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1. 发明申请

WO2013171229A1 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY SYSTEM AND BEAM GENERATOR 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光刻系统和光束发生器
公开(公告)号：WO2013171229A1
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：PCT/EP2013/059963
申请日：2013-05-14
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , URBANUS, Willem Henk
IPC分类号： H01J37/30 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
摘要： The invention relates to a charged particle lithography system for exposing a target. The system includes a charged particle beam generator for generating a charged particle beam; an aperture array (6) for forming a plurality of beamlets from the charged particle beam; and a beamlet projector (12) for projecting the beamlets onto a surface of the target. The charged particle beam generator includes a charged particle source (3) for generating a diverging charged particle beam; a collimator system (5a,5b,5c,5d; 72;300) for refracting the diverging charged particle beam; and a cooling arrangement (203) for removing heat from the collimator system, the cooling arrangement comprising a body surrounding at least a portion of the collimator system.
摘要翻译：本发明涉及用于曝光目标物的带电粒子光刻系统。该系统包括用于产生带电粒子束的带电粒子束发生器; 用于从带电粒子束形成多个子束的孔径阵列（6）以及用于将子束投影到目标表面上的小射束投影仪（12）。带电粒子束发生器包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源（3）用于折射发散带电粒子束的准直器系统（5a，5b，5c，5d; 72; 300）以及用于从准直器系统去除热的冷却装置（203），所述冷却装置包括围绕准直器系统的至少一部分的主体。

2. 发明申请

WO2006070744A1 荷電粒子発生装置及び加速器审中-公开
标题翻译：充电颗粒发生器和加速器
公开(公告)号：WO2006070744A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/JP2005/023787
申请日：2005-12-26
申请人：国立大学法人京都工芸繊維大学 , 西野茂弘 , 小野了一
发明人：西野茂弘 , 小野了一
IPC分类号： H01J37/16 , G21K1/00 , H01J27/02 , H01J37/04 , H01J37/08 , H05H5/03
CPC分类号： H05H15/00 , H01J27/02 , H01J37/04 , H01J37/16 , H01J37/3171 , H01J2237/0262 , H01J2237/038 , H01J2237/04735 , H01J2237/08
摘要： A charged particle generator having a structure hardly causing electric discharge to the outside and an accelerator having such a charged particle generator and an acceleration tube. The charged particle generator (1) comprises a first box-shaped insulating member (4) having an opening at its top, a second box-shaped insulating member (5) placed in the first box-shaped insulating member (4) and having an opening at its top and a side wall (13) and a bottom portion (14) spaced predetermined distance from the outside adjacent side wall (10) and the bottom portion (9) of the first box-shaped insulating member (4), and an inverted box-shaped insulating member (7) having an opening at its bottom and a side wall (21) inserted in the space between the side walls (10, 13) of the first and second box-shaped insulating members (4, 5). Charged particles generated from a charged particle source (2) installed inside the second box-shaped insulating member (5) are made to emerge through emerging holes (11, 17) formed in the bottom portions (9, 14) of the first and second box-shaped insulating members (4, 5).
摘要翻译：具有几乎不向外部放电的结构的带电粒子发生器和具有这种带电粒子发生器的加速器和加速管。带电粒子发生器（1）包括在其顶部具有开口的第一盒形绝缘构件（4），放置在第一盒形绝缘构件（4）中的第二盒形绝缘构件（5）在其顶部开口，并且与第一盒状绝缘构件（4）的相邻侧壁（10）和底部（9）的外侧隔开预定距离的侧壁（13）和底部（14），以及在其底部具有开口的倒置的箱形绝缘构件（7）和插入第一和第二盒形绝缘构件（4,5）的侧壁（10,13）之间的空间中的侧壁（21））。通过安装在第二箱形绝缘构件（5）内部的带电粒子源（2）产生的带电粒子通过形成在第一和第二盒状绝缘构件（5）的底部（9,14）中的出射孔（11,17）盒形绝缘件（4,5）。

3. 发明申请

WO2014192379A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2014192379A1
公开(公告)日：2014-12-04
申请号：PCT/JP2014/057435
申请日：2014-03-19
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：藤田　真志 , 角田　正弘 , 小貫　勝則 , 相原　克哉 , 進藤　誠一 , 西森　隆晃
IPC分类号： H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/20 , H01L21/677 , H05K9/00
CPC分类号： H01J37/165 , H01J37/09 , H01J37/18 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/0266 , H01J2237/26 , H01L21/6719 , H01L21/67201
摘要：本発明は、真空バルブのような遮蔽部材の開放状態であっても、外部の電磁波の影響を抑制する荷電粒子線装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために、真空チャンバ（１１１）を備えた荷電粒子線装置において、前記真空チャンバは試料搬送経路を包囲する開口部（１０４）を有し、前記真空チャンバ（１１１）と、大気側に配置された導電部材（１０６）間を導通すると共に、前記開口部（１０４）を包囲する導電材（１１８）を備えた荷電粒子線装置を提案する。本発明によれば搬送経路を経由した試料室への電磁波（１１７）の到達を抑制することが可能となる。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种带电粒子束装置，使得即使当诸如真空阀的隔离构件处于打开状态时外部电磁波的影响也被抑制。为了实现该目的，提出了一种设置有真空室（111）的带电粒子束装置，其中真空室具有围绕样品传送路径的开口（104），并且配备有围绕着该物体的导电材料（118）用于在真空室（111）和设置在大气侧的导电构件（106）之间导通的开口（104）。本发明可以防止电磁波（117）通过输送路径到达样品室。

4. 发明申请

WO2011051301A1 CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM, MODULATION DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF 审中-公开
标题翻译：充电颗粒多波束光刻系统，调制装置及其制造方法
公开(公告)号：WO2011051301A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/066195
申请日：2010-10-26
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , WIELAND, Marco Jan-Jaco , POSTMA, Ferry Michael
发明人： WIELAND, Marco Jan-Jaco , POSTMA, Ferry Michael
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to a modulation device for use in a charged particle multi -beamlet lithography system. The device includes a body comprising an interconnect structure 100) provided with a plurality of modulators and interconnects at different levels within the interconnect structure for enabling connection of the modulators to one or more pattern data receiving elements. A modulator includes a first electrode (132), a second electrode (134), and an aperture (135) extending through the body. The electrodes are located on opposing sides of the aperture for generating an electric field across the aperture. At least one of the first electrode and the second electrode includes a first conductive element (110) formed at a first level of the interconnect structure and a second conductive element (110) formed at a second level of the interconnect structure. The first and second conductive elements are electrically connected with each other.
摘要翻译：本发明涉及一种用于带电粒子多光束光刻系统的调制装置。该装置包括具有在互连结构内的不同级别的多个调制器和互连的互连结构100）的主体，用于使调制器能够连接到一个或多个模式数据接收元件。调制器包括第一电极（132），第二电极（134）和延伸穿过本体的孔（135）。电极位于孔的相对侧上，以产生穿过孔的电场。第一电极和第二电极中的至少一个包括形成在互连结构的第一水平处的第一导电元件（110）和形成在互连结构的第二级处的第二导电元件（110）。第一和第二导电元件彼此电连接。

5. 发明申请

WO2013171214A1 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY SYSTEM AND BEAM GENERATOR 审中-公开
标题翻译：充电颗粒光刻系统和光束发生器
公开(公告)号：WO2013171214A1
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：PCT/EP2013/059945
申请日：2013-05-14
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
发明人： VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent
IPC分类号： H01J37/09 , H01J37/30 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
摘要： The present invention relates to a charged particle lithography system. The system has a beamlet generator including a beam generator for generating a charged particle beam and an aperture array (6) for forming a plurality of beamlets from the charged particle beam, and a beamlet projector for projecting the beamlets onto a target surface. The charged particle beam generator includes a charged particle source (3) for generating a diverging charged particle beam, a collimator system (5a, 5b, 5c), one or more pumps (220), a high voltage shielding arrangement (201) for shielding components outside the high voltage shielding arrangement from high voltages within the high voltage shielding arrangement, and a cooling arrangement (203, 204) for removing heat. The one or more pumps are located between the high voltage shielding arrangement and the cooling arrangement.
摘要翻译：本发明涉及带电粒子光刻系统。该系统具有一个子束发生器，其包括用于产生带电粒子束的束发生器和用于从带电粒子束形成多个子束的孔径阵列（6），以及用于将子束投影到目标表面上的小射线投影仪。带电粒子束发生器包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源（3），准直器系统（5a，5b，5c），一个或多个泵（220），用于屏蔽的高压屏蔽装置（201）在高压屏蔽装置外部的高电压屏蔽装置之外的部件与高电压屏蔽装置内的高电压，以及用于去除热量的冷却装置（203,204）。一个或多个泵位于高压屏蔽装置和冷却装置之间。

6. 发明申请

WO2011051304A1 MODULATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：使用该方法的调制装置和充电颗粒多波束光刻系统
公开(公告)号：WO2011051304A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/066198
申请日：2010-10-26
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
发明人： WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to a charged-particle multi -beamlet lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target using a plurality of charged particle beamlets. The system includes a beam generator (3), a beamlet blanker array (9), a shielding structure (111) and a projection system. The beam generator is arranged for generating a plurality of charged particle beamlets. The beamlet blanker array is arranged for patterning the plurality of beamlets in accordance with a pattern. The beamlet blanker array comprises a plurality of modulators (101) and a plurality of light sensitive elements (107), a light sensitive element being arranged to receive pattern data carrying light beams and to convert the light beams into electrical signals. The light sensitive elements are electrically connected to one or more modulators for providing the received pattern data. The shielding structure (111) is of an electrically conductive material for substantially shielding electric fields generated in proximity of the light sensitive elements from the modulators, wherein the shielding structure is arranged to be set at a predetermined potential. The projection system is arranged for projecting the patterned beamlets onto the target surface.
摘要翻译：本发明涉及使用多个带电粒子子束将图案转印到靶表面上的带电粒子多光束光刻系统。该系统包括光束发生器（3），子束消隐器阵列（9），屏蔽结构（111）和投影系统。光束发生器布置成用于产生多个带电粒子子束。子束消隐器阵列被布置成根据图案图案化多个子束。子束消隐器阵列包括多个调制器（101）和多个光敏元件（107），光敏元件布置成接收携带光束的图案数据并将光束转换成电信号。光敏元件电连接到一个或多个调制器以提供接收到的图案数据。屏蔽结构（111）是导电材料，用于基本上屏蔽来自调制器的光敏元件附近产生的电场，其中屏蔽结构被设置成预定电位。投影系统布置成将图案化的子束投影到目标表面上。

7. 发明申请

WO2014184881A1 試料ホルダ及びそれを備えた集束イオンビーム加工装置审中-公开
标题翻译：样品保持器和聚焦离子束加工设备
公开(公告)号：WO2014184881A1
公开(公告)日：2014-11-20
申请号：PCT/JP2013/063458
申请日：2013-05-14
申请人：株式会社日立製作所
发明人：李　憲之 , 山本　浩之 , 菅原　昭
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3056 , H01J37/317 , H01J2237/0262 , H01J2237/045 , H01J2237/12 , H01J2237/151 , H01J2237/206 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要：　広い面積で膜厚の均一な薄片試料や、先端の鋭利な針状試料を加工できる集束イオンビーム加工装置を実現するために、イオン源（１）と、イオン源（１）から引き出されたイオンビーム（２）を集束して試料（５）に照射する電子レンズ（３）と、試料（５）を保持する試料ホルダ（１３）とを備えた集束イオンビーム加工装置において、試料ホルダ（１３）に、試料（５）を覆うように配置されるシールド電極（７）を設けるとともに、試料（５）とシールド電極（７）を、それぞれ個別に電圧を印加できるように互いに絶縁する。
摘要翻译：为了实现能够加工表面积大且厚度均匀的薄样品或具有尖锐尖端的针状样品的聚焦离子束加工装置，在该聚焦离子束加工装置中设置有离子源（1），将离子束（2）从所述离子源（1）聚焦到样品（5）上的电子透镜（3）和保持所述样品（5）的样品保持器（13）），所述样品保持器（13）设置有屏蔽电极（7），所述屏蔽电极（7）布置成覆盖样品（5）并且与其绝缘，使得可以向样品施加电压（5）和屏蔽电极（7）。

8. 发明申请

WO2013149444A1 一种纳米图型化系统及其磁场施加装置审中-公开
公开(公告)号：WO2013149444A1
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：PCT/CN2012/078751
申请日：2012-07-17
申请人：中国科学院物理研究所 , 于国强 , 郭鹏 , 韩秀峰 , 郭朝晖 , 孙晓玉 , 周向前
发明人：于国强 , 郭鹏 , 韩秀峰 , 郭朝晖 , 孙晓玉 , 周向前
IPC分类号： G03F7/20 , G01R31/00
CPC分类号： H01J37/09 , G01R33/093 , G01R33/096 , H01F7/202 , H01F7/204 , H01F41/00 , H01J37/141 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/28 , H01J2237/31754 , H01L43/12
摘要：一种纳米图形化系统，包括真空腔（1）、样品台（2）和磁场施加装置（3）。磁场施加装置（3）包括电源（31）、磁场产生装置（32）和一对磁极（33）。磁场产生装置（32）包括线圈（321）和导磁软铁芯（322）。电源（31）与线圈（321）连接，线圈（321）缠绕在导磁软铁芯（322）上以产生磁场。导磁软铁芯（322）为半闭合框形结构，磁极（33）分别安装在半闭合框形结构的两末端。纳米图形化系统的真空腔（1）内设置有样品台（2）。磁极（33）相对于样品台（2）设置在真空腔（1）内，线圈（321）和导磁软铁芯（322）设置在真空腔（1）外。导磁软铁芯（322）将线圈（321）产生的磁场引导进入真空腔（1）内。磁极（33）用以对样品台（2）上的样品（4）进行定位以及局域磁场的施加。

9. 发明申请

WO2011051305A1 CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM, WITH MODULATION DEVICE 审中-公开
标题翻译：充电颗粒多波束平移系统，带调制装置
公开(公告)号：WO2011051305A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/066199
申请日：2010-10-26
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
发明人： WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： A charged particle lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target. The system comprises a beam generator (3) for generating a plurality of charged particle beamlets, the plurality of beamlets defining a column, a beam stop array (10) having a surface for blocking beamlets from reaching the target surface and an array of apertures in the surface for allowing the beamlets to reach the target surface, and a modulation (9) device for modulating the beamlets to prevent one or more of the beamlets from reaching the target surface or allow one or more of the beamlets to reach the target surface, by deflecting or not deflecting the beamlets so that the beamlets are blocked or not blocked by the beam stop array. The modulation device comprises a plurality of apertures arranged in arrays for letting the beamlets pass through the modulation device, a plurality of modulators (30) arranged in arrays, each modulator provided with electrodes (32, 34) extending on opposing sides of an aperture for generating a voltage difference across the aperture, and a plurality of light sensitive elements (40) arranged in arrays, for receiving modulated light beams and converting the light beams into electric signals for actuating the modulators, wherein the light sensitive elements are located within the column, wherein the modulation device is subdivided into a plurality of alternating beam areas (51) and non-beam areas (52), the arrays of modulators are located in the beam areas, and the arrays of light sensitive elements are located in the non-beam areas and are in communication with the modulators in an adjacent beam area.
摘要翻译：一种用于将图案转印到目标表面上的带电粒子光刻系统。该系统包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器（3），所述多个子束限定列，具有用于阻挡子束到达目标表面的表面的射束停止阵列（10）用于允许子束到达目标表面的表面;以及用于调制子束以防止一个或多个子束到达目标表面或允许一个或多个子束到达目标表面的调制（9）装置，通过偏转或不偏转子束，使得子束被阻挡或不被阻挡阵列阻挡。调制装置包括排列成阵列的多个孔，用于使子束通过调制装置，排列成阵列的多个调制器（30），每个调制器设置有在孔的相对侧上延伸的电极（32,34）产生穿过该孔的电压差以及排列成阵列的多个光敏元件（40），用于接收调制的光束并将光束转换成用于致动调制器的电信号，其中光敏元件位于列内，其中所述调制装置被细分为多个交替光束区域（51）和非光束区域（52），所述调制器阵列位于所述光束区域中，并且所述光敏元件阵列位于所述非光束区域中，并且与相邻波束区域中的调制器通信。

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