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1. 发明专利

TWI534865B 電漿處理裝置、以及高頻產生器有权
简体标题：等离子处理设备、以及高频产生器
公开(公告)号：TWI534865B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW102106111
申请日：2013-02-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：金子和史 , KANEKO, KAZUSHI , 船崎一憲 , FUNAZAKI, KAZUNORI , 加藤秀生 , KATO, HIDEO
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/32 , H01Q13/22 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32311 , C23C16/511 , C23C16/52 , H01J37/32201 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32302 , H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J2237/327 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H01Q21/064 , H01Q21/20 , H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2001/4682

2. 发明专利

TW201421569A 電漿處理裝置及電漿處理方法审中-公开
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TW201421569A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW101148068
申请日：2012-12-18
申请人：日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：金澤峻介 , KANAZAWA, SHUNSUKE , 安井尚輝 , YASUI, NAOKI , 森本未知数 , MORIMOTO, MICHIKAZU , 大越康雄 , OHGOSHI, YASUO
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32311 , C23F4/00 , H01J37/32146 , H01J37/32155 , H01J37/32165 , H01J37/32302 , H01L21/32137
摘要： [課題]本發明目的在於提供電漿處理裝置及電漿處理方法，其可以利用餘輝放電而抑制電漿之密度降低。[解決手段]本發明之電漿處理裝置，係具備：處理室，用於進行試料之電漿處理；第一高頻電源，用於將電漿產生用之第一高頻電力供給至上述處理室內；第二高頻電源，用於對載置上述試料的試料台供給第二高頻電力；及脈衝產生裝置，用於產生對上述第一高頻電力進行時間調變的第一脈衝及對上述第二高頻電力進行時間調變的第二脈衝；其特徵為：上述脈衝產生裝置係具備控制部，該控制部係用於將上述第一脈衝之頻率設定成為高於上述第二脈衝之頻率之同時，以使上述第二脈衝之導通期間包含於上述第一脈衝之導通期間內的方式，進行上述第一脈衝與上述第二脈衝之控制。
简体摘要： [课题]本发明目的在于提供等离子处理设备及等离子处理方法，其可以利用余辉放电而抑制等离子之密度降低。[解决手段]本发明之等离子处理设备，系具备：处理室，用于进行试料之等离子处理；第一高频电源，用于将等离子产生用之第一高频电力供给至上述处理室内；第二高频电源，用于对载置上述试料的试料台供给第二高频电力；及脉冲产生设备，用于产生对上述第一高频电力进行时间调制的第一脉冲及对上述第二高频电力进行时间调制的第二脉冲；其特征为：上述脉冲产生设备系具备控制部，该控制部系用于将上述第一脉冲之频率设置成为高于上述第二脉冲之频率之同时，以使上述第二脉冲之导通期间包含于上述第一脉冲之导通期间内的方式，进行上述第一脉冲与上述第二脉冲之控制。

3. 发明专利

TWI435364B 電漿或自由基之製造裝置有权
简体标题：等离子或自由基之制造设备
公开(公告)号：TWI435364B
公开(公告)日：2014-04-21
申请号：TW097120515
申请日：2008-06-02
申请人：崔克斯邁烏瑞奇 , TRAXLMAYR, ULRICH
发明人：崔克斯邁烏瑞奇 , TRAXLMAYR, ULRICH
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/00 , C23C16/511
CPC分类号： H01J37/32357 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/32311

4. 发明专利

TW200742506A 電漿產生裝置及工件處理裝置审中-公开
简体标题：等离子产生设备及工件处理设备
公开(公告)号：TW200742506A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096102809
申请日：2007-01-25
申请人：諾日士鋼機股份有限公司 NORITSU KOKI CO., LTD.
发明人：松內秀高 HIDETAKA MATSUUCHI , 岩崎龍一 RYUICHI IWASAKI , 萬川宏史 HIROFUMI MANKAWA , 增田滋 SHIGERU MASUDA , 林博史 HIROFUMI HAYASHI , 三毛正明 MASAAKI MIKE
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32935 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H05B6/78
摘要：本發明的電漿產生裝置包括:微波產生部,生成微波;供氣部,提供電漿化的氣體;電漿發生噴嘴,包含接收上述微波的接收構件,並根據接收到的微波的能量,使上述氣體電漿化後噴出;以及光檢測單元,檢測上述電漿化的氣體發出的光,生成電資訊。
简体摘要：本发明的等离子产生设备包括:微波产生部,生成微波;供气部,提供等离子化的气体;等离子发生喷嘴,包含接收上述微波的接收构件,并根据接收到的微波的能量,使上述气体等离子化后喷出;以及光检测单元,检测上述等离子化的气体发出的光,生成电信息。

5. 发明专利

TW480414B 使用鎖定至一包含電漿之開放共振器之微波共振器之電子密度量測和電漿製程控制系統有权
简体标题：使用锁定至一包含等离子之开放共振器之微波共振器之电子密度量测和等离子制程控制系统
公开(公告)号：TW480414B
公开(公告)日：2002-03-21
申请号：TW089114519
申请日：2000-07-20
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：喬塞夫T 維迪恩 , 維尼L 强森 , 莫瑞D 塞其斯
IPC分类号： G06F , H01L
CPC分类号： H01J37/32266 , H01J37/32311 , H01J37/32935 , H01J37/3299
摘要：一種系統用以量測電漿電子密度(在1010至1012cm-3範圍)及用以控制電漿產生器。電漿密度之量測非常重要，因為由電漿協助之處理，如澱積或蝕刻欲利用回授控制達到準確之控制。電漿量測方去及系統產生一控制電壓，甩以控制電漿產生器以維持電漿電子密度在一預選值。系統利用一頻率穩定系統，在共振頻率因引進電漿於開放共振內而改變時，將本地振盪器之頻率鎖住開放微波共振器之共振頻率。第二微波鑑頻器之放大輸出電壓可用以控制一電漿產生器。
简体摘要：一种系统用以量测等离子电子密度(在1010至1012cm-3范围)及用以控制等离子产生器。等离子密度之量测非常重要，因为由等离子协助之处理，如淀积或蚀刻欲利用回授控制达到准确之控制。等离子量测方去及系统产生一控制电压，甩以控制等离子产生器以维持等离子电子密度在一预选值。系统利用一频率稳定系统，在共振频率因引进等离子于开放共振内而改变时，将本地振荡器之频率锁住开放微波共振器之共振频率。第二微波鉴频器之放大输出电压可用以控制一等离子产生器。

6. 发明专利

TWI613745B 電漿處理裝置、供電單元以及載置台系統有权
简体标题：等离子处理设备、供电单元以及载置台系统
公开(公告)号：TWI613745B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW103136093
申请日：2014-10-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：今野雅彥 , KONNO, MASAHIKO , 新宅正行 , SHINTAKU, MASAYUKI , 鈴木隆司 , SUZUKI, TAKASHI , 會田倫崇 , AITA, MICHITAKA , 岡田泰三 , OKADA, TAIZO , 奧西直彥 , OKUNISHI, NAOHIKO , 加藤秀生 , KATO, HIDEO , 松本直樹 , MATSUMOTO, NAOKI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01L21/6831 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32577 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01L21/67103

7. 发明专利

TWI604086B 電漿處理裝置及高頻產生器有权
简体标题：等离子处理设备及高频产生器
公开(公告)号：TWI604086B
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW102110737
申请日：2013-03-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：金子和史 , KANEKO, KAZUSHI , 舩崎一憲 , FUNAZAKI, KAZUNORI , 加藤秀生 , KATO, HIDEO
IPC分类号： C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/3405 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32935 , H01J2237/332 , H03B9/10 , H03L1/00 , H03L5/02 , H05H2001/4682

8. 发明专利

TW201542043A 改良功率均勻性的微波電漿施加器审中-公开
简体标题：改良功率均匀性的微波等离子施加器
公开(公告)号：TW201542043A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104109842
申请日：2015-03-26
申请人： MKS儀器公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：陳新 , CHEN, XING , 冀成相 , JI, CHENGXIANG , 瑪登艾林 , MADDEN, ERIN , 波奇朵艾亞 , POKIDOV, ILYA , 溫佐凱文W , WENZEL, KEVIN W.
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32229 , H01J37/32201 , H01J37/32311 , H01J37/32522 , H05H1/46 , H05H2001/4622
摘要：本發明揭示一種用於產生電漿之裝置，其包含一電漿放電管及螺旋地纏繞於該電漿放電管之一外表面之一導電線圈。一波導經耦合至包圍該電漿放電管之一微波腔，以將微波能量導引至該電漿放電管中，使得在該電漿放電管中產生該電漿。該波導經定位使得該微波能量之一電場經定向成與該電漿放電管之縱向軸成一預定角度。該導電線圈中之一所得感應電流影響該電漿放電管中之功率吸收，該預定角度係可選擇的，使得該電漿放電管中之功率吸收係取決相對於該電漿放電管之該縱向軸之一預定形態。
简体摘要：本发明揭示一种用于产生等离子之设备，其包含一等离子放电管及螺旋地缠绕于该等离子放电管之一外表面之一导电线圈。一波导经耦合至包围该等离子放电管之一微波腔，以将微波能量导引至该等离子放电管中，使得在该等离子放电管中产生该等离子。该波导经定位使得该微波能量之一电场经定向成与该等离子放电管之纵向轴成一预定角度。该导电线圈中之一所得感应电流影响该等离子放电管中之功率吸收，该预定角度系可选择的，使得该等离子放电管中之功率吸收系取决相对于该等离子放电管之该纵向轴之一预定形态。

9. 发明专利

TW201334037A 用於離子植入機之控制模組审中-公开
简体标题：用于离子植入机之控制模块
公开(公告)号：TW201334037A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101136688
申请日：2012-10-04
申请人：離子束科技公司 , ION BEAM SERVICES
发明人：托瑞葛洛沙法蘭克 , TORREGROSA, FRANK , 洛克斯羅倫 , ROUX, LAURENT
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/67 , H05H1/36 , H05H1/38 , H05H1/54
CPC分类号： H01J37/243 , G01R19/0061 , H01J37/32174 , H01J37/32311 , H01J37/32412 , H01J37/32422 , H01J37/32917 , H01J37/32972
摘要：本發明涉及一種用於離子植入機的控制模組，具有電源供應，此電源供應包含：發電機(HT)，具有其正極連接到地；第一開關(SW1)，具有其連接到發電機(HT)的負極之第一極和其連接到電源供應的出口端子(S)之第二極；第二開關(SW2)，具有其連接到出口端子(S)之第一極，和具有其連接到中性化端子(N)之第二極；此控制模組亦包含用於測量第二開關(SW2)的第二極和中性化端子(N)之間流動的電流之電流測量電路(AMP)。本發明亦提供一種具有本控制模組之離子植入機。
简体摘要：本发明涉及一种用于离子植入机的控制模块，具有电源供应，此电源供应包含：发电机(HT)，具有其正极连接到地；第一开关(SW1)，具有其连接到发电机(HT)的负极之第一极和其连接到电源供应的出口端子(S)之第二极；第二开关(SW2)，具有其连接到出口端子(S)之第一极，和具有其连接到中性化端子(N)之第二极；此控制模块亦包含用于测量第二开关(SW2)的第二极和中性化端子(N)之间流动的电流之电流测量电路(AMP)。本发明亦提供一种具有本控制模块之离子植入机。

10. 发明专利

TW200903557A 電漿或自由基之製造裝置 DEVICE FOR PRODUCING PLASMA OR RADICALS 审中-公开
简体标题：等离子或自由基之制造设备 DEVICE FOR PRODUCING PLASMA OR RADICALS
公开(公告)号：TW200903557A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097120515
申请日：2008-06-02
申请人：崔克斯邁烏瑞奇 TRAXLMAYR, ULRICH
发明人：崔克斯邁烏瑞奇 TRAXLMAYR, ULRICH
IPC分类号： H01J , H01L , C23C
CPC分类号： H01J37/32357 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/32311
摘要：本發明係關於一種電漿或自由基之製造裝置,以應用於半導體領域中之蝕刻或沈積程序,其包含一波導2、一磁電管3及一以介電材料製成並用以導引一加工氣體之反應管1,該兩端封閉且總長為L之波導2具有一內長為a且內寬為b之矩形截面,該磁電管3用以提供該波導2微波能量,進而於該波導2內產生一波長為��之固定微波場;該反應管1以該截面長度a之方向穿過該波導2,並連接於一供應該工作氣體之供應導管7,且該反應管1之末端與一工作室相連接;其中該反應管1於該波導2之區域內,該微波場激發該工作氣體。為了得到較高之功率產額(power yield),該反應管1以該波導2之縱向設置於該微波場中磁場强度最强,而電場强度最弱之區域;該磁電管3與一單元4相連結,且該單元4用以提供一脈衝供應電壓(pulsed voltage supply),該工作氣體之壓力介於50至500帕(Pa)之間。
简体摘要：本发明系关于一种等离子或自由基之制造设备,以应用于半导体领域中之蚀刻或沉积进程,其包含一波导2、一磁电管3及一以介电材料制成并用以导引一加工气体之反应管1,该两端封闭且总长为L之波导2具有一内长为a且内宽为b之矩形截面,该磁电管3用以提供该波导2微波能量,进而于该波导2内产生一波长为��之固定微波场;该反应管1以该截面长度a之方向穿过该波导2,并连接于一供应该工作气体之供应导管7,且该反应管1之末端与一工作室相连接;其中该反应管1于该波导2之区域内,该微波场激发该工作气体。为了得到较高之功率产额(power yield),该反应管1以该波导2之纵向设置于该微波场中磁场强度最强,而电场强度最弱之区域;该磁电管3与一单元4相链接,且该单元4用以提供一脉冲供应电压(pulsed voltage supply),该工作气体之压力介于50至500帕(Pa)之间。

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