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1. 发明申请

WO2015187219A8 X-RAY ABSORPTION MEASUREMENT SYSTEM 审中-公开
标题翻译： X射线吸收测量系统
公开(公告)号：WO2015187219A8
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：PCT/US2015018553
申请日：2015-03-03
申请人： SIGRAY INC
发明人： LEWIS SYLVIA JIA YUN , YUN WENBING , KIRZ JANOS , LYON ALAN FRANCIS
IPC分类号： G01N23/083 , G01T1/16
CPC分类号： G01N23/063 , G21K1/067 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , H01J35/08 , H01J2235/086 , H01J2235/087
摘要： This disclosure presents systems for x-ray absorption fine structure (XAFS) measurements that have x-ray flux and flux density several orders of magnitude greater than existing compact systems; for applications of x-ray absorption near-edge spectroscopy (XANES) or extended x-ray fine absorption structure (EXFAS) spectroscopy. The higher brightness is achieved using designs for x-ray targets that comprise aligned microstructures of x-ray generating materials fabricated in close thermal contact with a substrate having high thermal conductivity. This allows for bombardment with higher electron density and/or higher energy electrons, leading to greater x-ray brightness and high flux. The high brightness x-ray source is coupled to an x-ray reflecting optical system to collimate the x-rays, and a monochromator, which selects the exposure energy. Absorption spectra of samples using the high flux monochromatic x-rays can be made using standard detection techniques.
摘要翻译：本公开提供了具有比现有紧凑系统大几个数量级的x射线通量和通量密度的x射线吸收精细结构（XAFS）测量系统; 用于X射线吸收近边缘光谱（XANES）或扩展X射线精细吸收结构（EXFAS）光谱学的应用。使用包括与具有高导热性的基板紧密热接触制造的x射线产生材料的对准微结构的x射线靶的设计来实现更高的亮度。这允许用更高电子密度和/或更高能量的电子进行轰击，导致更大的x射线亮度和高通量。高亮度x射线源耦合到x射线反射光学系统以准直x射线，以及选择曝光能量的单色仪。使用高通量单色x射线的样品的吸收光谱可以使用标准检测技术进行。

2. 发明申请

WO2016166721A1 METHOD FOR MANUFACTURING AN OPTICAL UNIT COMPRISING A PLURALITY OF ASPHERICAL GLASS SHEETS 审中-公开
标题翻译：制造包含多层平行玻璃片的光学单元的方法
公开(公告)号：WO2016166721A1
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：PCT/IB2016/052165
申请日：2016-04-15
申请人： ISTITUTO NAZIONALE DI ASTROFISICA
发明人： BASSO, Stefano , CIVITANI, Marta Maria , PARESCHI, Giovanni
IPC分类号： C03B23/035 , C03B40/00 , G21K1/06
CPC分类号： G02B17/006 , C03B23/0357 , C03B40/005 , G02B5/0891 , G02B5/10 , G02B17/06 , G21K1/06 , G21K1/067 , G21K2201/064
摘要： Method for manufacturing an optical unit (1) comprising a plurality of glass-sheets (2) having an aspherical shape, arranged superimposed and spaced apart to form a stack (10), comprising the steps of: - arranging either a pre-bent or a flat glass-sheet (2) on a reference surface (5) having the geometry desired to be reproduced; - cold-deforming said glass-sheet (2) so as to adhere it onto the reference surface (5); - integrating said glass-sheet (2) with a preceding element (4, 2) of said stack (10) in a predetermined relative position; and - repeating the preceding steps till stack completion. The integration step comprises fastening said glass-sheet (2) in a position spaced from the preceding element (4, 12) of the stack (10) by means of bars (3) arranged spaced apart from one another.
摘要翻译：一种用于制造光学单元（1）的方法，包括多个玻璃板（2），该玻璃板（2）具有非球面形状，被重叠并间隔布置以形成叠层（10），包括以下步骤： - 将预弯曲或在具有希望再现的几何形状的基准表面（5）上的平板玻璃板（2）; - 将所述玻璃板（2）冷变形以将其粘附到所述参考表面（5）上; - 将所述玻璃板（2）与所述堆叠（10）的先前元件（4,2）预定相对位置一体化; 和 - 重复前述步骤直到堆叠完成。整合步骤包括通过彼此间隔布置的杆（3）将所述玻璃板（2）紧固在与所述堆叠（10）的先前元件（4,12）间隔开的位置。

3. 发明申请

WO2015026824A1 METHODS AND SYSTEMS FOR FABRICATING PLATELETS OF A MONOCHROMATOR FOR X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY 审中-公开
标题翻译：用于制备X射线光电子能谱分光光度计板的方法和系统
公开(公告)号：WO2015026824A1
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：PCT/US2014/051688
申请日：2014-08-19
申请人： REVERA INCORPORATED
发明人： FANTON, Jeffrey T. , SMEDT, Rodney , SCHUELER, Bruno W. , REED, David A.
IPC分类号： G01N23/22 , G01N23/227 , H01J49/48 , H01J37/256
CPC分类号： G01N23/20 , B23Q17/20 , G01N23/2273 , G21K1/06 , G21K2201/064 , H01J37/256 , Y10T29/49764 , Y10T29/49769 , Y10T29/49771 , Y10T29/53022
摘要： Methods and systems for fabricating platelets of a monochromator for X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are disclosed. For example, a method of fabricating a platelet of a monochromator for X-ray photoelectron spectroscopy involves placing a crystal on a stage of an X-ray measuring apparatus, the crystal having a top surface. The method also involves measuring, by X-ray reflection, an orientation of a crystal plane of the crystal, the crystal plane beneath the top surface of the crystal and having a primary axis. The method also involves measuring a surface angle of the top surface of the crystal by measuring a light beam reflected from the top surface of the crystal.
摘要翻译：公开了用于制造用于X射线光电子能谱（XPS）的单色仪的血小板的方法和系统。例如，制造用于X射线光电子能谱的单色仪的血小板的方法包括将晶体放置在X射线测量装置的台上，该晶体具有顶面。该方法还包括通过X射线反射测量晶体的晶面的取向，晶体的顶表面下方的晶面并具有主轴。该方法还包括通过测量从晶体顶表面反射的光束来测量晶体顶表面的表面角度。

4. 发明申请

WO2014092073A1 散乱強度分布の測定方法及び測定装置审中-公开
标题翻译：用于测量散射强度分布的方法和装置
公开(公告)号：WO2014092073A1
公开(公告)日：2014-06-19
申请号：PCT/JP2013/083064
申请日：2013-12-10
申请人：大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
发明人：松下　正 , フォグリ　ヴォルフガング , 白澤　徹郎 , ▲高▼橋　敏男 , 荒川　悦雄
IPC分类号： G01N23/20
CPC分类号： G01N23/20008 , G01N23/20 , G21K2201/062 , G21K2201/064
摘要：　逆格子空間での散乱強度分布を短時間に測定可能な散乱強度分布の測定方法及び測定装置を提供すること。Ｘ線源（１０１）から放射されるＸ線を、試料（ＳＡ）の表面近傍において集束させるようにＸ線光学素子（１０２）で反射させ、複数の光路を経て集束される単色化されたＸ線の各光路と基準面とがなす角と、基準面の垂線と各光路の中心に位置する光路を含む面とがなす角との間に相関のある状態で、単色化されたＸ線を試料に対して各光路に応じて異なる視射角（ω）で一度に入射させ、試料で散乱される単色化されたＸ線の散乱強度を２次元検出器（１０３）で検出し、２次元検出器で検出される散乱強度分布及び相関に基づいて、逆格子空間での散乱強度分布を算出することを特徴とする。
摘要翻译：本发明提供一种测量散射强度分布的方法和装置，其能够快速测量互逆格子空间中的散射强度分布。使用X射线光学元件（102）使从X射线源（101）射出的X射线被聚焦在样本（SA）的表面附近。在由参考表面形成的角度与通过光路聚焦的单色X射线的多个光路中的每一个之间存在相关性的状态以及由基准表面的法线形成的角度和包括光路径位于光路的中心，使单色X射线同时以与各个光路不同的扫掠角（ω）撞击在样本上。使用二维检测器（103）检测从样本散射的单色X射线的散射强度。基于由二维检测器检测的散射强度分布和相关性计算互逆格子空间中的散射强度分布。

5. 发明申请

WO2014068689A1 分光素子、およびそれを用いた荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：光谱元件和使用它的充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2014068689A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/JP2012/078092
申请日：2012-10-31
申请人：株式会社日立製作所
发明人：阿南　義弘 , 高口　雅成
IPC分类号： G21K1/06 , G01N23/225 , H01J37/252
CPC分类号： H01J37/244 , G01N23/2252 , G21K1/067 , G21K2201/064 , H01J37/252 , H01J37/28 , H01J2237/2442 , H01J2237/2445
摘要：電子顕微鏡に波長分散型Ｘ線分析装置を備えた電子線分析装置において、評価対象の元素に対して高感度且つ高精度な分析を短期間で行う。各々のＸ線に対してＸ線反射率が最大となる複数パターンを形成した１つの回折格子を電子線分析装置に設け、エネルギー基準となるＸ線および評価対象のＸ線スペクトルを同時に検出する。回折格子の設置・交換によるＸ線エネルギーの位置ズレをエネルギー基準のＸ線スペクトルにより校正し、短期間で高感度且つ高精度な分析が可能となる。
摘要翻译：为了在电子显微镜中在具有波长色散X射线分析单元的电子束分析装置中，在短时间内以高灵敏度和高精度分析要评估的元件，一个衍射光栅，其中多个图案具有在电子束分析装置中形成相对于各X射线的最大X射线反射率，同时检测用作能量基准的X射线和待评价的X射线光谱。通过作为能量基准的X射线光谱校正由于衍射光栅的安装和变化引起的X射线能量的位置偏移，从而能够在短时间内进行高灵敏度和高精度分析。

6. 发明申请

WO2013040582A3 DUAL ELLIPTICAL REFLECTOR WITH A CO-LOCATED FOCI FOR CURING OPTICAL FIBERS 审中-公开
标题翻译：具有用于固化光纤的CO定位聚焦的双重反射器
公开(公告)号：WO2013040582A3
公开(公告)日：2013-05-10
申请号：PCT/US2012055799
申请日：2012-09-17
申请人： PHOSEON TECHNOLOGY INC , CHILDERS DOUG
发明人： CHILDERS DOUG
IPC分类号： G02B6/44 , C03C25/12
CPC分类号： G21K5/00 , C03C25/12 , F26B3/28 , F26B13/00 , G21K1/067 , G21K2201/064 , G21K2201/065
摘要： A device for UV curing a coating or printed ink on an workpiece such as an optical fiber comprises dual elliptical reflectors arranged to have a co-located focus. The workpiece is centered at the co-located focus such that the dual elliptical reflectors are disposed on opposing sides of the workpiece. Two separate light sources are positioned at a second focus of each elliptical reflector, wherein light irradiated from the light sources is substantially concentrated onto the surface of the workpiece at the co-located focus.
摘要翻译：用于UV固化诸如光纤的工件上的涂层或印刷油墨的装置包括布置成具有共同定焦点的双椭圆形反射器。工件在同一焦点处居中，使得双椭圆形反射器设置在工件的相对侧上。两个单独的光源被定位在每个椭圆形反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光在共同定位的焦点处基本集中在工件的表面上。

7. 发明申请

WO2013048913A1 SYSTEM AND METHOD FOR CHARACTERIZING A FILM BY X-RAY PHOTOELECTRON AND LOW-ENERGY X-RAY FLUORESCENCE SPECTROSCOPY 审中-公开
标题翻译：用X射线光电子和低能量X射线荧光光谱表征薄膜的系统和方法
公开(公告)号：WO2013048913A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/US2012/056752
申请日：2012-09-21
申请人： REVERA INCORPORATED , SCHUELER, Bruno W. , REED, David A. , FANTON, Jeffrey Thomas , SMEDT, Rodney
发明人： SCHUELER, Bruno W. , REED, David A. , FANTON, Jeffrey Thomas , SMEDT, Rodney
IPC分类号： G01N23/223 , G01N23/225
CPC分类号： G21K1/06 , G01N23/223 , G01N23/2273 , G01N2223/61 , G21K2201/062 , G21K2201/064
摘要： Systems and methods for characterizing films by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are disclosed. For example, a system for characterizing a film may include an X-ray source for generating an X-ray beam having an energy below the k-edge of silicon. A sample holder may be included for positioning a sample in a pathway of the X-ray beam. A first detector may be included for collecting an XPS signal generated by bombarding the sample with the X-ray beam. A second detector may be included for collecting an X-ray fluorescence (XRF) signal generated by bombarding the sample with the X-ray beam. Monitoring/estimation of the primary X-ray flux at the analysis site may be provided by X-ray flux detectors near and at the analysis site. Both XRF and XPS signals may be normalized to the (estimated) primary X-ray flux to enable film thickness or dose measurement without the need to employ signal intensity ratios.
摘要翻译：公开了通过X射线光电子能谱（XPS）表征膜的系统和方法。例如，用于表征胶片的系统可以包括用于产生具有低于硅的k边缘的能量的X射线束的X射线源。可以包括样品保持器以将样品定位在X射线束的通路中。可以包括第一检测器以收集通过用X射线束轰击样品而产生的XPS信号。可以包括第二检测器，用于收集通过用X射线束轰击样品而产生的X射线荧光（XRF）信号。在分析现场的X射线通量探测器附近和分析现场可以提供监测/估计分析现场的主要X射线通量。 XRF和XPS信号都可以归一化为（估计的）初级X射线通量，以实现膜厚度或剂量测量，而不需要使用信号强度比。

8. 发明申请

WO2012023141A1 SYSTEM FOR X-RAY IRRADIATION OF TARGET VOLUME 审中-公开
标题翻译：目标体积X射线辐射系统
公开(公告)号：WO2012023141A1
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：PCT/IL2011/000675
申请日：2011-08-18
申请人： BURSHTEIN, Zeev , BAR-DAVID, Aharon , HAREL, Zeev , CONVERGENT RADIOTHERAPY, INC
发明人： BURSHTEIN, Zeev , BAR-DAVID, Aharon , HAREL, Zeev
IPC分类号： G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , A61N5/1042 , A61N5/1084 , A61N2005/1091 , A61N2005/1095 , G21K1/046 , G21K5/04 , G21K2201/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： An X-ray system is arranged for providing X-ray exposure to a target volume. The aforesaid X-ray system comprises an X-ray source and at least one focusing lens. The provided exposure is distributed over a volume of the target in a substantially uniform manner.
摘要翻译：布置X射线系统以提供对目标体积的X射线曝光。上述X射线系统包括X射线源和至少一个聚焦透镜。所提供的曝光以基本均匀的方式分布在目标体积上。

9. 发明申请

WO2011097115A1 MULTI-BEAM X-RAY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：多波束X射线系统
公开(公告)号：WO2011097115A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/US2011/022724
申请日：2011-01-27
申请人： RIGAKU INNOVATIVE TECHNOLOGIES, INC , VERMAN, Boris , YOUNG, Michael , JIANG, Licai
发明人： VERMAN, Boris , YOUNG, Michael , JIANG, Licai
IPC分类号： G21K1/06 , H05G1/02
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： A multi-beam x-ray system includes an x-ray source (24) which emits x-rays and a housing with a first part and a second part. The second part is moveable relative to the first part and includes a plurality of optics (20, 22, 120, 122) of different performance characteristics. Each optic, through the movement of the second part relative to the first part, is positioned to a working position so that the optic receives the x-rays from the x-ray source and directs the x-rays with the desired performance attributes to a desired location (30).
摘要翻译：多光束X射线系统包括发射x射线的X射线源（24）和具有第一部分和第二部分的壳体。第二部分可相对于第一部分移动，并且包括具有不同性能特征的多个光学器件（20,22，120，122）。每个光学元件通过第二部分相对于第一部分的移动被定位到工作位置，使得光学器件接收来自x射线源的x射线，并将具有所需性能属性的x射线引导到所需位置（30）。

10. 发明申请

WO2011081182A1 反射面形状制御ミラー装置及び反射面形状制御ミラーの製造方法审中-公开
标题翻译：用于控制反射表面的形状的镜子装置和用于产生用于控制反射表面的形状的镜子的方法
公开(公告)号：WO2011081182A1
公开(公告)日：2011-07-07
申请号：PCT/JP2010/073716
申请日：2010-12-28
申请人：株式会社ジェイテック , 国立大学法人大阪大学 , 山内和人 , 木村隆志 , 津村尚史
发明人：山内　和人 , 木村　隆志 , 津村　尚史
IPC分类号： G21K1/06 , G02B5/10
CPC分类号： G21K1/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067 , Y10T29/42
摘要：【課題】　熱膨張係数の異なる材質の積層構造で、ミラー製造時の温度差に起因する歪による表面形状の加工誤差と、ナノ集光作業時の設置環境条件に起因する歪による表面形状の誤差を解消し、ｎｍオーダーの形状精度を実現し、Ｘ線ビームを理想波面に変更し、また焦点距離可変な反射面形状制御ミラー装置を提供する。【解決手段】　基板１の表面中央部に帯状のＸ線反射面２を形成し、Ｘ線反射面の両側に沿って基準平面３を形成し、基板の両側部で少なくとも表裏一面に複数の圧電素子４をＸ線反射面の長手方向に並べて基板に接合した反射面形状制御ミラーと、各圧電素子に電圧を印加する多チャンネルのコントロールシステムとからなる。
摘要翻译：提供了一种用于控制反射表面形状的反射镜装置，其具有由具有不同热膨胀系数的材料形成的层压结构; 消除了由于反射镜制造期间的温度差引起的变形而引起的表面形状的处理误差，以及由纳米光聚焦过程中的安装环境条件引起的变形引起的表面形状误差 ; 达到nm阶形状精度; 将X射线束变为理想波前; 并可以改变焦距。该装置由以下部件构成：用于控制在基板（1）的表面的中心形成带状X射线反射面（2）的反射面的形状的反射镜，基准面（3）沿着X射线反射面的两侧形成，并且多个压电元件（4）沿着X射线反射器的长度方向接合并布置在基板的正面和背面以及沿着基板的整个边缘表面; 以及向每个压电元件（4）施加电压的多通道控制系统。

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