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1. 发明公开

KR20180063359A 원자 정밀도 에칭을 위한 플라즈마 밀도, 라디칼 조성, 및 이온 에너지에 대한 독립적인 제어를 갖는 저 전자 온도 에칭 챔버 审中-公开
公开(公告)号：KR20180063359A
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：KR20187015227
申请日：2016-06-01
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/67 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/06 , H01J37/32082 , H01J37/3233 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32532 , H01J2237/3151 , H01J2237/3174 , H01J2237/334 , H01J2237/3348 , H01L21/3065 , H01L21/31116
摘要： 본개시내용은, 전자빔 에너지, 플라즈마이온에너지, 및라디칼개체수를독립적으로조정하기위한전자빔 플라즈마소스를갖는플라즈마반응기를동작시키는방법에관한것이다. 본개시내용은추가로, 전자빔을생성하기위한 RF-구동식전극을갖는플라즈마반응기를위한전자빔 소스에관한것이다.

2. 发明公开

KR1020170071652A 주사 전자 현미경 有权
标题翻译：扫描电子显微镜
公开(公告)号：KR1020170071652A
公开(公告)日：2017-06-26
申请号：KR1020150179085
申请日：2015-12-15
申请人： (주)새론테크놀로지
发明人： 구정회
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/06 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/026 , H01J2237/141 , H01J2237/24465 , H01J2237/24475 , H01J2237/2608
摘要： 본발명은진공상태에서시료를관찰하도록하는진공챔버없이대기중에서시료표면으로부터산란되어방출되는후방산란전자를검출하여시료를관찰할수 있도록구현되는주사전자현미경에관한것이다. 본발명에따른주사전자현미경은진공상태를형성하는경통, 경통의상부에위치하고, 진공하에서전자빔을하부로주사하는전자총, 경통의하부면의일부를형성하여경통내부를진공상태로형성하고전자빔을통과시키는차폐막, 차폐막의하부에위치하여전자총으로부터차폐막을통과한전자빔이시료에조사되도록시료가배치되는시료대, 전자총과차폐막사이에위치하여전자빔을통과시키는홀이형성되고, 상부면에자기장을형성하는제1 평면코일을구비하여전자빔을집속하여차폐막으로전달하고, 시료로부터후방산란되는후방산란전자를검출하는제1 후방산란검출기를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及到可以观察到样本的执行，以检测从样品表面发出的背散射电子被散射在空气中而不真空室，以便观察在真空中的样品的扫描电子显微镜。根据本发明的柱，以形成真空状态，位于该塔的顶部扫描电子显微镜，电子枪使电子束扫描到的底部，从而形成筒体的下表面的一部分以形成真空状态内的桶，并且在真空中的电子束穿过屏蔽膜的孔，用于定位于屏蔽膜的通过从该样本被布置成照射到样品上的电子枪的屏蔽膜的下部的电子束一个样品中，被定位在电子枪，并通过电子束屏蔽膜之间形成的磁场的顶部表面并具有第一平面线圈通过集中发送到屏蔽的电子束形成，并且从样品中包括用于检测反向散射和背散射电子，背散射的第一检测器。

3. 发明公开

KR1020160100238A 플라즈마 이온원 및 하전 입자 빔 장치 审中-实审
标题翻译：等离子体源和充电颗粒光束装置
公开(公告)号：KR1020160100238A
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020160013670
申请日：2016-02-03
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 오바히로시 , 스기야마야스히코 , 오카베마모루
IPC分类号： H01J37/08 , H01J47/02 , H01J37/30 , H01J49/10 , H01J27/16
CPC分类号： H01J37/32522 , H01J27/16 , H01J37/06 , H01J37/08 , H01J37/20 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/32568 , H01J37/32807 , H01J2237/0815 , H01J2237/31749
摘要： (과제) 원하는냉각성을확보하기위해서플라즈마이온원전체의크기가증대되는것을방지한다. (해결수단) 실시형태의플라즈마이온원 (14a) 은가스도입실 (33) 과, 플라즈마생성실 (34) 과, 코일 (39) 과, 외위기 (40) 와, 절연성액체 (41) 를구비한다. 가스도입실 (33) 은원료가스가도입된다. 유전체재료에의해형성된플라즈마생성실 (34) 은가스도입실 (33) 에접속된다. 코일 (39) 은플라즈마생성실 (34) 의외주를따라감기고고주파전력이인가된다. 외위기 (40) 는가스도입실 (33), 플라즈마생성실 (34) 및코일 (39) 을둘러싼다. 절연성액체 (41) 는가스도입실 (33) 및플라즈마생성실 (34) 과외위기 (40) 사이에충전되고코일 (39) 을침지한다. 절연성액체 (41) 는외위기 (40) 의절연내압보다상대적으로큰 절연내압및 플라즈마생성실 (34) 과동일한정도의유전정접을갖는다.
摘要翻译：本发明提供等离子体离子源和带电粒子束装置，其中防止等离子体离子源的整体尺寸增加，从而确保了所需的绝缘性能。根据本发明的一个实施例，等离子体离子源（14a）包括：气体导入室（33）; 等离子体产生室（34）; 线圈（39）; 外壳（40）; 和绝缘液体（41）。原料气体被导入气体导入室33，由电介质材料形成的等离子体生成室34与气体导入室33连接。线圈（39）围绕等离子体产生室（34）的外周缠绕，向线圈（39）施加高频电力。外壳（40）围绕气体导入室（33），等离子体产生室（34）和线圈（39）。绝缘液体（41）被填充在气体导入室（33）与外壳（40）之间，外壳（40）和线圈（39）浸渍在绝缘液体（41）中。绝缘液体（41）具有比外壳（40）的绝缘电压更大的绝缘电压，并且具有与等离子体产生室（34）相同水平的介质切线。

4. 发明授权

KR101564680B1 전자총 전원공급장치 有权
标题翻译：提供电子枪功率的装置
公开(公告)号：KR101564680B1
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：KR1020150009176
申请日：2015-01-20
申请人： 성균관대학교산학협력단
发明人： 채종서 , 김희수 , 연영흠 , 이승현 , 이종철
IPC分类号： H01J37/248 , H01J37/06
CPC分类号： H01J37/06 , H01J37/248 , H01J2237/2485
摘要： 본발명은 2극전자총및 3극전자총에범용으로이용될수 있는전자총전원공급장치에대한것으로, 전자총의필라멘트로전원을제공하는제2 전원공급부;상기전자총의그리드부또는캐소드에펄스전원을제공하는펄스전원공급부; 상기펄스전원공급부로소정전압의 DC 전원을제공하는제1 전원공급부; 소정전압의주파수와소정대역폭을갖는펄스를생성하여상기펄스전원공급부로전달하는펄스제너레이터; 상기펄스전원공급부, 상기제1 전원공급부, 상기펄스제너레이터중 적어도하나를제어하는제어신호를생성하는제어부를포함하는전자총전원공급장치.
摘要翻译：本发明涉及一种用于向通常用于双电极电子枪和三电极电子枪的电子枪供电的装置。用于向电子枪供电的装置包括向电子枪的灯丝供电的第二电源单元，向电子枪的阴极或栅格部分提供脉冲功率的脉冲电源单元，第一向脉冲电源单元提供预设电压的直流电力的电源单元，产生具有预设带宽的脉冲和具有预设电压的频率的脉冲发生器，并将该频率和脉冲发送到脉冲电源单元，以及控制单元，其生成用于控制脉冲电源单元，第一电源单元和脉冲发生器中的至少一个的控制信号。

5. 发明公开

KR1020130044385A 레티클 형성용 노광 장치 및 이를 이용한 레티클 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于制造反应物的曝光系统和制造方法
公开(公告)号：KR1020130044385A
公开(公告)日：2013-05-03
申请号：KR1020110085039
申请日：2011-08-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최진 , 정진하 , 블라디미르우라자에브 , 이혜연
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/36 , G03F1/00 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F1/78 , G03F7/2063 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/0458 , H01J2237/31764 , H01J2237/31776 , Y10S430/143 , G03F1/36 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: An exposure system for forming a reticle and a method for manufacturing the reticle are provided to manufacture a reticle having various shapes of pattern without deflecting an electron beam by moving a second aperture plate. CONSTITUTION: A blank reticle(32) coated with a photosensitive layer is loaded. A second aperture plate(20) is moved so that an electronic beam passing through a second aperture for a first pattern and maintains the optical axis of the electronic beam passing through a first aperture(14a). A photosensitive film is exposed using the first electronic beam passing through the second aperture for the first pattern to form a first exposure pattern(40a). The position of the second aperture plate is changed so that the electronic beam passes through the second aperture(22b) for a second pattern and its optical axis is maintained. The photosensitive film is exposed using the second electronic beam passing through the second aperture for the second pattern to form a second exposure pattern(40b). [Reference numerals] (AA) Second area; (BB) First area
摘要翻译：目的：提供一种用于形成掩模版的曝光系统和用于制造掩模版的方法，以通过移动第二孔板来制造具有各种图案形状而不偏转电子束的掩模版。构成：装载涂有感光层的空白掩模版（32）。移动第二孔板（20）使得电子束通过用于第一图案的第二孔径并且保持电子束的光轴通过第一孔（14a）。使用通过用于第一图案的第二孔的第一电子束曝光感光膜，以形成第一曝光图案（40a）。改变第二孔板的位置，使得电子束通过第二孔（22b）以保持第二图案并保持其光轴。使用通过用于第二图案的第二孔的第二电子束曝光感光膜，以形成第二曝光图案（40b）。（附图标记）（AA）第二区域; （BB）第一区

6. 发明公开

KR1020110123679A 분산 보상을 갖는 전자 빔 디바이스, 및 이의 동작 방법 有权
标题翻译：具有分散补偿的电子束装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020110123679A
公开(公告)日：2011-11-15
申请号：KR1020110042489
申请日：2011-05-04
申请人： 아이씨티 인티그레이티드 써킷 테스팅 게젤샤프트 퓌어 할프라이터프뤼프테크닉 엠베하
发明人： 라니오,슈테판 , 쇄네커,제랄드
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/06
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/1471 , H01J37/153 , H01J2237/1523 , H01J2237/1534 , H01J2237/244 , H01J37/06 , H01J37/1478
摘要： PURPOSE: An electronic beam device and an operation method thereof are provided to image a sample by dividing a signal electronic beam into first dispersion and second dispersion. CONSTITUTION: A beam emitter(102) emits a primary electron beam(101). An object electromagnetic lens(125) focuses the primary electron beam to a sample(130). A beam splitter(115) comprises first dispersion for dividing a signal electronic beam. A dispersion compensation device(104) comprises second dispersion. The dispersion compensation device is arranged in the upper side of the beam splitter according to the primary electron beam. An objective lens defines an optical axis(126).
摘要翻译：目的：提供一种电子束装置及其操作方法，用于将信号电子束分割为第一色散和第二色散来对样本进行成像。构成：射束发射器（102）发射一次电子束（101）。物体电磁透镜（125）将一次电子束聚焦到样品（130）上。分束器（115）包括用于分割信号电子束的第一色散。色散补偿装置（104）包括第二色散。色散补偿装置根据一次电子束配置在分束器的上侧。物镜限定光轴（126）。

7. 发明公开

KR1020100101682A 전자 빔 노출 시스템 有权
公开(公告)号：KR1020100101682A
公开(公告)日：2010-09-17
申请号：KR1020107016868
申请日：2003-10-30
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 캠퍼비크베르트잰 , 반빈알렉산더핸드릭빈센트 , 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： The invention relates to an electron beam generator for generating an electron beam, comprising an electron source and an extractor. The combination of electron source and extractor in use forms a negative lens, wherein said extractor has a positive voltage with respect to the source. The extractor and the electron source are positioned such that, in use, a space charge limited region is present between them. In an embodiment, the extractor is a planar extractor. In another embodiment, the source is a thermionic source.. The generator may comprise an illumination system for collimating the electron beam.

8. 发明授权

KR100885940B1 하전입자선에 의한 검사장치 및 그 검사장치를 사용한장치제조방법 失效
标题翻译：充电颗粒光束检查装置和使用该检查装置制造装置的方法
公开(公告)号：KR100885940B1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：KR1020027014575
申请日：2001-06-27
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 나카스지마모루 , 노지노부하루 , 사타케도루 , 김바도시후미 , 소부카와히로시 , 요시가와쇼지 , 가리마타츠토무 , 오와다신 , 사이토무츠미 , 하마시마무네키 , 다카기도루
IPC分类号： H01J37/29
CPC分类号： G03F7/70616 , G01N23/225 , H01J37/05 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/226 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0435 , H01J2237/057 , H01J2237/06316 , H01J2237/082 , H01J2237/202 , H01J2237/20228 , H01J2237/204 , H01J2237/22 , H01J2237/2446 , H01J2237/24485 , H01J2237/24564 , H01J2237/248 , H01J2237/2482 , H01J2237/2806 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
摘要： 본 발명은 검사장치 및 그 검사장치를 사용한 반도체장치의 제조방법이다.
검사장치는 웨이퍼 등의 시료의 결함검사, 선폭측정, 표면전위측정 등을 행하기 위하여 사용된다. 검사장치에 있어서, 1차 광학계로부터 복수의 하전입자가 시료에 입사되고, 시료로부터 방출되는 2차 하전입자가 1차 광학계로부터 분리되어 2차 광학계를 거쳐 검출기로 유도된다. 하전입자의 조사는 시료를 이동하면서 행하여진다. 하전입자 조사점은 시료의 이동방향으로 N행, 이것과 직각방향으로 M열로 배치된다. 하전입자 조사점의 각 행이 순차 시료 이동방향과 직각방향으로 일정량씩 어긋나게 된다.

9. 发明公开

KR1020050065659A 전자 빔 노출 시스템 有权
标题翻译：电子束曝光系统
公开(公告)号：KR1020050065659A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：KR1020057007705
申请日：2003-10-30
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 캠퍼비크베르트잰 , 반빈알렉산더핸드릭빈센트 , 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： The invention relates to an electron beam exposure apparatus for transferring a pattern onto the surface of a target (14), comprising: a beamlet generator for generating a plurality of electron beamlets (5a, 5b); a modulation array for receiving said plurality of electron beamlets, comprising a plurality of modulators for modulating the intensity of an electron beamlet; a controller, connected to the modulation array for individually controlling the modulators, an adjustor, operationally connected to each modulator, for individually adjusting the control signal of each modulator; a focusing electron optical system comprising an array of electrostatic lenses (7) wherein each lens focuses a corresponding individual beamlet, which is transmitted by said modulation array, to a cross section smaller than 300 nm, and a target holder for holding a target with its exposure surface onto which the pattern is to be transferred in the first focal plane of the focusing electron optical system.
摘要翻译：本发明涉及一种用于将图案转印到目标（14）的表面上的电子束曝光装置，包括：用于产生多个电子束（5a，5b）的小波发生器; 用于接收所述多个电子子束的调制阵列，包括用于调制电子束的强度的多个调制器; 连接到用于单独控制调制器的调制阵列的控制器，可操作地连接到每个调制器的调节器，用于单独调整每个调制器的控制信号; 一种聚焦电子光学系统，包括静电透镜阵列（7），其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单独子束聚焦到小于300nm的横截面，以及用于保持目标的靶保持器在聚焦电子光学系统的第一焦平面中将图案转印到其上的曝光表面。

10. 发明公开

KR1020030029046A 시트빔식 검사장치 有权
标题翻译：薄板光束检测系统
公开(公告)号：KR1020030029046A
公开(公告)日：2003-04-11
申请号：KR1020027015278
申请日：2001-06-27
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 나카스지마모루 , 노지노부하루 , 사타케도루 , 김바도시후미 , 소부카와히로시 , 가리마타츠토무 , 오와다신 , 요시가와쇼지 , 사이토무츠미
IPC分类号： H01J37/29
CPC分类号： G01N23/225 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/082 , H01J2237/202 , H01J2237/20228 , H01J2237/204 , H01J2237/22 , H01J2237/24564 , H01J2237/2806 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
摘要： 시트빔식 검사장치 등의 전자선장치는, 전자선원으로부터의 1차 전자선을 검사대상에 조사하여, 상기 1차 전자선의 조사에 의하여 방출된 2차 전자선의 상을 투영하는 전자 광학계 및 전자 광학계에 의해 투영된 2차 전자선상을 검출하는 검출기를 가진다. 구체적으로는 전자선장치는 특정 폭을 가지는 전자선을 조사하는 빔발생수단(2004)과, 그 빔을 검사대상이 되는 기판(2006)의 표면에 도달시키는 1차 전자 광학계(2001)와, 기판(2006)으로부터 발생한 2차 전자를 보충하여 화상처리계 (2015)로 유도하는 2차 전자 광학계(2002)와, 기판(2006)을 적어도 1 자유도의 연속성을 가지고 이송 가능하게 유지하는 스테이지(2003)와, 기판(2006)의 검사실과, 그 검사실에 기판(2006)을 반출입하는 기판 반송기구와, 기판(2006)의 결함을 검출하는 화상처리 해석장치(2015)와, 검사실의 제진기구와, 검사실의 진공을 유지하는 진공계와, 기판(2006)의 결함위치를 표시 또는 기억하는 제어계(2017)를 구비한다.

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