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1. 发明申请

WO2009018911A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, PROJECTION EXPOSURE METHOD AND OPTICAL CORRECTION PLATE 审中-公开
标题翻译：投影曝光法，投影曝光法和光学校正板投影目标
公开(公告)号：WO2009018911A1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：PCT/EP2008/005898
申请日：2008-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LÖRING, Ulrich , REISINGER, Gerd , STICKEL, Franz-Josef , SCHNEIDER, Sonja , TRENKLER, Johann , KRAUS, Stefan , DÖRING, Gordon , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： LÖRING, Ulrich , REISINGER, Gerd , STICKEL, Franz-Josef , SCHNEIDER, Sonja , TRENKLER, Johann , KRAUS, Stefan , DÖRING, Gordon , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/62 , G03F7/70308 , Y10T428/24612
摘要： A projection objective comprising a plurality of optical elements arranged to image a pattern from an object field in an object surface of the projection objective to an image field in an image surface of the projection objective with electromagnetic operating radiation from a wavelength band around an operating wavelength λ includes an optical correction plate. The optical correction plate has a body made from a material transparent to the operating radiation, the body having a first optical surface, a second optical surface, a plate normal substantially perpendicular to the first and second optical surface, and a thickness profile. The first surface profile and the second surface profile are similar in that the first optical surface has a non-rotationally symmetric aspheric first surface profile with a first peak-to-valley value PV1>λ; the second optical surface has a non-rotationally symmetric aspheric second surface profile with a second peak-to-valley value PV2>λ; and the plate thickness varies by less than 0.1 * (PV1+PV2V2 across the optica! correction piate. The first and second optical surface in combination may induce or correct for a dominant field aberration if the optical correction plate is installed at a position far from the object plane of the projection objective.
摘要翻译：一种投影物镜，包括多个光学元件，所述多个光学元件被布置成将来自所述投影物镜的物体表面中的物体的图案成像到所述投影物镜的图像表面中的图像场，所述投影物镜具有围绕工作波长的波长带的电磁操作辐射？包括光学校正板。光学校正板具有由对工作辐射透明的材料制成的主体，该主体具有第一光学表面，第二光学表面，基本上垂直于第一和第二光学表面的板法线以及厚度轮廓。第一表面轮廓和第二表面轮廓类似于第一光学表面具有第一峰谷值PV1>β的非旋转对称非球面第一表面轮廓; 第二光学表面具有非旋转对称的非球面第二表面轮廓，具有第二峰谷值PV2>θ; 并且板厚度变化小于0.1 *（PV1 + PV2V2跨越光学校正片）。如果光学校正板安装在远离的位置，则组合的第一和第二光学表面可以诱导或校正主要的像差投影物镜的物平面。

2. 发明申请

WO2009071421A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BEARBEITUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN MITTELS LASERABLATION 审中-公开
标题翻译：设备和方法处理光学元件的激光烧蚀
公开(公告)号：WO2009071421A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：PCT/EP2008/065266
申请日：2008-11-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FREIMANN, Rolf , STICKEL, Franz-Josef , ZIMMER, Klaus , BÖHME, Rico
发明人： FREIMANN, Rolf , STICKEL, Franz-Josef , ZIMMER, Klaus , BÖHME, Rico
IPC分类号： B23K26/36 , B23K26/40
CPC分类号： B23K26/364 , B23K26/40 , B23K2203/50
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft Verfahren und Vorrichtungen zur Bearbeitung von optischen Elementen sowie derartige optische Elemente, wobei in der Vorrichtung eine Werkstückhalterung zur Aufnahme des zu bearbeitenden Werkstücks (1) und ein Bearbeitungslaser (4) zur Bereitstellung des für die Bearbeitung erforderlichen Bearbeitungslaserlichts sowie eine Dampferzeugungseinrichtung und/oder eine Einrichtung zur Metallbeschichtung vorgesehen sind, mit welcher vor der zu bearbeitenden Oberfläche des optischen Elements eine Dampfphase mit einem Abtragungsmittel erzeugt werden kann und/oder eine Metallschicht auf dem optischen Element abgeschieden werden kann. Weiterhin kann eine Erfassungseinrichtung zur Erfassung der zu bearbeitenden Oberfläche vorgesehen sein, wobei die Erfassungseinrichtung (8, 80, 180) so im Bezug zur zu bearbeitenden Oberfläche (2, 402) angeordnet ist, dass die Topographie der zu bearbeitenden Oberflächen während der Bearbeitung oder unmittelbar zwischen Bearbeitungsschritten ermittelbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于加工的光学元件和这样的光学元件，其中，在所述设备包括用于保持所述工件的工件夹持器的方法和装置被加工（1）和一个加工激光器（4），用于提供必要的用于处理加工用激光，和一个蒸汽发生装置，和或用于金属涂层的设备都是/设置有所述光学元件的被加工前的表面，可以用去除装置和/或可被沉积在光学元件上的金属层中产生的蒸气相。此外，检测装置可以被设置用于检测表面被处理，其中，待加工的检测装置（8，80，180），以便相对于所述表面（2，402）被布置成使得待加工期间立即加工的表面的形貌或可以在处理步骤之间来确定。

3. 发明申请

WO2005033800A1 LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM SOLCHEN LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光刻镜头和投影曝光系统与至少一个该光刻镜头
公开(公告)号：WO2005033800A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/007753
申请日：2004-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70241
摘要： Ein optisches Abbildungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines in einer Objekt-ebene des Abbildungssystems angeordneten Objektfeldes in ein in einer Bildebene des Abbildungssystems angeordnetes Bildfeld. Es kann sich insbesondere um ein Projektionsobjektiv oder um ein im Beleuchtungs-system einzusetzendes Relais-Objektiv handeln. Das Abbildungssystem hat eine Vielzahl von Linsen, die zwischen der Objektebene und der Bildebene angeordnet sind und jeweils eine erste Linsenfläche und eine zweite Linsenfläche aufweisen. Mindestens eine der Linsen ist eine Doppelasphärenlinse, bei der die erste Linsenfläche und die zweite Lin-senfläche eine asphärische Fläche ist. Bei Doppelasphärenlinsen ist es möglich, mit vertretbarem Aufwand bei der Oberflächenbearbeitung und Prüfung der Linsenoberflächen Linsen mit guter Qualität herzustellen, die die Wirkung einer Asphäre mit sehr starker Deformation haben.
摘要翻译：一种用于微光刻投射曝光设备的成像光学系统被用于成像放置在成像系统的物平面中布置在所述成像系统的图像场的图像平面中的物场的对象。它可以是在特定的投影透镜或在照明系统中继透镜被分配。该成像系统具有多个被布置在物平面和像平面，并且每个具有第一透镜表面和第二透镜表面之间的透镜。至少所述透镜中的一个是一个Doppelasphärenlinse，其中，所述第一透镜表面和第二透镜表面是非球面表面。在Doppelasphärenlinsen它可以使在表面处理和透镜的测试以合理的成本与具有非球面表面的具有非常强的变形的效果良好的品质的透镜面。

4. 发明申请

WO2012159880A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT 审中-公开
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：WO2012159880A1
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：PCT/EP2012/058484
申请日：2012-05-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , STÜTZLE, Ralf , BIELING, Stig , STICKEL, Franz-Josef
发明人： STÜTZLE, Ralf , BIELING, Stig , STICKEL, Franz-Josef
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075
摘要： The invention relates to an illumination optical unit for EUV microlithography comprising a first optical element having a plurality of first reflective facet elements. Furthermore, the illumination optical unit comprises a second optical element (421) having a plurality of second reflective facet elements (423), wherein the plurality of first reflective facet elements comprises at least 75% of all the reflective facet elements of the first optical element. In this case, each first reflective facet element of the plurality of first reflective facet elements is embodied in such a way that, during the operation of the illumination optical unit, it generates an illuminated region at the location of an assigned second facet element of the plurality of second reflective facet elements. The second reflective facet elements (423) each have a reflective surface and the illuminated regions are in each case smaller than the reflective surface of the assigned second reflective facet element (423). In addition, all of said illuminated regions lie within a maximum of six continuous pairwise disjoint zones (459). Furthermore, there is a circle (457) having a minimum diameter which encloses all of said zones (459), wherein the first and/or second reflective facet elements are embodied in such a way that the ratio of the area content of the circle (457) to the sum of the area contents of the zones (459) is greater than 2.5, in particular greater than 4.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV微光刻的照明光学单元，其包括具有多个第一反射小面元件的第一光学元件。此外，照明光学单元包括具有多个第二反射小面元件（423）的第二光学元件（421），其中多个第一反射小面元件包括第一光学元件的所有反射小面元件的至少75％。在这种情况下，多个第一反射小面元件中的每个第一反射小面元件被实施为使得在照明光学单元的操作期间，其在所分配的第二小面元件的位置处产生照明区域多个第二反射小面元件。第二反射小面元件（423）各自具有反射表面，并且所述照明区域在每种情况下都小于所分配的第二反射小面元件（423）的反射表面。另外，所有所述照明区域都在最多六个连续成对的不相交区域内（459）。此外，存在具有包围所有所述区域（459）的最小直径的圆（457），其中第一和/或第二反射小面元件以如下方式实施：圆的面积含量 457）与区域（459）的面积内容之和大于2.5，特别大于4。

5. 发明申请

WO2012013751A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013751A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/063002
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light. The lens further comprises support means for passively or actively supporting at least one optical element which is controlled to a temperature by a first tempering means. The support means comprising a temperature sensitive element, wherein the temperature sensitive element is controlled to a constant or to a predefined temperature by a second tempering element which is arranged between the temperature sensitive element and the first tempering element.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV灯的曝光强度。透镜还包括用于被动或主动地支撑由第一回火装置控制到温度的至少一个光学元件的支撑装置。所述支撑装置包括温度敏感元件，其中所述温度敏感元件通过布置在所述温度敏感元件和所述第一回火元件之间的第二回火元件被控制到恒定或预定温度。

6. 发明申请

WO2019052705A1 VERFAHREN ZUM BEARBEITEN EINES WERKSTÜCKS BEI DER HERSTELLUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2019052705A1
公开(公告)日：2019-03-21
申请号：PCT/EP2018/067910
申请日：2018-07-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WOLPERT, Andreas , STICKEL, Franz-Josef
发明人： WOLPERT, Andreas , STICKEL, Franz-Josef
IPC分类号： B29D11/00
CPC分类号： B29D11/00932 , B24B7/24 , B24B13/00 , B29D11/00 , B29D11/00596 , G02B5/08 , G03F7/7015 , G03F7/70316
摘要： Ein Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks bei der Herstellung eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, wobei das Verfahren wenigstens einen Bearbeitungsprozess umfasst, bei welchem eine Relativbewegung zwischen dem Werkstück (110, 210) und einem Werkzeug erfolgt, während der das Werkzeug zeitweise über einen über die zu bearbeitende Werkstückoberfläche hinausragenden Überlaufabschnitt geführt wird, wobei der Überlaufabschnitt dadurch gebildet wird, dass ein an die zu bearbeitende Werkstückoberfläche angrenzender Bereich mit einem in flüssigem Zustand befindlichen Füllstoff (120, 220) gefüllt wird, wobei dieser Füllstoff (120, 220) vor Durchführung des Bearbeitungsprozesses an dem Werkstück (110, 210) ausgehärtet wird, wobei der Füllstoff (120, 220) nach Durchführung des Bearbeitungsprozesses entfernt wird, und wobei das Entfernen des Füllstoffs (120, 220) unter Erwärmung und/oder Zufuhr eines Lösungsmittels erfolgt.

7. 发明申请

WO2016113117A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS FÜR EIN OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：法用于制造光学元件，用于光学系统尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2016113117A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/EP2015/081434
申请日：2015-12-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HILD, Kerstin , STICKEL, Franz-Josef , FICHTL, Robert , HARTJES, Joachim
发明人： HILD, Kerstin , STICKEL, Franz-Josef , FICHTL, Robert , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70266 , G02B26/06 , G02B27/0068 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Substrats (102), Aufbringen eines Schichtsystems (103) auf das Substrat, wobei eine optische Wirkfläche (101) des optischen Elements (100) ausgebildet wird und wobei das Schichtsystem eine zur Manipulation der geometrischen Form der optischen Wirkfläche thermisch deformierbare Schicht (104) aufweist, und Anlegen eines Temperaturfeldes an das optische Element unter zumindest bereichsweisem Aufwärmen der thermisch deformierbaren Schicht über eine vorgegebene Betriebstemperatur des optischen Systems, wobei vor dem Anlegen des Temperaturfeldes an das optische Element die thermisch deformierbare Schicht derart konfiguriert wird, dass eine beim Anlegen des Temperaturfeldes induzierte Deformation nach Abkühlen des optischen Elements auf die vorgegebene Betriebstemperatur zumindest teilweise erhalten bleibt. Die Erfindung betrifft weiter ein optisches Element für ein optisches System, wobei das optische Element (400) eine optische Wirkfläche (401 ) aufweist, mit einem Substrat (402) und einem auf dem Substrat (402) befindlichen Schichtsystem (403), welches ein Reflexionsschichtsystem (406) aufweist, wobei das Schichtsystem ferner eine Formgedächtnislegierung aufweist. Dabei kann eine im Betrieb des optischen Systems auftretende Deformation der optischen Wirkfläche des optischen Elements durch aktive Zufuhr von Wärmeenergie in die Formgedächtnislegierung wenigstens teilweise kompensiert werden.
摘要翻译：本发明涉及用于微光刻投射曝光设备制造的光学元件的光学系统，特别是一种方法。本发明的方法包括以下步骤：提供衬底（102），所述基板，其中，在形成所述光学元件（100）的光学活性表面（101）上施加的层系统（103），并且其中所述层系统中，几何形状的操作具有该光学有效的表面热变形层（104）和在所述光学系统的预定工作温度的热变形层的至少bereichsweisem加热下施加温度场的光学元件，其中在所述温度场的施加到所述光学元件，所述热变形层，例如被配置为使得至少在预定的操作温度被部分地接收所述光学元件的冷却后在所述温度场变形应用诱导。本发明还涉及一种光学元件的光学系统，其中所述光学元件（400）具有一个光学有效区域（401）包括基片（402）和在所述衬底（402）位于层系统（403）包括反射层系统（406），其中所述层系统还包括形状记忆合金。它可以通过在形状记忆合金中的至少一项所述的光学元件的光学有效表面变形的光学系统的操作期间发生的热能的活性供给来部分地补偿。

8. 发明申请

WO2012103933A1 METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING ERRORS IN AN EUV LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于校正非线性光刻系统中的误差的方法和装置
公开(公告)号：WO2012103933A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/EP2011/051374
申请日：2011-02-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PIXER TECHNOLOGY LTD. , MENGEL, Markus , STICKEL, Franz-Josef , WEGMANN, Ulrich , DÖRBAND, Bernd , OSHEMKOV, Sergey
发明人： MENGEL, Markus , STICKEL, Franz-Josef , WEGMANN, Ulrich , DÖRBAND, Bernd , OSHEMKOV, Sergey
IPC分类号： B23K26/00 , G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70591 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/52 , G03F1/60 , G03F1/72 , G03F7/70316
摘要： The invention relates to a method for correcting a local surface defect (430, 440, 530, 540) of a reflective optical element (170, 171, 172, 173, 74, 175, 200, 300, 400, 500, 700, 800) of an extreme ultraviolet lithography system (100) comprises the steps of analyzing the local surface defect (430, 440, 530, 540), correcting the local surface defect (430, 440, 530, 540) by focusing femto- or picosecond light pulses of a laser system (600) onto positions of the local surface defect (430, 440, 530, 540), and verifying that a wave front sensor (190) associated with the extreme ultraviolet lithography system (100) can no longer detect the local surface defect (430, 440, 530, 540).
摘要翻译：本发明涉及一种校正反射光学元件（170,171,172,173,74,175,200,300,400,500,700,800）的局部表面缺陷（430,440,530,540）的方法，）包括以下步骤：通过聚焦毫微微秒或皮秒光来分析局部表面缺陷（430,440,530,540），校正局部表面缺陷（430,440,530,540）激光系统（600）的脉冲到局部表面缺陷（430,440,530,540）的位置，并且验证与极紫外光刻系统（100）相关联的波前传感器（190）不能再检测到局部表面缺陷（430,440,530,540）。

9. 发明申请

WO2012013748A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013748A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062997
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

10. 发明申请

WO2019162051A1 VERFAHREN ZUM POLIEREN EINES WERKSTÜCKS BEI DER HERSTELLUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2019162051A1
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：PCT/EP2019/052178
申请日：2019-01-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WOLPERT, Andreas , STICKEL, Franz-Josef
发明人： WOLPERT, Andreas , STICKEL, Franz-Josef
IPC分类号： B24B13/00 , B24B9/14 , B24B29/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren eines Werkstücks bei der Herstellung eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, wobei eine Relativbewegung zwischen einem Polierwerkzeug (300) und einer zu bearbeitenden Werkstückoberfläche (110, 120, 210) erfolgt, wobei eine Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) des Polierwerkzeugs (300) durch ein viskoelastisches Poliermedium (303) gebildet wird, wobei diese Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) einen mittleren Durchmesser aufweist, welcher weniger als 50% des mittleren Durchmessers der zu bearbeitenden Werkstückoberfläche (110, 120, 210) beträgt, wobei die Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) beim Polieren über wenigstens einen die zu bearbeitende Werkstückoberfläche (110, 120, 210) begrenzenden Rand (110a, 1 10b, 120a, 120b, 210a, 210b) um eine Überlaufstrecke hinausgeführt wird, und wobei der mittlere Durchmesser der Polierwerkzeugoberfläche (215, 315) wenigstens das Zweifache der Überlaufstrecke beträgt.

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