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    • 4. 发明申请
    • BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT AXIKON-MODUL
    • 与锥镜组件照明系统
    • WO2004102273A2
    • 2004-11-25
    • PCT/EP2004/004004
    • 2004-04-16
    • CARL ZEISS SMT AGSCHULTZ, Jörg
    • SCHULTZ, Jörg
    • G03F7/00
    • G02B27/286G02B5/001G03F7/70108G03F7/70566
    • Beleuchtungssystem (1) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem Axikon-Modul (3) zur Erzeugung einer Beleuchtungsverteilung mit einem zentralen Intensitätsminimum. Das Axikon-Modul (3) weist ein erstes Axikonelement (5) mit einer ersten Axikonfläche (11) und ein dem ersten Axikonelement (5) zugeordnetes zweites Axikonelement (7) mit einer zweiten Axikonfläche (13) auf. Das Beleuchtungssystem (1) weist weiterhin ein erstes polarisationsbeeinflussendes optisches Element (15) auf, welches in Lichtrichtung vor dem ersten Axikonelement (5) angeordnet ist und derart aufgebaut ist, dass auf die Axikonflächen (11, 13) treffende Strahlen (19) annähernd senkrecht oder annähernd parallel zur jeweiligen Einfallsebene der Strahlen (19) polarisiert sind.
    • 该照明系统(1),用于与旋转三棱镜模块(3),用于产生具有中心强度最小值的照度分布的微光刻投射曝光系统。 展像模块(3)具有:(5)具有第一Axikonfläche(11)和(7)具有第二Axikonfläche(13)(5)相关联的第二Axikonelement第一Axikonelement第一Axikonelement。 的照明系统(1)还包括被所述第一Axikonelement(5)之前布置在光方向和被构造成第一偏振影响光学元件(15),所述Axikonflächen(11,13)碰撞射流(19)大致垂直 被极化或大致平行于所述梁(19)的入射相应平面。