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1. 发明申请

WO2012013751A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013751A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/063002
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light. The lens further comprises support means for passively or actively supporting at least one optical element which is controlled to a temperature by a first tempering means. The support means comprising a temperature sensitive element, wherein the temperature sensitive element is controlled to a constant or to a predefined temperature by a second tempering element which is arranged between the temperature sensitive element and the first tempering element.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV灯的曝光强度。透镜还包括用于被动或主动地支撑由第一回火装置控制到温度的至少一个光学元件的支撑装置。所述支撑装置包括温度敏感元件，其中所述温度敏感元件通过布置在所述温度敏感元件和所述第一回火元件之间的第二回火元件被控制到恒定或预定温度。

2. 发明申请

WO2012013748A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013748A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062997
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

3. 发明申请

WO2012013747A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013747A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062996
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system with at least two reflective optical elements each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein the bodies of at least two reflective optical elements comprise a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at respective zero cross temperatures, and wherein the absolute value of the difference between the zero cross temperatures is more than 6K.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，其具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件均包括主体和反射表面，用于在掩模版上将物场投射到基板上的图像场上，如果投影透镜曝光 EUV光的功率，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在相应的零交叉温度下为零，并且其中零交叉温度之间的差的绝对值更多超过6K。

4. 发明申请

WO2012013746A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013746A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062995
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A mirror comprising a body and a reflective surface, the body comprising a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature T 0k- Further, at least a part of the surface of the body comprises a wire grid for electrically resistive heating of the body and the mirror is adapted for a projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light.
摘要翻译：一种包括主体和反射表面的反射镜，所述主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在零交叉温度T0k为零。此外，主体的表面的至少一部分包括用于本体和反射镜的电阻加热适用于EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，用于将掩模版上的物场投影到基板上的图像场上，如果投影透镜以曝光量曝光 EUV灯。

5. 发明申请

WO2012041697A1 MIRROR, PROJECTION OBJECTIVE COMPRISING SUCH A MIRROR, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING SUCH A PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：镜子，包括这种镜子的投影目标和投影曝光装置，用于包含这样的投影目标的微型计算机
公开(公告)号：WO2012041697A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/065873
申请日：2011-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FREIMANN, Rolf , BAER, Norman , LIMBACH, Guido , BOEHM, Thure , WITTICH, Gero
发明人： FREIMANN, Rolf , BAER, Norman , LIMBACH, Guido , BOEHM, Thure , WITTICH, Gero
IPC分类号： G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0891 , B82Y10/00 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061
摘要： The invention relates to a mirror (la; la'; lb; lb'; lc; lc') comprising a substrate (S) and a layer arrangement, wherein the layer arrangement is designed in such a way that light (32) having a wavelength of less than 250 nm that is incident on the mirror (la; la'; lb; lb'; lc; lc') at at least an angle of incidence of between 0° and 30° is reflected with more than 20% of its intensity, and the layer arrangement comprises at least one surface layer system (Ρ"') consisting of a periodic sequence of at least two periods (P3) of individual layers, wherein the periods (P3) comprise two individual layers composed of different materials for a high refractive index layer (Η"') and a low refractive index layer (L'"), wherein the layer arrangement comprises at least one layer (G, SPL, B) composed of graphene. Furthermore, the invention relates to the use of graphene (G, SPL, B) on optical elements for reducing the surface roughness to less than 0.1 nm rms HSFR and/or for protecting the optical element in the EUV wavelength range against a radiation-induced irreversible change in volume of more than 1% and/or as a barrier layer for preventing interdiffusion between layers of so-called multilayer layer mirrors in the EUV wavelength range.
摘要翻译：本发明涉及一种包括衬底（S）和层布置的反射镜（1a; 1a'; 1b; 1b; 1c; 1c），其中所述层布置被设计成使得具有入射在反射镜（1a; 1a'; lb; lb'; lc; lc'）上的小于250nm的波长在0°至30°之间的入射角至少有20％以上其强度和层布置包括由各层的至少两个周期（P3）的周期性序列组成的至少一个表层系统（“），其中周期（P3）包括由不同材料组成的两个单独层对于高折射率层（α“'）和低折射率层（L'”），其中层布置包括由石墨烯组成的至少一层（G，SPL，B），此外，本发明涉及在光学元件上使用石墨烯（G，SPL，B）将表面粗糙度降低到小于0.1nm rms HSFR和/或用于保护光学元件 EUV波长范围内的α元素相对于辐射诱发的不可逆体积变化大于1％和/或作为阻挡层用于防止EUV波长范围内所谓的多层反射镜层之间的相互扩散。

6. 发明申请

WO2010049020A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统微EUV光刻
公开(公告)号：WO2010049020A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/EP2009/005113
申请日：2009-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
发明人： DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70558
摘要： Eine Beleuchtungsoptik (47) für die EUV-Mikrolithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (19) mit einem EUV-Nutzstrahlungsbündel (3). Zur Vorgabe von Beleuchtungsparametern dienen Vorgabeeinrichtungen (6, 10). Zur Korrektur der Intensitätsverteilung und/oder der Winkelverteilung der Objektfeldbeleuchtung dient eine Beleuchtungs-Korrektureinrichtung. Diese hat eine zumindest teilweise mit dem Nutzstrahlungsbündel (3) vor dem Objektfeld (19) beaufschlagte und gesteuert angetrieben verlagerbare optische Komponente (13). Ein Detektor (50, 53) dient zur Erfassung eines der Beleuchtungsparameter. Eine Auswerteeinrichtung (31) dient zur Auswertung der Detektordaten und zur Umsetzung von diesen in Steuersignale. Mindestens ein Aktor (61, 62) dient zur Verlagerung der optischen Komponente (13). Während Belichtungen werden die Stellelemente so mit den Detektorsignalen geregelt, dass während der Dauer einer Projektionsbelichtung eines maximale Verlagerung von Rändern des Objektfeldes (19) zu einem zu belichtenden Objekt (18) von unter 8 μm gewährleistet ist. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der die Einhaltung vorgegebener Beleuchtungsparameter auch bei höchsten Präzisionsanforderungen gewährleistet
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学部件（47）用于与EUVNutzstrahlungsbündel（3）照明物场（19）。用于指定照明参数指示装置用作（6，10）。照明校正装置用于校正的强度分布和/或物场照明的角度分布。这已作用于至少部分与所述物场（19）和控制驱动可移动光学部件（13）的Nutzstrahlungsbündel（3）的上游。的检测器（50，53）用于检测所述照明参数中的一个。的评估装置（31），用于将检测器数据的评估并将其转换成控制信号。至少一个致动器（61，62）用于将光学部件（13）的位移。在曝光被控制以便与被保证在物场（19）的边缘的最大位移的投影曝光的持续时间的对象的检测器信号中的调节元件，以小于8微米（18）被暴露。其结果是与即使在最高的精度要求具有特定照明参数确保符合的照明光学部件

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