专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020170103742A 수직빔 각도 장치를 구비하는 이온 주입 시스템을 이용한 수직빔 프로파일을 측정하는 방법 审中-实审
标题翻译：使用具有垂直光束角装置的离子注入系统测量垂直光束轮廓的方法
公开(公告)号：KR1020170103742A
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：KR1020177009874
申请日：2015-12-28
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 사토,슈
IPC分类号： H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3045 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/244 , H01J2237/24405 , H01J2237/24542
摘要： 이온주입시스템및 측정시스템은축을중심으로회전하는스캔암과이온빔을통해공작물을이동시키는공작물지지부를포함한다. 스캔암의하류측의제1측정부는이온빔으로부터제1신호를제공한다. 마스크를가지는제2측정부는스캔암의회전과함께이온빔으로부터제2신호를제공하기위해스캔암에결합된다. 마스크는이온빔으로부터이온방사선의다양한양이마스크와이온빔사이의각도방향에기초하여패러데이컵에들어가도록허용한다. 차단플레이트는스캔암의회전에기초하여제1패러데이로이온빔을선택적으로차단한다. 제어기는제2측정부가회전할 때마스크와이온빔사이의제1신호, 제2신호및 방향에기초하여이온빔의각도및 수직크기를결정한다.
摘要翻译：离子注入系统和测量系统包括绕轴旋转的扫描臂和通过离子束移动工件的工件支架。扫描臂下游侧的第一测量单元提供来自离子束的第一信号。具有掩模的第二测量单元连接到扫描臂，以与扫描臂一起提供来自离子束的第二信号。基于掩模和离子束之间的角度取向，掩模允许来自离子束的不同量的离子辐射进入法拉第杯。基于扫描臂组件，阻挡板选择性地将离子束阻挡到第一法拉第。当第二测量单元旋转时，控制器基于第一信号，第二信号以及掩模和离子束之间的方向来确定离子束的角度和垂直量值。

2. 发明公开

KR1020150048149A 전압 반전 및 개선된 회복을 갖는 아크 처리 审中-实审
标题翻译：电弧管理与电压反转和改进的恢复
公开(公告)号：KR1020150048149A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020157005958
申请日：2013-08-28
申请人： 어드밴스드 에너지 인더스트리즈 인코포레이티드
发明人： 왈드헨드릭 , 판크라츠조수아브라이언 , 크리스티데이비드 , 코월브라이언디.
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/36 , H05H1/48 , H01J37/32 , H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32944 , H01J37/24 , H01J37/244 , H01J2237/0206 , H01J2237/244 , H05H1/24 , H05H1/36 , H05H1/48 , H05H2001/3494
摘要： 플라즈마처리동작에있어서아크처리를위한시스템및 방법이제공된다. 상기방법은, 제1 전압극성으로플라즈마부하에파워서플라이로전류를제공하는단계및 에너지저장장치를활성화하는단계를포함하며, 에너지저장장치가활성화될때 에너지저장장치가제1 전압극성의반대인극성을갖고또한적어도제1 전압극성만큼큰 진폭을갖는역극성전압을인가한다. 아크의검출시, 에너지저장장치로부터역극성전압을갖는플라즈마부하에파워가인가되고, 상기플라즈마부하에대한역극성전압의인가는플라즈마부하에제공되는전류의레벨을감소시킨다.
摘要翻译：公开了用于等离子体处理操作中的电弧处理的系统和方法。该方法包括向第一电压极性的等离子体负载提供电源并为能量存储装置通电，因此当其被通电时，能量存储装置施加相反极性的电压，该极性电压的幅度至少与第一电压极性。当检测到电弧时，利用具有与第一电压极性相反的极性的反极性电压从能量存储装置向等离子体负载施加电力，对等离子体负载施加反极性电压降低等级提供给等离子体负载的电流。

3. 发明公开

KR1020110123679A 분산 보상을 갖는 전자 빔 디바이스, 및 이의 동작 방법 有权
标题翻译：具有分散补偿的电子束装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020110123679A
公开(公告)日：2011-11-15
申请号：KR1020110042489
申请日：2011-05-04
申请人： 아이씨티 인티그레이티드 써킷 테스팅 게젤샤프트 퓌어 할프라이터프뤼프테크닉 엠베하
发明人： 라니오,슈테판 , 쇄네커,제랄드
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/06
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/1471 , H01J37/153 , H01J2237/1523 , H01J2237/1534 , H01J2237/244 , H01J37/06 , H01J37/1478
摘要： PURPOSE: An electronic beam device and an operation method thereof are provided to image a sample by dividing a signal electronic beam into first dispersion and second dispersion. CONSTITUTION: A beam emitter(102) emits a primary electron beam(101). An object electromagnetic lens(125) focuses the primary electron beam to a sample(130). A beam splitter(115) comprises first dispersion for dividing a signal electronic beam. A dispersion compensation device(104) comprises second dispersion. The dispersion compensation device is arranged in the upper side of the beam splitter according to the primary electron beam. An objective lens defines an optical axis(126).
摘要翻译：目的：提供一种电子束装置及其操作方法，用于将信号电子束分割为第一色散和第二色散来对样本进行成像。构成：射束发射器（102）发射一次电子束（101）。物体电磁透镜（125）将一次电子束聚焦到样品（130）上。分束器（115）包括用于分割信号电子束的第一色散。色散补偿装置（104）包括第二色散。色散补偿装置根据一次电子束配置在分束器的上侧。物镜限定光轴（126）。

4. 发明授权

KR101685274B1 하전 입자선 장치 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：KR101685274B1
公开(公告)日：2016-12-09
申请号：KR1020147030888
申请日：2013-04-12
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 다찌바나,이찌로 , 스즈끼,나오마사
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/28 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J37/3178 , H01J2237/04756 , H01J2237/0492 , H01J2237/063 , H01J2237/10 , H01J2237/15 , H01J2237/21 , H01J2237/244 , H01J2237/2602 , H01J2237/281
摘要： 깊은구멍관찰등을위해서리타딩과부스팅을조합해서제어함으로써, 신호전자를에너지선택해서검출하는경우, 포커스조정에는대물렌즈의자장변화를사용할수밖에없지만, 자장변화는응답성이나쁘기때문에, 스루풋이저하되어버린다. 1차전자선을발생하는전자원과, 상기 1차전자선을집속하는대물렌즈와, 상기 1차전자선을편향시키는편향기와, 상기 1차전자선의조사에의해시료로부터발생하는 2차전자또는반사전자를검출하는검출기와, 상기 1차전자선이통과하는구멍을갖는전극과, 상기전극에부전압을인가하는전압제어전원과, 상기시료에부전압을인가함으로써상기시료상에상기 1차전자선을감속시키는전계를생성하는리타딩전압제어전원을구비하고, 상기전극에인가되는전압과상기시료에인가되는전압의차를일정하게한 채초점조정을행한다.
摘要翻译：当通过组合并控制用于观察深孔等的延迟和升压来进行能量选择来检测信号电子时，聚焦调整的唯一方式是使用物镜的磁场变化。然而，由于磁场变化的响应性差，吞吐量降低。带电粒子束装置包括：电子源，被配置为产生一次电子束; 配置成聚焦一次电子束的物镜; 偏转器，被配置为偏转所述一次电子束; 检测器，被配置为通过一次电子束的照射来检测从样品产生的二次电子或反射电子; 具有一次电子束通过的孔的电极; 电压控制电源，被配置为向所述电极施加负电压; 以及延迟电压控制电源，被配置为通过向样本施加负电压来产生使样品上的一次电子束减速的电场，其中带电粒子束装置执行焦点调整，同时施加到施加到样品的电极和电压保持不变。

5. 发明授权

KR101484454B1 홀 검사 장치 및 상기 장치를 이용한 홀 검사 방법 有权
标题翻译：孔检查装置和孔检查方法
公开(公告)号：KR101484454B1
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：KR1020147013967
申请日：2007-04-03
申请人： 씨이비티 주식회사
发明人： 김호섭
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , G01R31/307 , H01J37/244 , H01J2237/0635 , H01J2237/22 , H01J2237/244 , H01J2237/24564 , H01J2237/24592 , H01J2237/281 , H01J2237/2817 , H01J2237/317 , H01L22/12 , H01L22/14
摘要： 본 발명은 반도체 장치에서 전자빔을 이용하는 반도체 장치에서 비아홀을 검사하기 위한 장치에 관한 것으로, 특히, 다수의 전자빔 조사 수단으로부터 조사된 다수의 전자빔이 반도체장치를 통과하여 전류가 측정되는 반도체장치에서 많은 비아홀들을 빠른 시간 내에 검사하기 위한 장치에 관한 것이다.

6. 发明授权

KR101369670B1 주사 전자 현미경 有权
标题翻译：扫描电子显微镜
公开(公告)号：KR101369670B1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：KR1020120059186
申请日：2012-06-01
申请人： (주)오로스 테크놀로지
发明人： 박태훈 , 박필화
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/28 , H01J2237/244 , H01J2237/2608
摘要： 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope, SEM)이 개시된다. 주사 전자 현미경은 진공(vaccum) 상태에서 열 또는 전계를 가하여 일함수(work function) 이상의 에너지를 가해 많은 전자들(electrons)을 방출하고, 전자빔(electron beam)을 생성하는 전자총, 집속 렌즈, 편향기, 대물 렌즈 및 조리개를 구비하는 경통(column); 전자빔의 가속된 전자들을 인가받아 관찰대상 시료에 조사하고, 상기 시료로부터 방출된 2차전자(secondary electron) 등의 검출 신호를 적어도 하나 이상의 검출기(detector)를 통해 제공하는 챔버(chamber); 및 상기 경통과 미세거리로 이격되고 상기 챔버의 경계면에 설치되며, 광축을 중심으로 집속된 전자빔의 전자들(electrons)을 통과시키고 공기를 통과시키지 않으며, 상기 경통(column)으로부터 제공된 전자빔을 상기 챔버로 제공하는 필터를 포함한다. 전자총을 구비한 진공(vaccum) 상태의 경통(column)으로부터 불활성 가스가 주입된 비진공 챔버(non vaccum chamber)의 경계면에 설치된 필터(filter)를 통해 전자빔의 가속된 전자들이 조사된 시료에 방출된 2차전자 등의 검출 신호를 검출기로 감지하고, 챔버(chamber)가 경통(column)과 분리 가능하여 다양한 경통(column)과 인터페이스가 가능하고, 기존 진공 챔버의 부피를 줄이게 되었다.

7. 发明公开

KR1020080074293A 이온 도핑 장치 및 이의 도핑 방법 有权
标题翻译：离子喷涂装置及其喷涂方法
公开(公告)号：KR1020080074293A
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：KR1020070013111
申请日：2007-02-08
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김덕회 , 이청
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/136
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/304 , H01J2237/244 , H01J2237/24507 , H01J2237/24535 , H01J2237/31703
摘要： An ion doping apparatus and a method thereof are provided to prevent a doping defect by controlling a beam current of an ion beam and an ion amount in real time. An ion doping apparatus includes an ion source(100), a substrate fixing unit(200), a beam current correcting unit(300), a doping amount measuring unit(400), and an ion beam control unit(500). The ion source produces ion beam. The substrate fixing unit fixes a substrate to which an ion is doped. The beam current correcting unit corrects beam current by positions of the ion beam between the ion source and the substrate fixing unit. The doping amount measuring unit is positioned on the same plate as that of the substrate, and measures a doping amount of ion. The ion beam control unit is connected with the doping amount measuring unit, and controls the ion source and the beam current correcting unit according to the doping amount of the ion.
摘要翻译：提供了一种离子掺杂装置及其方法，以通过实时控制离子束的束电流和离子量来防止掺杂缺陷。离子掺杂装置包括离子源（100），基板固定单元（200），束电流校正单元（300），掺杂量测量单元（400）和离子束控制单元（500）。离子源产生离子束。衬底固定单元固定掺杂有离子的衬底。光束电流校正单元通过离子源和衬底固定单元之间的离子束的位置校正束电流。掺杂量测量单元位于与衬底相同的板上，并测量离子的掺杂量。离子束控制单元与掺杂量测量单元连接，并且根据离子的掺杂量控制离子源和束电流校正单元。

8. 发明授权

KR101606732B1 플라즈마를 자동으로 특성화하기 위한 방법 有权
标题翻译：自动表征等离子体的方法
公开(公告)号：KR101606732B1
公开(公告)日：2016-03-28
申请号：KR1020107029198
申请日：2009-06-26
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 케일더글라스 , 부뜨쟝-뽈 , 소그림슨크리스토퍼
IPC分类号： H05H1/36 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/32935 , H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32926 , H01J37/32954 , H01J2237/244 , H01J2237/24564 , H01J2237/327 , H01L21/263
摘要： 기판프로세싱동안에플라즈마를자동으로특성화하기위한방법이제공된다. 그방법은, 적어도전류및 전압에관한데이터를포함하는프로세스데이터의세트를수집하는단계를포함한다. 그방법은또한, 프로세스데이터의세트에대한관련성범위를식별하는단계를포함하며, 관련성범위는프로세스데이터의세트의서브세트를포함한다. 그방법은또한, 시드값들의세트를결정하는단계를포함한다. 그방법은또한, 관련성범위및 시드값들의세트를채용하여커브-피팅을수행하는단계를포함하며, 커브-피팅은플라즈마가자동으로특성화될수 있게한다.

9. 发明授权

KR101556236B1 분산 보상을 갖는 전자 빔 디바이스, 및 이의 동작 방법 有权
标题翻译：具有色散补偿的电子束装置及其操作方法
公开(公告)号：KR101556236B1
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：KR1020110042489
申请日：2011-05-04
申请人： 아이씨티 인티그레이티드 써킷 테스팅 게젤샤프트 퓌어 할프라이터프뤼프테크닉 엠베하
发明人： 라니오,슈테판 , 쇄네커,제랄드
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/06
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/1471 , H01J37/153 , H01J2237/1523 , H01J2237/1534 , H01J2237/244
摘要： 전자빔 디바이스(100)는: 1차전자빔(101)을방출하기위한빔 에미터(102); 표본(130) 상에 1차전자빔(101)을포커싱하기위한대물전자렌즈(125) ―상기대물렌즈는광학축(126)을정의함―; 1차전자빔(101)으로부터신호전자빔(135)을분리하기위한제 1 분산을갖는빔 분리기(115); 및분산보상소자(104)를포함한다. 분산보상소자(104)는제 2 분산을포함하고, 분산보상소자는분산보상소자(104)의하류에있는 1차빔(101)의경사각에관계없이제 2 분산을조정하여, 제 2 분산이실질적으로제 1 분산을보상하도록적응된다. 분산보상소자(104)는빔 분리기(115)의상류에, 1차전자빔(101)을따라, 배열된다.

10. 发明公开

KR1020130135541A 주사 전자 현미경 有权
标题翻译：扫描电子显微镜
公开(公告)号：KR1020130135541A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：KR1020120059186
申请日：2012-06-01
申请人： (주)오로스 테크놀로지
发明人： 박태훈 , 박필화
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/244
CPC分类号： H01J37/28 , H01J2237/244 , H01J2237/2608
摘要： The present invention relates to a scanning electron microscope. According to the present invention, the scanning electron microscope includes an electron gun generating electron beam; a column comprising the electron gun, a condensing lens, a deflector, an object lens, and an aperture; at least one detector. [Reference numerals] (200) non vaccum chamber (inert gas);(202,203) Detector;(204) Specimen;(300) Data obtaining and image grabber;(320) Computer;(AA) Electron gun;(BB) Secondary electron
摘要翻译：本发明涉及扫描电子显微镜。根据本发明，扫描电子显微镜包括产生电子束的电子枪; 包括电子枪，聚光透镜，偏转器，物镜和孔的列; 至少一个检测器。（200）非真空室（惰性气体）;（202,203）检测器;（204）样品;（300）数据获取和图像采集器;（320）计算机;（AA）电子枪;（BB）二次电子

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式