专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003075049A2 REFRACTIVE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：反射投影目标
公开(公告)号：WO2003075049A2
公开(公告)日：2003-09-12
申请号：PCT/US2003/006592
申请日：2003-03-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
发明人： HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G03F7/70975 , G03F7/70241 , G03F7/70958
摘要： Refractive projection objective with a numerical aperture greater than 0.7, consisting of a first convexity, a second convexity, and a waist arranged between the two convexities. The first convexity has a maximum diameter denoted by D1, and the second convexity has a maximum diameter denoted by D2, and 0.8 1 /D 2
摘要翻译：具有大于0.7的数值孔径的折射投影物镜，由设置在两个凸部之间的第一凸面，第二凸面和腰部组成。第一凸度具有由D1表示的最大直径，并且第二凸度具有由D2表示的最大直径，并且0.8

2. 发明申请

WO2005050321A1 REFRAKTIVES PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE IMMERSIONS-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：浸泡版画折射投影物镜
公开(公告)号：WO2005050321A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/EP2003/011677
申请日：2003-10-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B13/143 , G03F7/70341
摘要： Ein für die Immersions-Mikrolithographie geeignetes, rein refraktives Projektionsobjektiv ist als Ein-Taillen-System mit fünf Linsengruppen ausgelegt, bei dem eine erste Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine zweite Linsengruppe mit positiver Brechkraft, eine dritte Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine vierte Linsengruppe mit positiver Brechkraft und eine fünfte Linsengruppe mit positiver Brechkraft vorgesehen sind. Die vierte Linsengruppe hat eine Eintrittsfläche (E), die in der Nähe eines Wendepunktes einer Randstrahlhöhe zwischen der dritten Linsengruppe (LG3) und der vierten Linsengruppe (LG4) liegt. Zwischen der Eintrittsfläche und der Systemblende (5) ist keine Negativlinse mit substantieller Brechkraft angeordnet ist. Ausführungsformen erfindungsgemässer Projektionsobjektive erreichen eine sehr hohe numerische Apertur NA > 1 bei grossem Bildfeld und zeichnen sich durch eine kompakte Baugrösse aus. Bei Verwendung von Immersionsfluiden zwischen Projektionsobjektiv und Substrat sind bei Arbeitswellenlängen unterhalb 200nm Strukturbreiten deutlich unter 100nm auflösbar.
摘要翻译：一种合适的用于浸没微光刻，纯折射投影物镜被设计成具有五个透镜组，一个腰包系统，其中，具有负折射力的第一透镜组，具有正屈光力的第二透镜组，具有负折射光焦度的第三透镜组，第四透镜组用提供正折光力和具有正折光力的第五透镜组。第四透镜组是一个入射表面（E），在第三透镜组（LG3）和第四透镜组（LG4）之间的边缘光线高度的拐点的附近。进入表面和所述隔膜的系统（5）之间是没有负透镜布置在具有相当大的光焦度。根据本发明的投影透镜的实施例实现在大的视场非常高的数值孔径NA> 1，并通过一个紧凑的尺寸的特征。当使用投影透镜和基底之间浸没流体是在低于200纳米的特征尺寸以及小于100nm波长工作的可溶性。

3. 发明申请

WO2005040928A1 COMPACT PROJECTION OBJECTIVE FOR ARF LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译： ARF算法的紧凑投影目标
公开(公告)号：WO2005040928A1
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2004/009715
申请日：2004-09-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUDYMA, Russell , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： HUDYMA, Russell , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B13/143
摘要： According to one exemplary embodiment, a projection lens having an object plane and an image plane is provided and includes the following lens groups listed objectwise to imagewise: (1) a first lens group having negative refractive power; and (2) at least three other lens groups having a positive refractive power and at least one other lens group having a negative refractive power. In one embodiment, the projections lens includes a second lens group having a positive refractive power; a third lens group having a negative refractive power; and fourth, fifth and sixth lens groups having overall positive refractive power. The projection lens having a numerical aperture of at least about 0.85 and is of a 1½ waist construction, with the ½ waist defined in the first lens group and a primary waist is defined in the third lens group.
摘要翻译：根据一个示例性实施例，提供具有物平面和像平面的投影透镜，并且包括以成像方式对象地列出的以下透镜组：（1）具有负屈光力的第一透镜组; 和（2）具有正屈光力的至少三个其它透镜组和具有负屈光力的至少一个其它透镜组。在一个实施例中，投影透镜包括具有正折光力的第二透镜组; 具有负屈光力的第三透镜组; 以及具有总正正屈光力的第四，第五和第六透镜组。投影透镜具有至少约0.85的数值孔径，并且具有1/2腰围结构，其中限定在第一透镜组中的1/2腰围和初级腰围限定在第三透镜组中。

4. 发明申请

WO2015078861A1 MESSANORDNUNG ZUR MESSUNG OPTISCHER EIGENSCHAFTEN EINES REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTS, INSBESONDERE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：测量装置用于测量光学特性的反射光学元件，尤其是对于微光刻
公开(公告)号：WO2015078861A1
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：PCT/EP2014/075537
申请日：2014-11-25
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BOL, Johannes , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： BOL, Johannes , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/02 , G01N21/55 , G01N21/84
CPC分类号： G01N21/55 , G01N21/956 , G01N2021/557 , G01N2021/95676 , G02B17/0615 , G02B19/0023 , G02B19/0085 , G02B19/0095 , G03F7/70316 , G03F7/7055 , G03F7/70591 , G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft eine Messanordnung zur Messung optischer Eigenschaften eines reflektiven optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer EUV-Lichtguelle (5), einem Detektor (20) zur Erfassung von an dem reflektiven optischen Element (10) reflektierter EUV-Strahlung, und einem Abbildungssystem (30, 40, 50, 60, 70, 80, 90), welches Objektpunkte auf dem reflektiven optischen Element auf jeweils einen Bildpunkt auf dem Detektor abbildet, wobei das Abbildungssystem zur Reflexion der EUV-Strahlung eine erste optische Komponente (31, 41, 51, 61, 71, 81, 91) und wenigstens eine zweite optische Komponente (32, 42, 52, 62, 72, 82, 92) aufweist, und wobei sowohl an der ersten optischen Komponente als auch an der zweiten optischen Komponente die bei der Reflexion der EUV-Strahlung jeweils auftretenden, auf die jeweilige Oberflächennormale bezogenen Reflexionswinkel wenigstens 70° betragen.
摘要翻译：本发明涉及一种测量装置，用于测量的反射光学元件的光学特性，特别是用于微光刻，用EUV Lichtguelle（5），检测器（20），用于记录所述反射光学元件（10）上反射的EUV辐射，并且的成像系统（30，40，50，60，70，80，90），其目的点的每个图像中的反射光学元件上的检测器上的像素，用于反射EUV辐射的第一光学部件的成像系统（31， 41，51，61，71，81，91）和至少一个第二光学组件（32，42，52，62，72，82，92），并且其中所述第一光学部件和第二光学部件 EUV辐射的反射，与各个表面法线反射角期间分别产生至少为70°。

5. 发明申请

WO2010115500A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010115500A1
公开(公告)日：2010-10-14
申请号：PCT/EP2010/001512
申请日：2010-03-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0663 , G02B17/0888
摘要： An imaging optics (36) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A first mirror (M1) is arranged in the imaging beam path of imaging light after the object field (4) and a last mirror (M6) is arranged in the imaging beam path before the image field (8). In the unfolded imaging beam path, an impingement point of a chief ray (16), which belongs to a central object field point, on a useful face (23) of each of the mirrors (M1 to M6), which is configured to guide the imaging light (3), has a mirror spacing (Z M ) from the image plane (9). The mirror spacing (Z M1 ) of the first mirror (Ml) is greater than the mirror spacing (Z M6 ) of the last mirror (M6). The mirror spacing (z M3 ) of a fourth to last mirror (M3) is greater than the mirror spacing (z M1 ) of the first mirror (M1). In a further aspect of the invention, a reflection surface of at least one of the mirrors (M1 to M6) of the imaging optics (36) is configured as a static free form surface which cannot be described by a rotationally symmetrical function. This differs from an aspherical surface best adapted thereto, which can be described by a rotationally symmetrical function in that a normal (FNB) to a free form surface element (20) of a used region (23) of the free form surface, which is configured to guide the imaging light (3), adopts an angle (α) of a maximum of 70 μrad with a normal (FN) to a corresponding asphere surface element (22) of the aspherical surface (21). With the two aspects, a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throuhput for the imaging light results.
摘要翻译：成像光学器件（36）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）的成像光束路径中布置第一反射镜（M1），并且在图像场（8）之前的成像光束路径中布置最后一个反射镜（M6）。在展开成像光束路径中，属于中心物体场点的主射线（16）的撞击点位于每个反射镜（M1至M6）的有用面（23）上，其被配置为引导成像光（3）具有与图像平面（9）的反射镜间隔（ZM）。第一反射镜（M1）的反射镜间距（ZM1）大于最后一个反射镜（M6）的反射镜间距（ZM6）。第四至最后一个反射镜（M3）的反射镜间距（zM3）大于第一反射镜（M1）的反射镜间隔（zM1）。在本发明的另一方面，成像光学器件（36）的至少一个反射镜（M1至M6）的反射表面被构造为无法通过旋转对称功能描述的静态自由形式表面。这与最适合于其的非球面不同，其可以通过旋转对称的功能来描述，其中自由形式表面的使用区域（23）的自由形式表面元件（20）的法线（FNB）是被配置为引导成像光（3），将正常（FN）的最大值为70μrad的角度（a）与非球面（21）的对应的非球面表面元件（22）进行比较。通过这两个方面，可以组合小的成像错误，可管理的生产和成像光的良好输出结果。

6. 发明申请

WO2009033709A1 IMAGING MICROOPTICS FOR MEASURING THE POSITION OF AN AERIAL IMAGE 审中-公开
标题翻译：用于测量空气影像位置的成像微观测量
公开(公告)号：WO2009033709A1
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：PCT/EP2008/007568
申请日：2008-09-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , FELDMANN, Heiko
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , FELDMANN, Heiko
IPC分类号： G02B21/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70666 , G02B13/143
摘要： The present invention provides an imaging microoptics, which is compact and robust, e.g. by including at least one aspherical member and by having a folded beam path, and which provides a magnification | β' | of > 800 by magnitude. Furthermore, the invention provides a system for positioning a wafer with respect to a projection optics, including the imaging microoptics, an image sensor (D) positionable in the image plane (B) of the imaging microoptics, for measuring a position or an aerial image of the projection optics, and a wafer stage (WST) with an actuator and a controller (S) for positioning the wafer in dependence of an output signal of the image sensor (D).
摘要翻译：本发明提供了一种成像微光学，它是紧凑和鲁棒的，例如，通过包括至少一个非球面构件并且通过具有折叠的光束路径，并且提供放大率| ß'| > 800。此外，本发明提供了一种用于相对于投影光学器件定位晶片的系统，包括成像微光学，可定位在成像微光学图像平面（B）中的图像传感器（D），用于测量位置或空中图像和具有致动器和用于根据图像传感器（D）的输出信号定位晶片的控制器（S））的晶片台（WST）。

7. 发明申请

WO2005033800A1 LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM SOLCHEN LITHOGRAPHIE-OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光刻镜头和投影曝光系统与至少一个该光刻镜头
公开(公告)号：WO2005033800A1
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004/007753
申请日：2004-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , DODOC, Aurelian , WANGLER, Johannes , SCHUSTER, Karl-Heinz , SCHULTZ, Jörg , STICKEL, Franz-Josef , SINGER, Wolfgang , WIETZORREK, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70241
摘要： Ein optisches Abbildungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines in einer Objekt-ebene des Abbildungssystems angeordneten Objektfeldes in ein in einer Bildebene des Abbildungssystems angeordnetes Bildfeld. Es kann sich insbesondere um ein Projektionsobjektiv oder um ein im Beleuchtungs-system einzusetzendes Relais-Objektiv handeln. Das Abbildungssystem hat eine Vielzahl von Linsen, die zwischen der Objektebene und der Bildebene angeordnet sind und jeweils eine erste Linsenfläche und eine zweite Linsenfläche aufweisen. Mindestens eine der Linsen ist eine Doppelasphärenlinse, bei der die erste Linsenfläche und die zweite Lin-senfläche eine asphärische Fläche ist. Bei Doppelasphärenlinsen ist es möglich, mit vertretbarem Aufwand bei der Oberflächenbearbeitung und Prüfung der Linsenoberflächen Linsen mit guter Qualität herzustellen, die die Wirkung einer Asphäre mit sehr starker Deformation haben.
摘要翻译：一种用于微光刻投射曝光设备的成像光学系统被用于成像放置在成像系统的物平面中布置在所述成像系统的图像场的图像平面中的物场的对象。它可以是在特定的投影透镜或在照明系统中继透镜被分配。该成像系统具有多个被布置在物平面和像平面，并且每个具有第一透镜表面和第二透镜表面之间的透镜。至少所述透镜中的一个是一个Doppelasphärenlinse，其中，所述第一透镜表面和第二透镜表面是非球面表面。在Doppelasphärenlinsen它可以使在表面处理和透镜的测试以合理的成本与具有非球面表面的具有非常强的变形的效果良好的品质的透镜面。

8. 发明申请

WO2020254461A1 PROJECTION OPTICAL UNIT FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR PRODUCING A STRUCTURED COMPONENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2020254461A1
公开(公告)日：2020-12-24
申请号：PCT/EP2020/066866
申请日：2020-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ROSTALSKI, Hans Jürgen , MUENZ, Holger , MENKE, Christoph
发明人： ROSTALSKI, Hans Jürgen , MUENZ, Holger , MENKE, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
摘要： The invention relates to a projection optical unit for microlithography and a method for producing a structured component. A projection optical unit for microlithography comprises a plurality of mirrors for guiding imaging light (301, 510, 601, 701, 801) along an imaging beam path from an object field (5) located in an object plane (OP) to an image field (9) located in an image plane (IP) with a numerical aperture (NA) having a value larger than 0.5, wherein the plurality of mirrors comprise at least three mirrors for grazing incidence (Gl mirrors), which deflect a chief ray of a central object field point with an angle of incidence of more than 45°, wherein different polarized light beams passing the projection optical unit (7, 300, 500, 600, 700, 800) in operation from the object field to the image field are rotated in their polarization direction by different angles of rotation due to a geometrical polarization rotation, wherein the projection optical unit comprises a first group of mirrors (A) and a second group of mirrors (B), said second group of mirrors consisting of the final two mirrors (Mn-1,Mn) of said plurality of mirrors at the image side, wherein a linear portion in the pupil dependence of the total geometrical polarization rotation (|Z3A + Z3B|) of the projection optical unit is smaller than 20% of a linear portion in the pupil dependence of the geometrical polarization rotation (|Z3B|) of the second group of mirrors.

9. 发明申请

WO2008138560A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：投射透镜投射曝光系统，微光刻
公开(公告)号：WO2008138560A1
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/EP2008/003760
申请日：2008-05-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70941 , G03F7/70225
摘要： Ein Projektionsobjektiv (16) einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie dient zur Abbildung eines in einer Objektebene (O) angeordneten Objekts (18) auf einen lichtempfindlichen Wafer (20) in einer Bildebene (B). Das Projektionsobjektiv (16) weist eine Mehrzahl an optischen Elementen (28) auf, die zumindest ein reflektierendes Element (30b) und zumindest ein refraktives Element (32) aufweisen. Die Mehrzahl der optischen Elemente (28) liegen in Lichtausbreitungsrichtung des Nutzlichts hinter dem reflektierenden Element auf einer gemeinsamen geraden optischen Achse (X). Das zumindest eine reflektierende Element (30b) weist ein Substrat (37b) mit zumindest einer Durchbrechung (38b) auf, durch die Lichtstrahlen (26) hindurch treten können. Das zumindest eine reflektierende Element (30b) ist zumindest teilweise aus einem Material gefertigt, das rückwärtig auf das reflektierende Element (30b) auf treffendes Streulicht (42) unterdrückt.
摘要翻译：用于微光刻的投射曝光系统的投射透镜（16）被用于成像放置在目标平面（O）对象（18）到在图像平面（B）的感光晶片（20）的对象。投影透镜（16）包括具有多个光学元件（28）至少一个反射元件（30B）和至少一个折射元件（32）。所述多个光学元件（28）位于所述反射元件后面的有用的在共同的直线光轴（X）的光传输方向的。该至少一个反射元件（30B）具有（37B），其具有至少一个孔（38B）可穿过的光束（26）穿过其中的基板。该至少一个反射元件（30B）的至少部分地由该向后反射元件上（30B）抑制入射的杂散光（42）的材料制成。

10. 发明申请

WO2005119369A1 PROJECTION SYSTEM WITH COMPENSATION OF INTENSITY VARIATONS AND COMPENSATION ELEMENT THEREFOR 审中-公开
标题翻译：具有强度变化补偿的投影系统及其补偿元件
公开(公告)号：WO2005119369A1
公开(公告)日：2005-12-15
申请号：PCT/EP2005/005979
申请日：2005-06-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHEIBLE, Patrick , PAZIDIS, Alexandra , GARREIS, Reiner , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , GRÄUPNER, Paul , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
发明人： SCHEIBLE, Patrick , PAZIDIS, Alexandra , GARREIS, Reiner , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , GRÄUPNER, Paul , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B13/02 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70308
摘要： In a projection objective for imaging a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective, at least one optical component is provided which has a substrate in which at least one substrate surface is covered with an interference layer system having a great spatial modulation of the reflectance and/or of the transmittance over a usable cross section of the optical component, the modulation being adapted to a spatial transmission distribution of the remaining components of the projection objective in such a way that an intensity distribution of the radiation that is measured in a pupil surface has a substantially reduced spatial modulation in comparison with a projection objective without the interference layer system.
摘要翻译：在将投影物镜的物平面中布置的图案成像到投影物镜的像平面中的投影物镜中，提供至少一个光学部件，该光学元件具有基板，其中至少一个基板表面被干涉层覆盖系统具有在光学部件的可用横截面上的反射率和/或透射率的大的空间调制，该调制适于投影物镜的其余部件的空间传输分布，使得强度分布与没有干涉层系统的投射物镜相比，在瞳孔表面中测量的辐射具有显着降低的空间调制。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式