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1. 发明申请

WO2016188485A1 能量叠加物质改性平台及其改性方法审中-公开
公开(公告)号：WO2016188485A1
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：PCT/CN2016/083705
申请日：2016-05-27
申请人：官爱平
发明人：官爱平
IPC分类号： G21K5/00
CPC分类号： G21K5/10 , G10K11/24 , G21F3/00 , G21K5/00 , H01F13/00
摘要：一种能量叠加物质改性平台及其改性方法，能量叠加物质改性平台包括屏蔽体(10A, 10B)，及设于屏蔽体(10A, 10B)内的放射源(30A, 30B)和被改性物质管道(20A, 20B, 20C)，被改性物质管道(20A, 20B, 20C)设有被改性物质入口和被改性物质出口；被加工的被改性物质经过所述的被改性物质管道(20A, 20B, 20C)接受放射源(30A, 30B)的辐射；放射源(30A, 30B)为放射性核素或射线装置；被改性物质为块状固体或颗粒状固体。该能量叠加物质改性平台采用屏蔽体结构，将需要改性物质经过位于屏蔽体(10A, 10B)内的被改性物质管道(20A, 20B, 20C)，并经由位于屏蔽体(10A, 10B)内的放射源(30A, 30B)的照射，实现能量转移，达到改善被改性物质的物理性能的作用，包括促使燃油完全燃烧、提高固体物质溶解度等。

2. 发明申请

WO2016070940A1 APPARATUS AND METHOD FOR TREATMENT OF FLEXIBLE SUBSTRATES HAVING A LARGE WIDTH USING AN ELECTRON BEAM 审中-公开
标题翻译：用于处理使用电子束的大幅宽度的柔性基板的装置和方法
公开(公告)号：WO2016070940A1
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：PCT/EP2014/074087
申请日：2014-11-07
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , KLEMM, Günter , HACKER, Volker , TRASSL, Roland
发明人： KLEMM, Günter , HACKER, Volker , TRASSL, Roland
IPC分类号： H01J3/02 , H01J37/077 , G21K5/10
CPC分类号： H01J3/025 , G21K5/04 , G21K5/10 , H01J37/077
摘要： According to the present disclosure, a charged particle device for treatment of a substrate and method for increasing the extraction efficiency of a charged particle device are provided. The charged particle device includes: a housing providing a first electrode, the housing having a back wall and a front wall; a slit opening in the housing; and a second electrode being arranged within the housing and having a first side facing the slit opening. The second electrode includes one or more beam shaping extension that protrude from the second electrode in a direction towards the front wall of the housing for guiding the charged particle beam through the slit opening.
摘要翻译：根据本公开，提供了一种用于处理基板的带电粒子装置和用于提高带电粒子装置的提取效率的方法。所述带电粒子装置包括：提供第一电极的壳体，所述壳体具有后壁和前壁; 壳体中的狭缝开口; 并且第二电极布置在壳体内并且具有面向狭缝开口的第一侧。第二电极包括一个或多个光束成形延伸部，其沿着朝向壳体的前壁的方向从第二电极突出，用于引导带电粒子束穿过狭缝开口。

3. 发明申请

WO2013099941A1 光照射装置および印刷装置审中-公开
标题翻译：光照射装置和印刷装置
公开(公告)号：WO2013099941A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/JP2012/083648
申请日：2012-12-26
申请人：京セラ株式会社
发明人：内田　信也
IPC分类号： B01J19/12 , B29C35/08 , B41J2/01
CPC分类号： G21K5/02 , B29C71/04 , B29C2035/0827 , B29C2035/0833 , B41F23/04 , B41F23/0409 , B41F23/0453 , B41J2/01 , B41J11/002 , G21K5/10
摘要：　本発明の光照射装置は、相対的に一方向に移動する対象物に対して紫外線を含む光を照射する光照射装置であって、基体の一方主面に発光素子が配置された光照射デバイスと、対象物が光照射面を上にして入口から内部空間を一方向に出口へと移動するとともに、内部空間の上方に光照射デバイスが配置された光照射室とを備える。
摘要翻译：本发明的光照射装置以相对的方式将包含UV光的光照射到单个方向上移动的物体上，该光照射装置包括：发光元件设置在主体上的光照射装置基板平面; 以及光照射室，其中物体从入口沿着单个方向通过内部空间移动，并且朝向光照射平面面向上的出射，并且光照射装置设置在内部空间的上方。

4. 发明申请

WO2012134600A1 IMPROVED UNIFORMITY OF A SCANNED ION BEAM 审中-公开
标题翻译：改善扫描离子束的均匀性
公开(公告)号：WO2012134600A1
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/US2012/000178
申请日：2012-03-29
申请人： AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. , EISNER, Edward , RAY, Andy , VANDERBERG, Bo
发明人： EISNER, Edward , RAY, Andy , VANDERBERG, Bo
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , G21K5/02 , G21K5/04 , G21K5/10 , H01J37/302 , H01J2237/30483
摘要： One embodiment relates to an ion implanter. The ion implanter includes an ion source to generate an ion beam, as well as a scanner to scan the ion beam across a surface of a workpiece along a first axis. The ion implanter also includes a deflection filter downstream of the scanner to ditheredly scan the ion beam across the surface of the workpiece along a second axis.
摘要翻译：一个实施例涉及一种离子注入机。离子注入机包括用于产生离子束的离子源以及沿着第一轴沿着工件的表面扫描离子束的扫描仪。离子注入机还包括在扫描器下游的偏转滤波器，以沿着第二轴度将离子束沿工件的表面抖动扫描。

5. 发明申请

WO2012029492A1 中性子線照射システム审中-公开
标题翻译： NEUTRON BEAM IRRADIATION系统
公开(公告)号：WO2012029492A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/JP2011/067795
申请日：2011-08-03
申请人：住友重機械工業株式会社 , 密本俊典
发明人：密本　俊典
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/00 , G21K5/00 , G21K5/02 , H05H3/06 , H05H6/00 , H05H13/00
CPC分类号： H05H3/06 , A61N5/10 , A61N5/1069 , A61N5/1078 , A61N2005/109 , A61N2005/1095 , G21K5/04 , G21K5/08 , G21K5/10 , H05H2006/007 , H05H2277/11
摘要：　被照射体へ中性子線を照射する中性子線照射システムであって、荷電粒子線が照射されて中性子線を発生させる中性子線発生部と、減速体を少なくとも含み、中性子線発生部を収容する収容部と、被照射体へ照射する中性子線を収束させる中性子線収束部と、被照射体を載置する載置台と、中性子線発生部、収容部及び中性子線収束部に対して載置台を接近及び離間するように相対移動させる相対移動手段と、を備えている。
摘要翻译：用中子束照射被照射物体的中子束照射系统包括：中子束产生部，其通过照射带电粒子束来产生中子束; 壳体部分，其至少包括主体并容纳中子束产生部分; 中子束会聚部分，其会聚照射对象被照射的中子束; 安装照射对象的安装台; 并且相对运动意味着相对移动安装台更接近和远离中子束产生部分，壳体部分和中子束会聚部分。

6. 发明申请

WO2012006168A1 HANDLING BEAM GLITCHES DURING ION IMPLANTATION OF WORKPIECES 审中-公开
标题翻译：在离子植入工作期间处理光束玻璃
公开(公告)号：WO2012006168A1
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：PCT/US2011/042397
申请日：2011-06-29
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , LOW, Russell, J. , GUPTA, Atul , WEAVER, William, T.
发明人： LOW, Russell, J. , GUPTA, Atul , WEAVER, William, T.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/304 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/20 , G21K5/10 , H01J37/304 , H01J37/3045 , H01J37/3171 , H01J2237/20285 , H01J2237/31703 , H01L31/18 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要： Glitches during ion implantation of a workpiece, such as a solar cell, can be compensated for. In one instance, a workpiece is implanted during a first pass at a First speed. This first pass results in a region of uneven dose in the workpiece. The workpiece is then implanted during a second pass at a second speed. This second speed is different from the first speed. The second speed may correspond to the entire workpiece or just the region of uneven dose in the workpiece.
摘要翻译：可以补偿工件（例如太阳能电池）的离子注入期间的毛刺。在一种情况下，在第一速度的第一次通过期间植入工件。该第一次通过导致工件中不均匀剂量的区域。然后在第二次通过期间以第二速度植入工件。第二速度与第一速度不同。第二速度可以对应于整个工件或者对应于工件中不均匀剂量的区域。

7. 发明申请

WO2011160915A1 PARTICLE BEAM GENERATING DEVICE 审中-公开
标题翻译：颗粒光束发生装置
公开(公告)号：WO2011160915A1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：PCT/EP2011/058621
申请日：2011-05-26
申请人： GSI HELMHOLTZZENTRUM FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG GMBH , KRAFT, Gerhard , SAITO, Nami , SCHARDT, Dieter
发明人： KRAFT, Gerhard , SAITO, Nami , SCHARDT, Dieter
IPC分类号： G21K5/00 , A61N5/10
CPC分类号： G21K5/10 , A61B6/00 , A61N5/1043 , A61N5/1049 , A61N5/1077 , A61N2005/1054 , A61N2005/1087 , G21K5/02 , G21K5/04
摘要： The present invention relates to a particle beam generating device (1), comprising an accelerator unit (3, 8, 10) for generating two particle beams (12, 13) and an emission unit (20) for the output of these two particle beams (12, 13) onto a workpiece (15). The two particle beams (12, 13) are of a different type. The present invention relates further to a method for controlling a particle beam generating device.
摘要翻译：本发明涉及一种粒子束产生装置（1），其包括用于产生两个粒子束（12,13）的加速器单元（3,8,10）和用于输出这两个粒子束的发射单元（20）（12,13）到工件（15）上。两个粒子束（12,13）是不同类型的。本发明还涉及一种用于控制粒子束产生装置的方法。

8. 发明申请

WO2010104820A3 ELECTRON BEAM WEB IRRADIATION APPARATUS AND PROCESS 审中-公开
标题翻译：电子束网络辐射设备和工艺
公开(公告)号：WO2010104820A3
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：PCT/US2010026607
申请日：2010-03-09
申请人： PCT ENGINEERED SYSTEMS LLC , DRENTER JOHN
发明人： DRENTER JOHN
IPC分类号： D06M10/00
CPC分类号： D06M10/005 , G21K5/10
摘要： The present disclosure includes an electron beam emitter, a roller for a web, circumferential radiation shielding, a reaction chamber, movement between open and closes positions, a depositor, baffles, inert gas dispenser, and other features. One example in the present disclosure is a web carrying roller for electron beam irradiation of the web on one side of that roller within a baffle-containing shielded area, while another side of that roller is outside of the shielded area, and near the two ends of the roller are arcuate tongue and groove barriers to x-radiation leakage from the shielded area. The baffle-containing shielded area has a series of voids separated by walls, rather than having the shielded area positioned close to the circumference of the cylinder along its length.
摘要翻译：本公开包括电子束发射器，用于幅材的辊，周向辐射屏蔽，反应室，打开和关闭位置之间的运动，沉积器，挡板，惰性气体分配器和其它特征。本公开的一个示例是用于在包含挡板的屏蔽区域内的该辊的一侧上的网的电子束照射的卷筒纸承载辊，而该辊的另一侧在屏蔽区域的外侧，并且在两端附近的辊子是弧形的舌形和沟槽屏障，从屏蔽区域的x辐射泄漏。带挡板的屏蔽区域具有一系列由壁分隔开的空隙，而不是使屏蔽区域沿其长度定位成靠近圆柱体的圆周。

9. 发明申请

WO2008081480A1 ION ACCELERATION SYSTEM FOR MEDICAL AND/OR OTHER APPLICATIONS 审中-公开
标题翻译：用于医疗和/或其他应用的离子加速系统
公开(公告)号：WO2008081480A1
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：PCT/IT2006/000879
申请日：2006-12-28
申请人： FONDAZIONE PER ADROTERAPIA ONCOLOGICA - TERA , AMALDI, Ugo , BRACCINI, Saverio , MAGRIN, Giulio , PEARCE, Peter , ZENNARO, Riccardo
发明人： AMALDI, Ugo , BRACCINI, Saverio , MAGRIN, Giulio , PEARCE, Peter , ZENNARO, Riccardo
IPC分类号： H05H7/22 , H05H9/00 , A61N5/01
CPC分类号： H05H9/00 , A61N5/10 , A61N5/1081 , A61N2005/1087 , G21K5/04 , G21K5/10 , H05H7/22
摘要： The ion acceleration system or complex (T) for medical and/or other applications is composed in essence by an ion source (1), a pre-accelerator (3) and one or more linear accelerators or linacs (6, 8, 10, 13), at least one of which is mounted on a rotating mechanical gantry-like structure (17). Said isocentrical gantry (17) is equipped with a beam delivery system, which can be either 'active' or 'passive', for medical and/or other applications. The ion source (1) and the pre-accelerator (3) can be either installed on the floor, which is connected with the gantry basement, or mounted, fully or partially, on the rotating mechanical structure (17). The output beam can vary in energy and intensity pulse-by-pulse by adjusting the radio-frequency field in the accelerating modules of the linac(s) and the beam parameters at the input of the linear accelerators.
摘要翻译：用于医疗和/或其他应用的离子加速系统或复合物（T）本质上由离子源（1），预加速器（3）和一个或多个线性加速器或直线加速器（6,8,10， 13），其中至少一个安装在旋转的机械机架式结构（17）上。所述异体龙门架（17）配备有可用于医疗和/或其他应用的“活动”或“被动”的射束输送系统。离子源（1）和预加速器（3）可以安装在与龙门架基座连接的地板上，或者完全或部分地安装在旋转的机械结构（17）上。输出光束可以通过调整线性加速器的加速模块中的射频场和线性加速器的输入端的波束参数逐脉冲地变化。

10. 发明申请

WO2008026648A1 回転照射治療装置审中-公开
标题翻译：旋转辐射治疗装置
公开(公告)号：WO2008026648A1
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：PCT/JP2007/066791
申请日：2007-08-29
申请人：株式会社日立製作所 , 竹田憲生 , 金子滋司 , 山下勉 , 嵯峨博
发明人：竹田憲生 , 金子滋司 , 山下勉 , 嵯峨博
IPC分类号： A61N5/01 , G21K1/093 , G21K5/04 , G21K5/10
CPC分类号： G21K5/10 , A61N5/10 , A61N5/1081 , A61N2005/1087
摘要：　粒子線治療に使われる回転照射装置を軽量かつ、照射される荷電粒子ビームの位置精度を高くすることを目的とする。本発明による回転照射治療装置は、荷電粒子ビームの照射装置（８）、及び照射装置（８）に荷電粒子ビームを導くビーム輸送装置（９，１０）が取り付けられた回転可能な回転ガントリー（１）と、回転ガントリー１に含まれた環状部材と接触して回転ガントリー（１）を支持する回転自在なローラ（１２）を有し、回転ガントリー（１）の軸方向の一端部で回転体支持装置（１６）のローラ（１２）と接触するフロントリング（３）と、回転ガントリー（１）の軸方向の他端部で回転体支持装置１６のローラ１２と接触するリアリング（４）と、フロントリング３とリアリング（４）の間で、回転ガントリー（１）の軸方向の異なる位置に少なくとも１個、回転体支持装置（１６）のローラ（１２）と接触する中間リング（５）を備える。
摘要翻译：用于粒子束治疗的旋转照射装置具有重量轻并且具有高的施加的带电粒子束的位置精度。旋转照射治疗装置包括可旋转并配备有带电粒子束照射器（8）的旋转台架（1）和用于将带电粒子束引导到辐照器（8）的光束传送装置（9,10）和可旋转辊 12）与包括在旋转机架（1）中的环形构件接触并支撑旋转机架（1）。旋转照射装置还包括在旋转机架（1）的轴向的一端与旋转体支撑装置（16）的辊（12）接触设置的前环（3），后环（4））在所述旋转机架（1）的轴向的另一端与所述旋转体支撑装置（16）的辊（12）接触。至少一个中间环（5），设置在所述前环和后环（3,4）之间的与所述旋转机架（1）的轴向不同的位置并与所述旋转体支撑装置的辊（12）接触（16）。

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