유기 박막 증착 장치 및 이를 이용한 디스플레이 소자의 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2022203320A1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：PCT/KR2022/003925
申请日：2022-03-22
申请人： 주식회사 유니텍스
发明人： 이용의 , 이명기 , 구본용 , 김언정
IPC分类号： C23C14/22 , C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/54 , H01L51/00 , H01L51/56
摘要： 패턴화된 박막 증착 장치 및 이를 이용한 승화성 물질막의 형성 방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 박막 증착 장치는 승화성 물질막의 형성을 위한 소스 물질이 담겨지는 것으로 상기 소스 물질을 승화시켜 기상의 소스 물질을 발생시키는 소스 컨테이너, 상기 소스 컨테이너로부터 전달된 상기 기상의 소스 물질을 상기 승화성 물질막의 형성을 위해 주어진 영역으로 공급하기 위한 가스 주입 헤드, 상기 가스 주입 헤드에 대향 배치된 것으로 그 상면에 안착된 기판을 지지하는 서셉터(susceptor) 및 상기 가스 주입 헤드와 상기 서셉터에 안착된 상기 기판 사이에 배치되는 것으로 상기 기판에 형성되는 상기 승화성 물질막의 패턴을 정의하기 위한 개구 패턴을 갖는 소스 전달 채널 어레이를 포함할 수 있다.

10. 发明申请

WO2022197827A2 CHEMICALLY COMPLEX CERAMIC ABRADABLE SEALANT MATERIALS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022197827A2
公开(公告)日：2022-09-22
申请号：PCT/US2022/020587
申请日：2022-03-16
申请人： OERLIKON METCO (US) INC.
发明人： HARRINGTON, Tyler , LEE, Hwasoo , SHAROBEM, Timothy Tadros , SZYNDELMAN, Gregory
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/30 , C23C14/54 , F01D5/28 , C04B38/0074 , C04B41/00 , C23C4/11
摘要： A chemically complex oxide powder is provided that forms an abradable sealant coating for a turbine engine. Primary property advantages of the chemically complex oxide include low resistance to erosion and reduced wear on blades and labyrinth seal knife edges in a turbine engine. Secondary property advantages include improved thermal properties, excellent sintering resistance, excellent phase stability, and high resistance to chemical attack.

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