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1. 发明申请

WO2007093436A1 OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微电子投影曝光装置照明系统的光学积分器
公开(公告)号：WO2007093436A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001370
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
发明人： WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , G03F7/70075 , Y10T83/0304 , Y10T83/04
摘要： An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V 1 to V 4 ). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.
摘要翻译：一种用于在微光刻投影曝光装置的照明系统中制造多个次级光源的光学积分器，包括在第一平面中并排设置并具有第一顶点线的第一阵列的细长的凸形弯曲的第一微透镜（112X） V）。光学积分器还包括细长的凸形弯曲的第二微透镜（114X; 214X）的第二阵列，所述第二阵列在第二平面中并排布置，并且具有第二顶点线（V SUB 1至V 4））。在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶点线或其一部分与第一顶点线（V）中的任何一个或其部分不一致。

2. 发明申请

WO2006074812A2 ILLUMINATION SYTSEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2006074812A2
公开(公告)日：2006-07-20
申请号：PCT/EP2005/014122
申请日：2005-12-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , BADER, Dieter , WANGLER, Johannes , DEGÜNTHER, Markus
发明人： SINGER, Wolfgang , BADER, Dieter , WANGLER, Johannes , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： An illumination system (12) of a microlithographic exposure system comprises a plurality of light emitting elements (24) that have light exit facets that are-positioned in or in close proximity to à field plane (OP) or a pupil plane and are configured to be individually activated. Light collecting elements, for example microlenses of a fly-eye lens or arrays of cylinder lenses, may be used to collect the light bundles emitted by the light' emitting elements (24). Homogenizing means, for example a rod integrator or an optical raster element (40), may be provided for improving the intensity uniformity in a reticle plane (RP).
摘要翻译：微光刻曝光系统的照明系统（12）包括多个发光元件（24），所述多个发光元件（24）具有光出射面，所述光出射面位于或平行于à场平面（OP）或瞳平面并被配置为单独激活。集光元件，例如蝇眼透镜的微透镜或圆柱透镜阵列可以用于收集由光发射元件（24）发射的光束。可以提供均匀化装置，例如棒状积分器或光学光栅元件（40），以改善光罩平面（RP）中的强度均匀性。

3. 发明申请

WO2005078522A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2005078522A2
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：PCT/EP2005/001501
申请日：2005-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHOLZ, Axel , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes
发明人： FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHOLZ, Axel , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/7015 , G03B27/54 , G03F7/70075 , G03F7/70108
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure step-and-scan apparatus has a light source (14), a first optical raster element (62; 62'; 62''; 62''') and a second optical raster element (64; 90; 90''; 100). The first optical raster element extends in a first pupil plane (28) of the illumination system (10) and is designed such that the geometrical optical flux of the system is increased perpendicular to a scan direction of the projection exposure apparatus. The second optical raster element extends in a second pupil plane (28) of the illumination system, which is not necessarily different from the first pupil plane (28), and is designed such that the geometrical optical flux of the system is increased in the scan direction and perpendicular thereto. This allows to improve the irradiance uniformity in a reticle plane (46).
摘要翻译：一种用于微光刻投影曝光步进扫描装置的照明系统具有光源（14），第一光栅元件（62; 62'; 62“，62”'）和第二光栅元件（64 ; 90; 90“; 100）。第一光栅元件在照明系统（10）的第一光瞳平面（28）中延伸，并被设计成使得系统的几何光通量垂直于投影曝光设备的扫描方向增加。第二光栅元件在照明系统的第二光瞳平面（28）中延伸，其不一定与第一光瞳平面（28）不同，并且被设计成使得在扫描中系统的几何光通量增加方向并与其垂直。这允许改进掩模版平面（46）中的辐照度均匀性。

4. 发明申请

WO2004034146A3 LIGHTING SYSTEM COMPRISING A DEVICE FOR ADJUSTING THE LIGHT INTENSITY 审中-公开
标题翻译：带有用于调整光强度的装置的照明系统
公开(公告)号：WO2004034146A3
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：PCT/EP0309370
申请日：2003-08-23
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOACHIM , MAUL MANFRED , WEISS MARKUS
发明人： SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOACHIM , MAUL MANFRED , WEISS MARKUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to a lighting system for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统从辐射源到物体平面的方向具有光强度; 第一光学部件，其至少包括具有多个光栅元件的第一光学元件，其中所述第一光学元件布置在所述辐射源与所述物平面之间的所述光束路径中; 其特征在于，提供用于调节<= 157nm波长的光强度的装置，其被设置在从辐射源到辐射源与第一光学元件之间的物平面的光路中。

5. 发明申请

WO2004031854A3 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE WELLENLÄNGE ≤ 193 NM MIT SENSOREN ZUR BESTIMMUNG DER AUSLEUCHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2004031854A3
公开(公告)日：2004-04-15
申请号：PCT/EP2003/010605
申请日：2003-09-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML Netherlands B.V. , SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , WANGLER, Johannes , WEISS, Markus , BANINE, Vadim, Yevgenyevich , DIERICHS, Marcel , MOORS, Roel , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , WANGLER, Johannes , WEISS, Markus , BANINE, Vadim, Yevgenyevich , DIERICHS, Marcel , MOORS, Roel , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für Wellenlängen ≤ 193 nm, wobei das Beleuchtungssystem eine Lichtquelle umfasst, die in einer Ebene eine vorbestimmte Ausleuchtung zur Verfügung stellt und a) eine erste optische Komponente mit ersten Rasterelementen, wobei die ersten Rasterelemente auf einem Trägerelement angeordnet sind und die erste optische Komponente in oder nahe der Ebene, in der die Ausleuchtung zur Verfügung gestellt wird, angeordnet ist. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass i) auf dem Trägerelement der ersten optischen Komponente mindestens ein Sensor zur Detektion von auf das Trägerelement auftreffendem Licht angeordnet ist. ii) Spiegel des Beleuchtungssystems durch Auswertung der Sensorsignale so gestellt werden, dass die Lage und Stärke der Beleuctung konstant gehalten werden.

6. 发明申请

WO0227400A3 ILLUMINATION SYSTEM PARTICULARLY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统特别适用于微晶
公开(公告)号：WO0227400A3
公开(公告)日：2002-07-11
申请号：PCT/EP0111233
申请日：2001-09-28
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
发明人： ANTONI MARTIN , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES
IPC分类号： F21V5/00 , F21V7/00 , F21V13/04 , G02B13/18 , G02B17/00 , G02B17/08 , G02B19/00 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/04 , H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/06 , G21K2201/064
摘要： The invention concerns an illumination system, particularly for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种照明系统，特别是对于波长为193nm的微光刻技术，包括：初级光源（8201,8401）; 第一光学部件; 第二光学部件（8221,8421）; 图像平面（8229,8429）; 和出生瞳孔（8233,8433）; 其中所述第一光学部件将所述初级光源（8201,8401）转换成由所述出射光瞳（8233,8433）中的所述第二光学部件（8221,8221）成像的多个次级光源，其中所述第一光学部件包括具有多个第一光栅元件（8209,8409）的第一光学元件，其被成像到所述图像平面（8229,8429）中，产生至少部分地叠加在所述图像平面中的场上的多个图像（8229,8409） 8429），其中所述第二光学部件（8221,8421）包括第一光学系统，其包括具有正光焦度的至少第三场反射镜（8225,8425）和包括至少第二场反射镜（8223,8423）的第二光学系统），其中所述第一光学系统在所述第一光学系统和所述第二光学系统之间的平面中对所述多个次级光源进行成像，形成多个第三光源并且其中所述第二图像表示所述出射光瞳中的多个第三光源。

7. 发明申请

WO2011012485A1 OPTISCHES SYSTEM ZUM ERZEUGEN EINES LICHTSTRAHLS ZUR BEHANDLUNG EINES SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：光学系统，用于产生射束处理衬底
公开(公告)号：WO2011012485A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/060417
申请日：2010-07-19
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , MUENZ, Holger , MERKEL, Wolfgang , FIOLKA, Damian , WANGLER, Johannes
发明人： MUENZ, Holger , MERKEL, Wolfgang , FIOLKA, Damian , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/48
CPC分类号： G02B19/0014 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0604 , B23K26/0622 , B23K26/0676 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , G02B19/0052 , G02B19/0095 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , G02B27/0972
摘要： Ein optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines in einer Substrat ebene (14) angeordneten Substrats, wobei der Lichtstrahl in einer ersten Dimension (X) senkrecht zur Ausbreitungsrichtung (Z) des Lichtstrahls eine Strahllänge (L) und in einer zweiten Dimension (Y) senkrecht zur ersten Dimension (X) und zur Lichtausbreitungsrichtung (Z) eine Strahlbreite (B) aufweist, weist zumindest eine mischende optische Anordnung (18) auf, die den Lichtstrahl in zumindest einer der ersten und zweiten Dimension in eine Mehrzahl von Lichtpfaden (24a-c) aufteilt, die einander überlagert in die Substratebene (14) einfallen. Es ist zumindest eine die Kohärenz beeinflussende optische Anordnung im Strahlengang des Lichtstrahls vorhanden, die auf den Lichtstrahl so wirkt, dass der Kohärenzgrad des Lichts für zumindest einen Lichtpfadabstand eines Lichtpfades von zumindest einem anderen Lichtpfad zumindest verringert ist.
摘要翻译：用于在衬底中产生用于治疗的平面的光束的光学系统（14）布置在所述衬底上，其中在第一维度（X）垂直于所述光束，光束长度（L）的传播方向（Z）的光束和在第二维度（Y ）垂直（于第一维度X）和（与光传输方向Z）具有的波束宽度（B），具有至少一个混合光学装置（18）在第一和第二维度中的至少一个光束分割成多个（的光路24a中 c）中分离入射在基片平面（14彼此叠加）。有在光束存在的光路中，其作用于光的光束，该光对于至少一个其他光路的光路中的至少一个光路距离的相干度至少减少至少一种一致性影响光学装置。

8. 发明申请

WO2009080279A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009080279A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/EP2008/010801
申请日：2008-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
发明人： LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/105 , G03F7/70116 , G03F7/7055 , G03F7/70583
摘要： A projection exposure apparatus for microlithography comprises illumination optics for illuminating object field points of an object field in an object plane. The illumination optics have, for each object field point of the object field, an exit pupil associated with the object point, wherein sin(γ) is a greatest marginal angle value of the exit pupil, and wherein the illumination optics comprise a multi-mirror array (38) comprising a plurality of mirrors (38s) for adjusting an intensity distribution in exit pupils associated to the object field points. The illumination optics further contain at least one optical system (33a; 33b,; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203) for temporally stabilising the illumination of the multi-mirror array (38) so that, for each object field point, the intensity distribution in the associated exit pupil deviates from a desired intensity distribution in the associated exit pupil in the case of a centroid angle value sin(β) by less than 2% expressed in terms of the greatest marginal angle value sin(γ) of the associated exit pupil and/or, in the case of ellipticity by less than 2%, and/or in the case of a pole balance by less than 2%.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光装置包括用于照射物平面中的物场的对象场点的照明光学装置。对于物场的每个物场点，照明光学器件具有与对象点相关联的出射光瞳，其中sin（θ）是出射光瞳的最大边缘角度值，并且其中照明光学器件包括多镜阵列（38）包括用于调整与对象场点相关联的出射光瞳中的强度分布的多个反射镜（38s）。照明光学器件进一步包含至少一个光学系统（33a; 33b;; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203），用于暂时稳定多镜阵列（38）的照明，在每个对象场点处，相关联的出射光瞳中的强度分布在相关出射光瞳中偏离期望的强度分布，在重心角度值sin（ß）小于2％的情况下，以最大边角值表示相关联的出射光瞳的sin（θ）和/或在椭圆率小于2％的情况下，和/或在极平衡小于2％的情况下。

9. 发明申请

WO2008095695A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERWACHUNG VON MEHRFACHSPIEGELANORDNUNGEN IN EINEM BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： METHOD AND APPARATUS FOR IN的微光刻投射曝光设备的照明系统的监控多个MIRROR ARRANGEMENTS
公开(公告)号：WO2008095695A2
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/EP2008/000920
申请日：2008-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
发明人： XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备（10）的照明系统（12）具有用于光瞳表面的可变照明光瞳表面及实质呈平面排列优选单独可控光束偏转元件（28）。由每个光束偏转元件（28），可以实现施加的控制信号，在其上投影光束（32）入射的响应于所述梁部件（28）的偏转的偏转。的测量照明装置（54，56，58，60; 88; 90; 98）从投射光束建立（32）独立的测量光束（36）的光束偏转元件（28）。的检测装置检测的测量光束（38）由所述光束偏转元件（28）的偏转。评估单元确定由检测器提供的投影光束（32）的偏转装置的测量信号。

10. 发明申请

WO2006074812A3 ILLUMINATION SYTSEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2006074812A3
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/EP2005014122
申请日：2005-12-30
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , BADER DIETER , WANGLER JOHANNES , DEGUENTHER MARKUS
发明人： SINGER WOLFGANG , BADER DIETER , WANGLER JOHANNES , DEGUENTHER MARKUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： An illumination system (12) of a microlithographic exposure system comprises a plurality of light emitting elements (24) that have light exit facets that are-positioned in or in close proximity to à field plane (OP) or a pupil plane and are configured to be individually activated. Light collecting elements, for example microlenses of a fly-eye lens or arrays of cylinder lenses, may be used to collect the light bundles emitted by the light' emitting elements (24). Homogenizing means, for example a rod integrator or an optical raster element (40), may be provided for improving the intensity uniformity in a reticle plane (RP).
摘要翻译：微光刻曝光系统的照明系统（12）包括多个发光元件（24），所述多个发光元件（24）具有光出射面，所述光出射面位于或平行于à场平面（OP）或瞳平面并被配置为单独激活。集光元件，例如蝇眼透镜的微透镜或圆柱透镜阵列可以用于收集由光发射元件（24）发射的光束。可以提供均匀化装置，例如棒状积分器或光学光栅元件（40），以改善光罩平面（RP）中的强度均匀性。

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