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1. 发明专利

TW202030363A 自動校準程序獨立前饋控制审中-公开
简体标题：自动校准进程独立前馈控制
公开(公告)号：TW202030363A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108132734
申请日：2019-09-11
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：凡捨羅安東尼保羅 , VAN SELOW, ANTHONY PAUL
IPC分类号： C23C16/52 , H01L21/67 , G05B19/418
摘要：一種用以處理基板之基板處理系統，其包含感測器，以生成該基板處理系統之參數的感測值。致動器調整該基板處理系統之該參數。控制器與該感測器以及該致動器通訊，且係設置以在一製程期間，在不具前饋控制的情況下，使用該等感測值以調整用於控制該致動器的控制值而處理一第一基板。該等感測值係延遲的且造成該參數的不穩定性。該控制器更設置以基於該等感測值及該等控制值自動地校準用於處理一第二基板的前饋值，以及在使用該等前饋值控制該致動器的同時，處理該第二基板。
简体摘要：一种用以处理基板之基板处理系统，其包含传感器，以生成该基板处理系统之参数的传感值。致动器调整该基板处理系统之该参数。控制器与该传感器以及该致动器通信，且系设置以在一制程期间，在不具前馈控制的情况下，使用该等传感值以调整用于控制该致动器的控制值而处理一第一基板。该等传感值系延迟的且造成该参数的不稳定性。该控制器更设置以基于该等传感值及该等控制值自动地校准用于处理一第二基板的前馈值，以及在使用该等前馈值控制该致动器的同时，处理该第二基板。

2. 发明专利

TWI700772B 具有冷卻劑氣體區域及對應的溝槽與單極靜電夾持電極圖案之靜電夾頭有权
简体标题：具有冷却剂气体区域及对应的沟槽与单极静电夹持电极图案之静电夹头
公开(公告)号：TWI700772B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW107114455
申请日：2018-04-27
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：馬堤育斯金亞歷山大 , MATYUSHKIN, ALEXANDER , 卡門登特凱伊斯勞倫斯 , COMENDANT, KEITH LAURENCE , 霍藍德約翰派翠克 , HOLLAND, JOHN PATRICK
IPC分类号： H01L21/683

3. 发明专利

TWI700747B 無殘留物之氧化層蝕刻有权
简体标题：无残留物之氧化层蚀刻
公开(公告)号：TWI700747B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105116192
申请日：2016-05-25
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：許奇勳 , HSU, CHIH-HSUN , 沈美華 , SHEN, MEIHUA , 立爾托爾斯滕 , LILL, THORSTEN
IPC分类号： H01L21/311

4. 发明专利

TWI700399B 電解液輸送及產生設備有权
简体标题：电解液输送及产生设备
公开(公告)号：TWI700399B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105116202
申请日：2016-05-25
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：邁爾史蒂芬 T , MAYER, STEVEN T. , 卡恩斯貴格瑞 , KEARNS, GREGORY , 亞伯拉罕理查 G , ABRAHAM, RICHARD G. , 奧索夫斯基勞倫斯 , OSSOWSKI, LAWRENCE
IPC分类号： C25D3/02

5. 发明专利

TWI699831B 非等向性鎢蝕刻用方法及設備有权
简体标题：非等向性钨蚀刻用方法及设备
公开(公告)号：TWI699831B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105100006
申请日：2016-01-04
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：譚忠魁 , TAN ZHONGKUI , 符謙 , FU, QIAN , 蕭懷宇 , HSIAO HUAI-YU
IPC分类号： H01L21/3213 , H01L21/3065 , H01J37/32 , H01L21/28

6. 发明专利

TW202026918A 針對在基板處理系統的氣體輸送系統中的硬體元件之軟體仿真器审中-公开
简体标题：针对在基板处理系统的气体输送系统中的硬件组件之软件仿真器
公开(公告)号：TW202026918A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108131478
申请日：2019-09-02
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：普斯特波斯簡 , PUST, BOSTJAN , 特寧湯姆 , TRINH, TOM , 黃忠河 , HUANG, CHUNG-HO
IPC分类号： G06F17/50 , H01L21/67
摘要：一種軟體仿真系統，其用於基板處理系統之氣體輸送系統，該軟體仿真系統包含一輸入／輸出匯流排以及一仿真器匯流排。一輸入／輸出匯流排配接器包含一交換器，其係設置以從該基板處理系統之一系統控制器發送資料包至該輸入／輸出匯流排及該仿真器匯流排中的其中一者。與該仿真器匯流排通訊之一氣體輸送系統仿真器係設置以：經由該仿真器匯流排從該輸入／輸出匯流排配接器接收該資料包，以及執行互連之該氣體輸送系統的複數硬體元件的基於軟體之仿真。該等複數硬體元件係使用一或更多軟體模型加以模型化，且包含一氣源及一閥與一質量流量控制器的至少其中一者。
简体摘要：一种软件仿真系统，其用于基板处理系统之气体输送系统，该软件仿真系统包含一输入／输出总线以及一仿真器总线。一输入／输出总线配接器包含一交换器，其系设置以从该基板处理系统之一系统控制器发送数据报至该输入／输出总线及该仿真器总线中的其中一者。与该仿真器总线通信之一气体输送系统仿真器系设置以：经由该仿真器总线从该输入／输出总线配接器接收该数据报，以及运行互连之该气体输送系统的复数硬件组件的基于软件之仿真。该等复数硬件组件系使用一或更多软件模型加以模型化，且包含一气源及一阀与一质量流量控制器的至少其中一者。

7. 发明专利

TWI697952B 用於晶圓副產物分佈及蝕刻特徵部輪廓均勻性之透過可調式電漿解離的氣體反應軌跡控制有权
简体标题：用于晶圆副产物分布及蚀刻特征部轮廓均匀性之透过可调式等离子解离的气体反应轨迹控制
公开(公告)号：TWI697952B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW105109653
申请日：2016-03-28
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：斯里拉曼沙拉維納布里恩 , SRIRAMAN, SARAVANAPRIYAN , 堤圖司莫妮卡 , TITUS, MONICA , 派特森艾立克斯 , PATERSON, ALEX
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/67

8. 发明专利

TWI697951B 透過邊緣局部的離子軌跡控制與電漿操作之極限邊緣鞘及晶圓輪廓調整有权
简体标题：透过边缘局部的离子轨迹控制与等离子操作之极限边缘鞘及晶圆轮廓调整
公开(公告)号：TWI697951B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW105107509
申请日：2016-03-11
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：斯里拉曼沙拉維納布里恩 , SRIRAMAN, SARAVANAPRIYAN , 派特森亞歷山大 , PATERSON, ALEXANDER , 坎伯湯瑪士 , KAMP, THOMAS
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/67

9. 发明专利

TWI697582B 可抑制空心陰極放電的電容耦合式電漿電極及氣體分配面板有权
简体标题：可抑制空心阴极放电的电容耦合式等离子电极及气体分配皮肤
公开(公告)号：TWI697582B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW108140217
申请日：2015-05-27
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塔克傑里米 , TUCKER, JEREMY , 奧古斯丁尼亞克愛德華 , AUGUSTYNIAK, EDWARD
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/44 , C23C16/455

10. 发明专利

TW202022973A 使用識別符將邊緣環件號映射至槽號审中-公开
简体标题：使用识别符将边缘环件号映射至槽号
公开(公告)号：TW202022973A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108130411
申请日：2019-08-26
申请人：美商蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：塞維拉諾伊夫里歐 , SEVILLANO, EVELIO , 張儉 , CHANG, THOMAS , 歐唐尼爾羅伯特 , O'DONNELL, ROBERT , 羅普斯隆達 , ROPES, RONDA , 華賽彼得 R , WASSEI, PETER R. , 希爾布里奇特 , HILL, BRIDGET
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68
摘要：追蹤邊緣環的方法及系統包含：從與邊緣環相關的一來源，擷取一邊緣環識別符。將該邊緣環插入至一邊緣環載具的一槽，其中該邊緣環係分派至該邊緣環載具。該邊緣環識別符係加以追蹤，以判定傳送進出該邊緣環載具以及進出一處理站。該邊緣環識別符的追蹤建立提供關於該邊緣環之壽命資訊的元資料檔案。
简体摘要：追踪边缘环的方法及系统包含：从与边缘环相关的一来源，截取一边缘环识别符。将该边缘环插入至一边缘环载具的一槽，其中该边缘环系分派至该边缘环载具。该边缘环识别符系加以追踪，以判定发送进出该边缘环载具以及进出一处理站。该边缘环识别符的追踪创建提供关于该边缘环之寿命信息的元数据文档。

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