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1. 发明专利

TWI699140B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI699140B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW107119404
申请日：2018-06-06
申请人：日商佳能安內華股份有限公司 , CANON ANELVA CORPORATION
发明人：井上忠 , INOUE, TADASHI , 田名部正治 , TANABE, MASAHARU , 関谷一成 , SEKIYA, KAZUNARI , 笹本浩 , SASAMOTO, HIROSHI , 佐藤辰憲 , SATO, TATSUNORI , 土屋信昭 , TSUCHIYA, NOBUAKI
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/36 , H01J37/34

2. 发明专利

TW201904358A 電漿產生器、電漿製程設備以及電力脈衝供應的方法审中-公开
简体标题：等离子产生器、等离子制程设备以及电力脉冲供应的方法
公开(公告)号：TW201904358A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107111399
申请日：2018-03-30
申请人：德商商先創國際股份有限公司 , CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人：舒茲夕巴斯汀哈柏特斯 , SCHULZ, SEBASTIAN HUBERTUS , 沛爾瑙湯瑪斯 , PERNAU, THOMAS , 那把爾弗洛里安 , NACHBAUER, FLORIAN , 華克菲力克斯 , WALK, FELIX
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/36 , H01J37/32
摘要：本發明提出用於向至少兩個製程室脈衝供應具有至少40KHz頻率之電力的電漿產生器以及方法。所述電漿產生器具有以下組件：控制單元，其適於獲得及分析有關所述至少兩個製程室中之製程的製程資料，具有輸出的可調節之供電單元，其適於在其輸出上以響應所述控制單元之控制訊號的方式輸出具有預定之電壓及/或強度的直流電，以及切換單元，其具有第一輸入，所述第一輸入與所述供電單元之輸出連接，並且具有至少兩個切換單元輸出，用於各自與所述至少兩個製程室中之一個連接。其中所述切換單元適於自所述輸入上之直流電形成具有預定之至少40KHz之頻率的交流電作為輸出訊號交流電，並且以響應所述控制單元之控制訊號的方式，將所述輸出訊號作為脈衝選擇性地在預定之脈衝持續時間內輸出至所述切換單元輸出中的一個。所述控制單元適於協調所述至少兩個製程室之功率請求，並且控制供電單元以及切換單元，使得在各與製程室連接之切換單元輸出上皆實質上將與所述功率請求對應之功率在一時間段內作為脈衝提供，其中各製程室之脈衝在時間上相互錯開，使得這些製程室能夠同步工作。
简体摘要：本发明提出用于向至少两个制程室脉冲供应具有至少40KHz频率之电力的等离子产生器以及方法。所述等离子产生器具有以下组件：控制单元，其适于获得及分析有关所述至少两个制程室中之制程的制程数据，具有输出的可调节之供电单元，其适于在其输出上以响应所述控制单元之控制信号的方式输出具有预定之电压及/或强度的直流电，以及切换单元，其具有第一输入，所述第一输入与所述供电单元之输出连接，并且具有至少两个切换单元输出，用于各自与所述至少两个制程室中之一个连接。其中所述切换单元适于自所述输入上之直流电形成具有预定之至少40KHz之频率的交流电作为输出信号交流电，并且以响应所述控制单元之控制信号的方式，将所述输出信号作为脉冲选择性地在预定之脉冲持续时间内输出至所述切换单元输出中的一个。所述控制单元适于协调所述至少两个制程室之功率请求，并且控制供电单元以及切换单元，使得在各与制程室连接之切换单元输出上皆实质上将与所述功率请求对应之功率在一时间段内作为脉冲提供，其中各制程室之脉冲在时间上相互错开，使得这些制程室能够同步工作。

3. 发明专利

TW201830840A 電源裝置审中-公开
简体标题：电源设备
公开(公告)号：TW201830840A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106133608
申请日：2017-09-29
申请人：日商愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中島研也 , NAKASHIMA, KENYA , 大橋童吾 , OOHASHI, DOUGO , 宮野善識 , MIYANO, YOSHINORI , 海田真行 , KAIDA, MASAYUKI
IPC分类号： H02M3/155 , H05H1/36 , H05H1/46
摘要：對起因於負載之變動而變動的電流作限制，而保護半導體開關。將被設置有當被施加有特定之大小之導通電壓時則會導通的開關電路(19)和具有特定之電抗值之副電抗電路(30)的保護電路(14)，與由半導體開關所致之高頻電流所流動的主電抗電路(13)作並聯連接。若是開關電路(19)導通，則主電抗電路(13)和副電抗電路(30)係被作並聯連接，高頻電流係在該並聯連接電路中流動。並聯連接電路之阻抗值，係被設為會成為較主電抗電路(13)之阻抗值而更大，藉由開關電路(19)之導通，電流係成為被作限制，半導體開關係被保護。
简体摘要：对起因于负载之变动而变动的电流作限制，而保护半导体开关。将被设置有当被施加有特定之大小之导通电压时则会导通的开关电路(19)和具有特定之电抗值之副电抗电路(30)的保护电路(14)，与由半导体开关所致之高频电流所流动的主电抗电路(13)作并联连接。若是开关电路(19)导通，则主电抗电路(13)和副电抗电路(30)系被作并联连接，高频电流系在该并联连接电路中流动。并联连接电路之阻抗值，系被设为会成为较主电抗电路(13)之阻抗值而更大，借由开关电路(19)之导通，电流系成为被作限制，半导体开关系被保护。

4. 发明专利

TW201633853A 電漿處理系統中之射頻功率補償用系統、方法及設備审中-公开
简体标题：等离子处理系统中之射频功率补偿用系统、方法及设备
公开(公告)号：TW201633853A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104134602
申请日：2015-10-22
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：微寇爾小約翰 C , VALCORE, JOHN C. JR. , 普瓦尼亨利 , POVOLNY, HENRY
IPC分类号： H05H1/36 , H05H7/02
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32165 , H01J37/32174 , H01J37/32183 , H01J37/32926
摘要：電漿處理系統與方法包含一電漿處理室與一RF傳輸路徑。該電漿處理室包含一靜電夾頭。該RF傳輸路徑包含一或多個RF產生器、耦合至該RF產生器的一匹配電路、及將該匹配電路耦合至該靜電夾頭的一RF饋件。該系統亦包含耦合於該電漿處理室與該RF產生器之間的一RF返回路徑。一電漿處理控制器係耦合至該電漿處理室及該RF傳輸路徑。該控制器包含至少一電漿處理配方用的一配方邏輯及一RF功率補償邏輯，該至少一電漿處理配方包含複數電漿處理設定，該RF功率補償邏輯係用以調整該複數電漿設定中的至少一者。
简体摘要：等离子处理系统与方法包含一等离子处理室与一RF传输路径。该等离子处理室包含一静电夹头。该RF传输路径包含一或多个RF产生器、耦合至该RF产生器的一匹配电路、及将该匹配电路耦合至该静电夹头的一RF馈件。该系统亦包含耦合于该等离子处理室与该RF产生器之间的一RF返回路径。一等离子处理控制器系耦合至该等离子处理室及该RF传输路径。该控制器包含至少一等离子处理配方用的一配方逻辑及一RF功率补偿逻辑，该至少一等离子处理配方包含复数等离子处理设置，该RF功率补偿逻辑系用以调整该复数等离子设置中的至少一者。

5. 发明专利

TW201542042A 對操作電漿製程之系統進行調諧的設備审中-公开
简体标题：对操作等离子制程之系统进行调谐的设备
公开(公告)号：TW201542042A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104122605
申请日：2009-05-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 特多羅法蘭汀 , TODOROW, VALENTIN , 拉馬斯瓦米卡提克 , RAMASWAMY, KARTIK
IPC分类号： H05H1/36 , H01J37/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32146 , H01J37/321 , H01J37/32155 , H01J37/32174
摘要：本發明之實施例大體而言提供一種用於在廣製程窗口(wide process window)內進行脈衝電漿製程之方法及設備。在某些實施例中，一設備可包括一具有調頻之RF電源及一耦接至該RF電源之匹配網路，該RF電源與該匹配網路共用一通用感應器，該通用感應器用於讀取反射回該RF電源之反射RF功率。在某些實施例中，一設備可包括一具有調頻之RF電源、一耦接至該RF電源之匹配網路及一用於調諧各個該RF電源及該匹配網路之通用控制器，該RF電源與該匹配網路共用一通用感應器，該通用感應器用於讀取反射回該RF電源之反射RF功率。
简体摘要：本发明之实施例大体而言提供一种用于在广制程窗口(wide process window)内进行脉冲等离子制程之方法及设备。在某些实施例中，一设备可包括一具有调频之RF电源及一耦接至该RF电源之匹配网络，该RF电源与该匹配网络共享一通用感应器，该通用感应器用于读取反射回该RF电源之反射RF功率。在某些实施例中，一设备可包括一具有调频之RF电源、一耦接至该RF电源之匹配网络及一用于调谐各个该RF电源及该匹配网络之通用控制器，该RF电源与该匹配网络共享一通用感应器，该通用感应器用于读取反射回该RF电源之反射RF功率。

6. 发明专利

TW201412199A 直流電源裝置、直流電源裝置之控制方法审中-公开
简体标题：直流电源设备、直流电源设备之控制方法
公开(公告)号：TW201412199A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102116690
申请日：2013-05-10
申请人：京三製作所股份有限公司 , KYOSAN ELECTRIC MFG. CO., LTD.
发明人：譲原男 , YUZURIHARA, ITSUO , 安達俊幸 , ADACHI, TOSHIYUKI , 小玉真一 , KODAMA, SHINICHI
IPC分类号： H05H1/36
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32027 , H01J37/32045 , H02M3/33507 , H02M3/337 , H02M2001/007 , H05H7/001 , H05H2001/4682
摘要： [課題]在對電漿產生裝置供給直流電力之直流電源裝置中，使產生電漿放電之高壓電壓的裝置構成簡易且小型化。[解決手段]在引燃模式中，藉由進行間歇短路控制而使短路電流流至電流型降壓截波器部。該短路電流之能量係暫時性地被蓄積於電流型降壓截波器部所具備之電感器。被蓄積之能量係在到下一個短路之期間，經其間的電流、多相逆變器部及整流部而使直流電源裝置之輸出電壓升壓。依據使藉由該短路蓄積電流能量，和重複藉由導通使輸出電壓升壓的升壓動作，進行提高施加於電漿產生裝置之輸出電壓的控制。
简体摘要： [课题]在对等离子产生设备供给直流电力之直流电源设备中，使产生等离子放电之高压电压的设备构成简易且小型化。[解决手段]在引燃模式中，借由进行间歇短路控制而使短路电流流至电流型降压截波器部。该短路电流之能量系暂时性地被蓄积于电流型降压截波器部所具备之电感器。被蓄积之能量系在到下一个短路之期间，经其间的电流、多相逆变器部及整流部而使直流电源设备之输出电压升压。依据使借由该短路蓄积电流能量，和重复借由导通使输出电压升压的升压动作，进行提高施加于等离子产生设备之输出电压的控制。

7. 发明专利

TW202004831A 電漿處理裝置审中-公开
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW202004831A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108118213
申请日：2019-05-27
申请人：日商日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：近藤勇樹 , KONDO, YUKI , 横川賢悦 , YOKOGAWA, KENETSU , 森政士 , MORI, MASAHITO , 宇根聡 , UNE, SATOSHI , 中本和則 , NAKAMOTO, KAZUNORI
IPC分类号： H01J37/32 , H01J1/88 , H05H1/36
摘要：提供一種減低有關試料的面內方向的處理的偏差，可使處理的良品率提升的技術。本電漿處理裝置(1)是具備：第1電極(基材(110B))，其係被配置於試料台(110)內；環狀的第2電極(導體環(114))，其係包圍試料台(110)的上面部(310)(介電質膜部(110A))的外周側而配置；介電質製的環狀構件(基座環(113))，其係被配置為覆蓋第2電極，包圍上面部(310)的外周；複數的給電路徑，其係用以從高頻電源供給高頻電力至第1電極及第2電極的各者；及匹配器(117)，其係被配置於往第2電極的給電路徑上。而且，往第2電極的給電系路上的匹配器(117)與第2電極之間的第1處(A1)與接地處之間會經由被設為預定的值的電阻(118)來電性連接。
简体摘要：提供一种减低有关试料的面内方向的处理的偏差，可使处理的良品率提升的技术。本等离子处理设备(1)是具备：第1电极(基材(110B))，其系被配置于试料台(110)内；环状的第2电极(导体环(114))，其系包围试料台(110)的上面部(310)(介电质膜部(110A))的外周侧而配置；介电质制的环状构件(基座环(113))，其系被配置为覆盖第2电极，包围上面部(310)的外周；复数的给电路径，其系用以从高频电源供给高频电力至第1电极及第2电极的各者；及匹配器(117)，其系被配置于往第2电极的给电路径上。而且，往第2电极的给电系路上的匹配器(117)与第2电极之间的第1处(A1)与接地处之间会经由被设为预定的值的电阻(118)来电性连接。

8. 发明专利

TWI586224B 對操作電漿製程之系統進行調諧的設備有权
简体标题：对操作等离子制程之系统进行调谐的设备
公开(公告)号：TWI586224B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104122605
申请日：2009-05-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 特多羅法蘭汀 , TODOROW, VALENTIN , 拉馬斯瓦米卡提克 , RAMASWAMY, KARTIK
IPC分类号： H05H1/36 , H01J37/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32146 , H01J37/321 , H01J37/32155 , H01J37/32174

9. 发明专利

TW201713169A 補償電極改變而供應至電漿炬之電力控制审中-公开
简体标题：补偿电极改变而供应至等离子炬之电力控制
公开(公告)号：TW201713169A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105122468
申请日：2016-07-15
申请人：愛德華有限公司 , EDWARDS LIMITED
发明人：瑪格尼西蒙 , MAGNI, SIMONE , 柏格那傑洛米 , BOEGNER, JEROME , 盧珉京 , NOH, MINKYEONG , 李鎮玉 , LEE, JINOK , 孫志榮 , SON, JIYOUNG
IPC分类号： H05H1/36 , H05H7/02
CPC分类号： H05H1/36
摘要：本發明揭示一種用於使由經組態以將電力供應至一氣體處理系統中之一電漿炬之一電力供應器輸出之電力維持在一預定電力極限內之方法及裝置及一種氣體處理系統。該方法包括：週期性接收指示由該電力供應器輸出之一當前電力之至少一個輸入信號；回應於指示電力輸出已超出一預定值之該至少一個輸入信號而調整該電力輸出，使得該電力輸出在該預定電力極限內；調整該電力輸出之該步驟包括：輸出一控制信號以改變供應至該電漿炬之一源氣體之一流率，其中該改變將使一源氣體流率維持在預定氣體流量極限內；及在該改變將不使該源氣體流率維持在該等預定氣體流量極限內之情況下，輸出一控制信號以改變由該電力供應單元輸出之一電流或電壓中之一者。
简体摘要：本发明揭示一种用于使由经组态以将电力供应至一气体处理系统中之一等离子炬之一电力供应器输出之电力维持在一预定电力极限内之方法及设备及一种气体处理系统。该方法包括：周期性接收指示由该电力供应器输出之一当前电力之至少一个输入信号；回应于指示电力输出已超出一预定值之该至少一个输入信号而调整该电力输出，使得该电力输出在该预定电力极限内；调整该电力输出之该步骤包括：输出一控制信号以改变供应至该等离子炬之一源气体之一流率，其中该改变将使一源气体流率维持在预定气体流量极限内；及在该改变将不使该源气体流率维持在该等预定气体流量极限内之情况下，输出一控制信号以改变由该电力供应单元输出之一电流或电压中之一者。

10. 发明专利

TWI532085B 用於離子植入機之控制模組有权
简体标题：用于离子植入机之控制模块
公开(公告)号：TWI532085B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW101136688
申请日：2012-10-04
申请人：離子束科技公司 , ION BEAM SERVICES
发明人：托瑞葛洛沙法蘭克 , TORREGROSA, FRANK , 洛克斯羅倫 , ROUX, LAURENT
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/67 , H05H1/36 , H05H1/38 , H05H1/54
CPC分类号： H01J37/243 , G01R19/0061 , H01J37/32174 , H01J37/32311 , H01J37/32412 , H01J37/32422 , H01J37/32917 , H01J37/32972

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