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1. 发明专利

TW201904358A 電漿產生器、電漿製程設備以及電力脈衝供應的方法审中-公开
简体标题：等离子产生器、等离子制程设备以及电力脉冲供应的方法
公开(公告)号：TW201904358A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107111399
申请日：2018-03-30
申请人：德商商先創國際股份有限公司 , CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人：舒茲夕巴斯汀哈柏特斯 , SCHULZ, SEBASTIAN HUBERTUS , 沛爾瑙湯瑪斯 , PERNAU, THOMAS , 那把爾弗洛里安 , NACHBAUER, FLORIAN , 華克菲力克斯 , WALK, FELIX
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/36 , H01J37/32
摘要：本發明提出用於向至少兩個製程室脈衝供應具有至少40KHz頻率之電力的電漿產生器以及方法。所述電漿產生器具有以下組件：控制單元，其適於獲得及分析有關所述至少兩個製程室中之製程的製程資料，具有輸出的可調節之供電單元，其適於在其輸出上以響應所述控制單元之控制訊號的方式輸出具有預定之電壓及/或強度的直流電，以及切換單元，其具有第一輸入，所述第一輸入與所述供電單元之輸出連接，並且具有至少兩個切換單元輸出，用於各自與所述至少兩個製程室中之一個連接。其中所述切換單元適於自所述輸入上之直流電形成具有預定之至少40KHz之頻率的交流電作為輸出訊號交流電，並且以響應所述控制單元之控制訊號的方式，將所述輸出訊號作為脈衝選擇性地在預定之脈衝持續時間內輸出至所述切換單元輸出中的一個。所述控制單元適於協調所述至少兩個製程室之功率請求，並且控制供電單元以及切換單元，使得在各與製程室連接之切換單元輸出上皆實質上將與所述功率請求對應之功率在一時間段內作為脈衝提供，其中各製程室之脈衝在時間上相互錯開，使得這些製程室能夠同步工作。
简体摘要：本发明提出用于向至少两个制程室脉冲供应具有至少40KHz频率之电力的等离子产生器以及方法。所述等离子产生器具有以下组件：控制单元，其适于获得及分析有关所述至少两个制程室中之制程的制程数据，具有输出的可调节之供电单元，其适于在其输出上以响应所述控制单元之控制信号的方式输出具有预定之电压及/或强度的直流电，以及切换单元，其具有第一输入，所述第一输入与所述供电单元之输出连接，并且具有至少两个切换单元输出，用于各自与所述至少两个制程室中之一个连接。其中所述切换单元适于自所述输入上之直流电形成具有预定之至少40KHz之频率的交流电作为输出信号交流电，并且以响应所述控制单元之控制信号的方式，将所述输出信号作为脉冲选择性地在预定之脉冲持续时间内输出至所述切换单元输出中的一个。所述控制单元适于协调所述至少两个制程室之功率请求，并且控制供电单元以及切换单元，使得在各与制程室连接之切换单元输出上皆实质上将与所述功率请求对应之功率在一时间段内作为脉冲提供，其中各制程室之脉冲在时间上相互错开，使得这些制程室能够同步工作。

2. 发明专利

TW201921550A 用於將真空提供給不同真空單元的裝置及操作其的方法审中-公开
简体标题：用于将真空提供给不同真空单元的设备及操作其的方法
公开(公告)号：TW201921550A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129201
申请日：2018-08-22
申请人：德商商先創國際股份有限公司 , CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人：舒茲夕巴斯汀哈柏特斯 , SCHULZ, SEBASTIAN HUBERTUS , 古谷爾茲拉爾斯 , GUGGOLZ, LARS , 沛爾瑙湯瑪斯 , PERNAU, THOMAS
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/3065
摘要：一種用於將真空提供給不同真空單元的裝置，真空單元尤指用於基板的處理裝置，基板尤指半導體基板或光伏用基板，及一種操作此處理裝置的方法。處理裝置包括：至少三個彼此分離的真空單元；第一泵及將第一泵與真空單元中的每個連接在一起的第一管路系統；第二泵及將第二泵與真空單元中的每個連接在一起的第二管路系統；至少一定數目之對應於真空單元數目的第一閥，佈置在第一管路系統中使得每個真空單元皆分配有第一閥，從而對相應之真空單元與第一泵之間的連接進行控制；至少一定數目之對應真空單元數目的第二閥，佈置在第二管路系統中使得每個真空單元皆分配有第二閥，從而對相應之真空單元與第二泵之間的連接進行控制；及控制單元，用於至少控制第一閥及第二閥，從而透過第一泵及/或第二泵來個別控制真空單元的泵出。處理裝置操作期間，較佳透過第二泵將相應之真空單元泵出至預設壓力並在處理期間透過第一泵保持在預設壓力上，泵出期間相應真空單元與第一泵之間的連接被關閉，處理期間相應真空單元與第二泵之間的連接被關閉。
简体摘要：一种用于将真空提供给不同真空单元的设备，真空单元尤指用于基板的处理设备，基板尤指半导体基板或光伏用基板，及一种操作此处理设备的方法。处理设备包括：至少三个彼此分离的真空单元；第一泵及将第一泵与真空单元中的每个连接在一起的第一管路系统；第二泵及将第二泵与真空单元中的每个连接在一起的第二管路系统；至少一定数目之对应于真空单元数目的第一阀，布置在第一管路系统中使得每个真空单元皆分配有第一阀，从而对相应之真空单元与第一泵之间的连接进行控制；至少一定数目之对应真空单元数目的第二阀，布置在第二管路系统中使得每个真空单元皆分配有第二阀，从而对相应之真空单元与第二泵之间的连接进行控制；及控制单元，用于至少控制第一阀及第二阀，从而透过第一泵及/或第二泵来个别控制真空单元的泵出。处理设备操作期间，较佳透过第二泵将相应之真空单元泵出至默认压力并在处理期间透过第一泵保持在默认压力上，泵出期间相应真空单元与第一泵之间的连接被关闭，处理期间相应真空单元与第二泵之间的连接被关闭。

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