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1. 发明申请

WO2015150301A1 VERFAHREN ZUM JUSTIEREN EINES SPIEGELS EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法用于调整的微光刻投射曝光装置的反射镜的
公开(公告)号：WO2015150301A1
公开(公告)日：2015-10-08
申请号：PCT/EP2015/056843
申请日：2015-03-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , HETZLER, Jochen
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , HETZLER, Jochen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B5/09 , G03F7/70233 , G03F7/70258 , G03F7/706
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein erfindungsgemäßes Verfahren folgende Schritte auf: Aufnehmen eines ersten Teil-Interferogramms zwischen einer an einem ersten Spiegelsegment (101) reflektierten Welle und einer an einer Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Aufnehmen eines zweiten Teil- Interferogramms zwischen einer an einem zweiten Spiegelsegment (102) reflektierten Welle und einer an der Referenzfläche (110, 310, 510) reflektierten Referenzwelle, Ermitteln eines Phasenversatzes zwischen dem ersten Teil-Interferogramm und dem zweiten Teil-Interferogramm, und Justieren des ersten Spiegelsegments (101) und des zweiten Spiegelsegments (102) zueinander auf Basis des ermittelten Phasenversatzes derart, dass der Abstand der betreffenden Spiegelsegmente (101, 102) in Richtung der jeweiligen Oberflächennormalen von einer fiktiven, vorgegebenen Sollfläche in jedem Punkt auf den Spiegelsegmenten kleiner ist als λ/10, wobei λ die Arbeitswellenlänge bezeichnet.
摘要翻译：本发明涉及一种用于调节微光刻投射曝光设备的水平的方法。根据本发明的一个方面，根据本发明的方法包括以下步骤：在第一反射镜部段（101）接收之间干涉的第一部分反射波和上基准表面（110，310，510）所反射的参考波，接收第二部分在第二反射镜部段（102）之间的干涉反射的参考表面上的波和一个（110，310，510）所反射的参考波，检测相位的第一干涉和第二部分干涉，并且第一反射镜区段的调整之间的偏移量（101 ）和这样确定的第二反射镜部段（102），以彼此的相位的偏移量的基础上，在各表面法线在上反射镜区段的每个点的虚构预定目标区域的方向上的相应的反射镜部分（101，102）的距离小于λ/ 10 其中bezeλ为工作波长 ichnet。

2. 发明申请

WO2009007087A9 OPTICAL ELEMENT AND METHOD OF CALIBRATING A MEASURING APPARATUS COMPRISING A WAVE SHAPING STRUCTURE 审中-公开
公开(公告)号：WO2009007087A9
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005547
申请日：2008-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
发明人： HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： B24B13/06
摘要： An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.

3. 发明申请

WO2005114101A1 METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：制造光学元件的方法
公开(公告)号：WO2005114101A1
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：PCT/EP2004/005194
申请日：2004-05-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNOLD, Ralf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEDER, Susanne
发明人： ARNOLD, Ralf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEDER, Susanne
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2441
摘要： A method of manufacturing an optical element (5) includes testing the optical element (5) by using an interferometer optics (1) generating a beam (13) of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element (5). The interferometer optics (1) comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element (5). Further, a method of calibrating the interferometer optics (1) includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam (13) of measuring light generated by the interferometer optics (1) and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics (1).
摘要翻译：制造光学元件（5）的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件（5）的子孔径的光的光束（13）的干涉仪光学元件（1）来测试光学元件（5）。干涉仪光学器件（1）包括全息图。将子孔径测量的结果缝合在一起以获得关于光学元件（5）的整个表面的测量结果。此外，校准干涉仪光学器件（1）的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖光束（13）的全横截面的子孔径的测量由干涉仪光学器件产生的光的全息图（ 1）并且将子孔径测量结合在一起以获得指示干涉仪光学器件（1）的全部横截面的结果。

4. 发明申请

WO2004046641A1 VERFAHREN ZUM KALIBRIEREN EINES INTERFEROMETERS, VERFAHREN ZUM QUALIFIZIEREN EINES OBJEKTS UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OBJEKTS 审中-公开
标题翻译：程序用于校准干涉，方法符合条件的对象及其制造方法的对象
公开(公告)号：WO2004046641A1
公开(公告)日：2004-06-03
申请号：PCT/EP2002/013091
申请日：2002-11-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEIERSDÖRFER, Susanne , SCHULTE, Stefan
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEIERSDÖRFER, Susanne , SCHULTE, Stefan
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02072 , G01B9/02039 , G01M11/005
摘要： Es wird ein Verfahren zum Kalibrieren eines Interferometers mit einem Kompensationssystem zur Vermessung einer asphärischen Oberfläche vorgeschlagen, welches umfasst: Bereitstellen des Interferometers (1) mit dem Kompensationssystem (25). Anordnen einer Referenzoptik-Baugruppe (29), welche einen Spiegel (37) mit einer vorbestimmten Spiegelfläche und ein von der Spiegelfläche (37) separates vorbestimmtes Diffraktionsmuster (39) Überlagern der zurücklaufenden Wellenfronten nach deren Durchlaufen des Kompensationssystems (25) mit einer Referenzwellenfront zu einem Interferenzmuster, und Bestimmen von optischen Eigenschaften des Interferometers (1) und des Kompensationssystems (25) aus dem Interferenzmuster.
摘要翻译：建议用的补偿系统，用于测量非球面表面，用于校准的干涉仪的方法，包括：提供所述干涉仪（1）到补偿系统（25）。布置参比光学装置组件（29），其包括具有预定反射镜表面和从反射镜表面（37）的反射镜（37）分开的预定的衍射图案（39）通过所述补偿系统（25）与参考波阵面到叠加其通过后返回的波前干涉图案，以及确定干涉仪（1）和从所述干涉图案的补偿系统（25）的光学特性。

5. 发明申请

WO2012103933A1 METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING ERRORS IN AN EUV LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于校正非线性光刻系统中的误差的方法和装置
公开(公告)号：WO2012103933A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/EP2011/051374
申请日：2011-02-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PIXER TECHNOLOGY LTD. , MENGEL, Markus , STICKEL, Franz-Josef , WEGMANN, Ulrich , DÖRBAND, Bernd , OSHEMKOV, Sergey
发明人： MENGEL, Markus , STICKEL, Franz-Josef , WEGMANN, Ulrich , DÖRBAND, Bernd , OSHEMKOV, Sergey
IPC分类号： B23K26/00 , G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70591 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/52 , G03F1/60 , G03F1/72 , G03F7/70316
摘要： The invention relates to a method for correcting a local surface defect (430, 440, 530, 540) of a reflective optical element (170, 171, 172, 173, 74, 175, 200, 300, 400, 500, 700, 800) of an extreme ultraviolet lithography system (100) comprises the steps of analyzing the local surface defect (430, 440, 530, 540), correcting the local surface defect (430, 440, 530, 540) by focusing femto- or picosecond light pulses of a laser system (600) onto positions of the local surface defect (430, 440, 530, 540), and verifying that a wave front sensor (190) associated with the extreme ultraviolet lithography system (100) can no longer detect the local surface defect (430, 440, 530, 540).
摘要翻译：本发明涉及一种校正反射光学元件（170,171,172,173,74,175,200,300,400,500,700,800）的局部表面缺陷（430,440,530,540）的方法，）包括以下步骤：通过聚焦毫微微秒或皮秒光来分析局部表面缺陷（430,440,530,540），校正局部表面缺陷（430,440,530,540）激光系统（600）的脉冲到局部表面缺陷（430,440,530,540）的位置，并且验证与极紫外光刻系统（100）相关联的波前传感器（190）不能再检测到局部表面缺陷（430,440,530,540）。

6. 发明申请

WO2008110239A1 DIFFRACTIVE COMPONENT, INTERFEROMETER ARRANGEMENT, METHOD FOR QUALIFYING A DUAL DIFFRACTION GRATING, METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT, AND INTERFEROMETRIC METHOD 审中-公开
标题翻译：衍射成分，干涉仪布置，双折射光栅的鉴定方法，制造光学元件的方法和干涉法
公开(公告)号：WO2008110239A1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：PCT/EP2008/001022
申请日：2008-02-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHULTE, Stefan , HETZLER, Jochen , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias , DÖRBAND, Bernd
发明人： SCHULTE, Stefan , HETZLER, Jochen , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/18 , G02B5/32
CPC分类号： G02B27/4233 , G01N21/4788 , G01N2021/4792 , G02B5/1819 , G02B5/1823 , G02B27/4261
摘要： A diffractive component comprises a grating (25) including plural regions (A, A', B) of different types, wherein the gratings in the different regions differ with respect to lattice period and orientation. The different regions can be arranged according to an irregular pattern. Further, the gratings of the different types can be inverse to each other, or parameters of grating forming structures can vary between regions of the different types. A structural parameter of a dual grating is determined using a first phase function of the dual grating. A deviation of a surface of an optical element from a target surface is determined in an interferometric measurement using a second phase function of the dual grating taking into account the determined structural parameter of the grating. In an interferometric method using a diffraction grating harbouring different phase functions in different types of regions arranged in a superlattice for measuring a surface of an object perturbing superlattice diffraction orders are destructively interfered by adapting the diffraction grating having a periodicity of the superlattice that varies across the grating.
摘要翻译：衍射分量包括包括不同类型的多个区域（A，A'，B）的光栅（25），其中不同区域中的光栅相对于晶格周期和取向不同。可以根据不规则图案布置不同的区域。此外，不同类型的光栅可以彼此相反，或者光栅形成结构的参数可以在不同类型的区域之间变化。使用双光栅的第一相位函数来确定双光栅的结构参数。考虑到确定的光栅的结构参数，使用双光栅的第二相位函数在干涉测量中确定光学元件与目标表面的偏差。在使用在布置在超晶格中的不同类型的区域中具有不同相位函数的衍射光栅的干涉测量方法中，用于测量物体扰动超晶格衍射级的表面的衍射光栅通过使具有超过晶格周期性变化的周期性的衍射光栅受到破坏性干扰光栅。

7. 发明申请

WO2003002933A1 INTERFEROMETERSYSTEM, VERFAHREN ZUM AUFNEHMEN EINES INTERFEROGRAMMS UND VERFAHREN ZUM BEREITSTELLEN UND HERSTELLEN EINES OBJEKTS MIT EINER SOLL-OBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：干涉，方法用于记录的干涉和方法与目标表面提供和制造物体
公开(公告)号：WO2003002933A1
公开(公告)日：2003-01-09
申请号：PCT/EP2002/007080
申请日：2002-06-26
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SCHULTE, Stefan , DÖRBAND, Bernd , MÜLLER, Henriette , KÄHLER, Wolfgang
发明人： SCHULTE, Stefan , DÖRBAND, Bernd , MÜLLER, Henriette , KÄHLER, Wolfgang
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02057 , G01B9/02004 , G01B9/02039 , G01B9/02059 , G01B9/02069 , G01B9/02072 , G01B11/2441 , G01B11/306
摘要： Es wird ein Interferometersystem vorgeschlagen umfassend eine Referenzfläche, eine Halterung für ein eine Objektfläche bereitstellendes Objekt, eine Strahlungsquelle zur Emission von Strahlung einer einstellbaren Frequenz auf die Referenzfläche und die Objektfläche, und einen ortsauflösenden Strahlungsdetektor sowie ferner eine Steuerung zum Einstellen einer Mehrzahl verschiedener Frequenzen der von der Strahlungsquelle emittierten Strahlung, und einen Integrator, um die bei verschiedenen Frequenzen auf dem Strahlungsdetektor überlagerten Interferenzmuster ortsabhängig zu mitteln. Weiters wird vorgeschlagen, ein Verfahren zum Aufnehmen eines Interferogramms, ein Verfahren zum Bereitstellen eines Objekts mit einer Soll-Oberfläche sowie ein Verfahren zum Herstellen eines Objekts mit einer Soll-Oberfläche.
摘要翻译：所以建议包括参考表面，对于一个物体的表面提供对象，用于发射的可变频率参考表面和所述对象的辐射表面上的干涉仪的辐射源的保持器，和一个位置敏感辐射检测器，并且还包括用于设置多个不同频率的控制器发射的辐射的辐射源，以及一个积分器，以叠加在不同的频率干涉图案取决于位置的放射线检测器上被平均。此外，对于接收的干涉图的方法，用于提供对象与目标表面和用于制造具有目标表面的对象的方法提出了一种方法。

8. 发明申请

WO2013037563A1 VORRICHTUNGEN ZUR SCHICHTDICKENBESTIMMUNG UND/ODER ZUR BESTIMMUNG EINES VERSCHMUTZUNGSGRADS EINES BANDES 审中-公开
标题翻译：进行厚度测定设备和/或确定污染程度为带
公开(公告)号：WO2013037563A1
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/EP2012/065162
申请日：2012-08-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DÖRBAND, Bernd , LINDNER, Ralf
发明人： DÖRBAND, Bernd , LINDNER, Ralf
IPC分类号： G01N21/94
CPC分类号： G01B11/06 , G01N21/89 , G01N21/94 , G01N2021/8908
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1a) zur Bestimmung einer Schichtdicke (d) an einem entlang einer Vorschubrichtung bewegten Band (8), umfassend: eine Bewegungseinheit (9) zur Bewegung des Bandes (8) entlang der Vorschubrichtung, eine Lichterzeugungseinheit (2a bis 2c) zur Erzeugung von Beleuchtungsstrahlung (3), eine der Lichterzeugungseinheit (2a bis 2c) nachgeordnete Strahlformungseinheit (4) zur Formung mindestens eines streifenförmigen Beleuchtungsstrahls (7) zur linienförmigen Beleuchtung des Bandes (8) quer zur Vorschubrichtung, eine Detektoreinheit (5) zur Detektion von an dem Band (8) reflektierter und/oder transmittierter Beleuchtungsstrahlung (R), sowie eine Auswerteeinrichtung (6) zur Bestimmung der Schichtdicke (d) anhand der detektierten Beleuchtungsstrahlung (R). Die Vorrichtung (1a) kann auch zur Bestimmung eines Verschmutzungsgrads einer durch Partikel verunreinigten Oberfläche des Bandes genutzt werden, indem an dem Band (8) gestreute Beleuchtungsstrahlung detektiert wird.
摘要翻译：本发明涉及一种设备（1A），用于在沿进给带（8）的方向移动的确定的层厚度（d），包括：移动单元，用于将带（8）沿进给方向，光生成单元（2A移动至2c（9））（对于照明辐射（3代），光产生单元中的一个（2a至2c），其布置形成单元4）（以形成至少一个带状照明光束7）（用于带8的线性照明）横向于输送方向，检测器单元束的下游（5），用于检测的磁带（8）的反射和/或透射的照明辐射（R），以及用于基于所检测到的照明辐射（R）的层厚度（d）的评价装置（6）的。的装置（1a）中，也可用于通过向被检测到（8）的散射的照射辐射的带确定所述带的污染颗粒通过表面的污染程度。

9. 发明申请

WO2011032572A1 METHOD OF MEASURING A SHAPE OF AN OPTICAL SURFACE AND INTERFEROMETRIC MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：测量光学表面和干涉测量装置形状的方法
公开(公告)号：WO2011032572A1
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/EP2009/006754
申请日：2009-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHULTE, Stefan , HOF, Albrecht , RIEPENHAUSEN, Frank , MANGER, Matthias , NEUGEBAUER, Dietmar , ISSLER, Helmut , BICH, Armin
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHULTE, Stefan , HOF, Albrecht , RIEPENHAUSEN, Frank , MANGER, Matthias , NEUGEBAUER, Dietmar , ISSLER, Helmut , BICH, Armin
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G02B26/06 , G01M11/02
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B2290/15 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B3/02 , G02B5/10
摘要： A method of measuring a shape of an optical surface (14) of a test object (12) is provided. The method comprises the steps of: providing an interferometric measuring device (16) generating a measurement wave (18), arranging the interferometric measuring device (16) and the test object (12) consecutively at different measurement positions relative to each other, such that different regions (20) of the optical surface (14) are illuminated by the measurement wave (18), measuring the positional coordinates of the measuring device (16) at the different measurement positions in relation to the test object (12), obtaining surface region measurements by interferometrically measuring the wavefront of the measurement wave (18) after interaction with the respective region (20) of the optica! surface (14) using the measuring device (16) in each of the measurement positions, and determining the actual shape of the optical surface (14) by computationally combining the sub-surface measurements based on the measured positional coordinates of the interferometric measuring device (16) at each of the measurement positions.
摘要翻译：提供了一种测量被测物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波的干涉测量装置（16），将干涉测量装置（16）和测试对象（12）相对于彼此连续地布置在不同的测量位置，使得通过测量波（18）照射光学表面（14）的不同区域（20），测量相对于测试对象（12）的不同测量位置处的测量设备（16）的位置坐标，获得表面通过在与光学器件的相应区域（20）相互作用之后通过干涉测量测量波（18）的波前进行区域测量。在每个测量位置中使用测量装置（16）的表面（14），并且通过基于所测量的干涉测量装置的位置坐标（基于所述测量装置的测量位置坐标）计算地组合所述子表面测量来确定所述光学表面（14）的实际形状 16）在每个测量位置。

10. 发明申请

WO2009007087A1 OPTICAL ELEMENT AND METHOD OF CALIBRATING A MEASURING APPARATUS COMPRISING A WAVE SHAPING STRUCTURE 审中-公开
标题翻译：光学元件和校准包含波形结构的测量装置的方法
公开(公告)号：WO2009007087A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005547
申请日：2008-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
发明人： HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： B24B13/06
CPC分类号： G01B9/021 , G01B9/02039 , G01B11/2441 , G01M11/025 , G01M11/0271 , Y10T29/49771
摘要： An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.
摘要翻译：光学元件具有光学表面，该光学表面适于非球形目标形状，使得光学表面的实际形状相对于目标形状的长波变化被限制为最大值0， 2nm，其中长波变化仅包括具有等于或大于10mm的最小空间波长的空间波长的振荡。

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