专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020150043541A H2O, CO2, O2 및 탄소 공급 원료로부터 전력을 생성하는 방법 有权
标题翻译：用于从H 2 O，CO 2，O 2和碳进料发生发电的方法
公开(公告)号：KR1020150043541A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：KR1020157008600
申请日：2013-09-05
申请人： 파워다인, 인코포레이티드
发明人： 히어슨게프레이 , 슈즈거스에프.
IPC分类号： B01J12/00 , C01B3/04 , F01K13/00 , F01D15/10
CPC分类号： F01K25/06 , B01D21/0009 , B01D21/01 , B01J12/002 , B01J19/088 , B01J2219/00063 , B01J2219/00162 , B01J2219/00186 , B01J2219/0809 , B01J2219/0815 , B01J2219/0871 , B01J2219/0875 , B01J2219/0877 , B01J2219/0879 , B01J2219/0898 , B03C3/025 , B03C3/16 , B09B3/005 , C01B3/02 , C01B3/042 , C01B3/12 , C01B2203/062 , C01B2203/0861 , C07C1/04 , C10G2/32 , C10J3/00 , C10J2300/1238 , C10J2300/1671 , C10J2300/1675 , C10L1/06 , C10L1/08 , C10L2200/0415 , C10L2200/0423 , C10L2200/043 , C10L2200/0446 , C10L2290/38 , C10L2290/42 , F02C1/05 , H05H1/34 , H05H1/42 , H05H1/44 , H05H1/48 , Y02E50/32 , Y02E60/364 , Y02P20/13 , Y02T50/678 , F01D15/10 , F01K13/00
摘要： 제 1 처리챔버에서, 공급원료는제 1 유체혼합물을형성하도록 3개의플라즈마토치들로부터의플라즈마와결합될수 있다. 각각의토치는수증기, 산소, 및이산화탄소를포함하는작동가스를가질수 있다. 제 1 유체혼합물은냉각될수 있고제 1 열교환장치와접촉할수 있다. 제 1 열교환장치내의물은전력을생성하도록증기로전환될수 있다. 제 1 열교환장치로부터의출력된유체는하나이상의구성요소들로분리될수 있다. 합성가스는하나이상의구성요소들로부터얻을수 있고약 1:2의일산화탄소대 수소의비를가질수 있다. 합성가스는제 2 처리챔버에서가열될수 있고이어서제 2 혼합물을형성하도록냉각될수 있다. 제 2 혼합물은증기가제 2 전기발생기를작동시킬수 있는제 2 열교환장치와접촉할수 있다.
摘要翻译：在第一处理室中，原料可以与来自三个等离子体炬的等离子体组合以形成第一流体混合物。每个手电筒可能具有包括水蒸气，氧气和二氧化碳在内的工作气体。第一流体混合物可以被冷却并且可以接触第一热交换装置。第一热交换装置中的水可以被转换为蒸汽以产生电力。来自第一热交换装置的输出流体可以被分离成一个或多个部件。合成气可以衍生自一种或多种组分，并且一氧化碳与氢的比例为约1:2。可以在第二处理室中加热合成气，然后冷却以形成第二混合物。第二混合物可接触第二热交换装置，该第二热交换装置可使蒸汽驱动第二发电机。

2. 发明授权

KR101464997B1 배기 가스 처리 장치 有权
标题翻译：废气处理装置
公开(公告)号：KR101464997B1
公开(公告)日：2014-11-25
申请号：KR1020080011049
申请日：2008-02-04
申请人： 클린 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 아와지토시오 , 나카야마다카시
IPC分类号： B01D53/32
CPC分类号： B01D53/32 , B01D53/70 , B01D2251/206 , B01D2251/304 , B01D2251/402 , B01D2251/404 , B01D2251/604 , B01D2257/204 , B01D2257/2066 , B01D2259/818 , H05H1/24 , H05H1/48 , H05H2245/121 , Y10S422/906
摘要： [과제] 반응관의 지름을 크게 함으로써 배기 가스의 처리량을 증대시킴과 아울러 수막을 필요로 하지 않고 플라즈마의 발생 상태를 안정화시켜 플라즈마장(plasma length)을 늘림으로써 제해 성능을 높일 수 있는 배기 가스 처리 장치를 제공하는 것이다.
[해결 수단] 배기 가스(G)를 도입하는 반응관(1)과, 반응관(1)의 상부측에서 공중에 설치된 상부 전극(2)과, 반응관(1)의 하부측에 설치된 하부 전극(3)과, 상부 전극(2)과 하부 전극(3) 사이에 전해질 용액(D)을 분무하는 분무 노즐(4)을 구비하고, 상부 전극(2)과 하부 전극(3) 사이에 전해질 용액(D)을 분무함으로써 전극(2,3)간에 전류의 경로를 형성해서 반응관(1) 내에 플라즈마(P)를 발생시킨다.
배기 가스 처리 장치
摘要翻译： [问题]本发明提供一种废气处理装置，其能够通过增大反应管的直径来提高废气的处理量，并且能够稳定等离子体的生成状态而不需要水膜并且增加等离子体长度，提供一种装置。

3. 发明公开

KR1020140105585A 분리된 이온 및 라디칼 제어를 위한 소스를 이용한 반도체 프로세싱 시스템 审中-实审
标题翻译：具有解离离子和放射性控制源的半导体处理系统
公开(公告)号：KR1020140105585A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：KR1020147019926
申请日：2012-12-04
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 코시시아키라 , 벤트젝피터,엘.지. , 시나가와준 , 홀랜드존,패트릭
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/02 , H01B13/00
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/509 , H01J37/32422 , H05H1/46 , H05H1/48 , H05H2001/466
摘要： 프로세싱 영역이 상단 판 어셈블리와 기판 지지부 사이에 존재하도록, 상단 판 어셈블리는 기판 지지부 위에 이격되어 배치된다. 상단 판 어셈블리는 중앙 프라즈마 발생 마이크로챔버에 대하여 동심으로 위치한 중앙 플라즈마 발생 마이크로챔버 및 복수의 환형-형상의 플라즈마 발생 마이크로챔버를 포함한다. 중앙 플라즈마 발생 마이크로챔버 및 환형-형상의 플라즈마 발생 마이크로챔버 중 인접하게 위치된 마이크로챔버들은 중앙 플라즈마 발생 마이크로챔버 및 환형-형상의 플라즈마 발생 마이크로챔버 사이에 다수의 축 배기 구멍을 형성하도록 서로 이격되어 위치한다. 중앙 플라즈마 발생 마이크로챔버 및 환형-형상의 플라즈마 발생 마이크로챔버 각각은 마이크로챔버 내에 대응하는 플라즈마를 발생하고 상부 판 어셈블리와 기판 지지부 사이의 프로세스 영역에 마이크로챔버의 플라즈마의 반응 성분을 공급하도록 구성된다.

4. 发明公开

KR1020140023925A 피복 금속 제품을 형성하기 위한 방법 및 장치 无效
标题翻译：用于形成金属制品的方法和装置
公开(公告)号：KR1020140023925A
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：KR1020137026762
申请日：2012-03-09
申请人： 메소코트, 인코포레이티드
发明人： 셔먼,앤드루제이. , 엥글만,피.그렉 , 메다닉,마리오 , 길버트,커트이.
IPC分类号： B23K20/00 , B23K13/00 , B23K37/00
CPC分类号： B23K10/027 , B05D3/0254 , B23K28/00 , B23K31/027 , B23K37/0217 , B23K37/0531 , B23K37/0538 , B23K2201/06 , B23K2201/10 , C23C24/08 , F16L58/08 , H05B6/80 , H05H1/48
摘要： 본 발명은 피복 파이프 또는 튜브와 같은 피복 제품을 형성하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 특정 실시예는 피복 재료를 금속 기판상에 야금학적으로 접착하기 위한 방법을 포함하며, 상기 방법은 코팅된 기판을 형성하도록 기판의 내부 표면을 따라 배치된 피복 조성물을 가지는 파이프 또는 튜브를 포함하는 금속 기판을 제공하는 단계를 포함하며, 상기 내부 표면은 기판의 내부 공동 내에 배치된다. 추가의 단계는 기판의 내부 공동 내로 열원을 삽입하는 단계를 포함하며, 상기 열원은 적외선, 마이크로파 또는 무선 주파수 열원을 포함하며, 상기 열원은 열원-보유 하우징 상에 장착되고, 상기 하우징은 외팔보식 구조를 포함한다. 부가 단계는 피복 조성물이 상기 기판에 야금학적으로 접착될 때까지 열원으로부터 방출된 열을 코팅된 내부 표면을 따라 코팅된 기판에 인가하는 단계를 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及用于形成包覆产品的方法和装置，例如复合管或管。具体实施方案包括用于将包覆材料冶金结合到金属基底上的方法，所述方法包括提供包括管或管的金属基底的步骤，所述管或管具有沿着所述基底的内表面布置的覆层组合物以形成涂覆的基底，内表面布置在基底的内腔内。进一步的步骤包括将热源插入衬底的内腔中，该热源包括红外线，微波或射频热源，该热源安装在热源保持壳体上，该壳体包括悬臂结构。附加步骤包括沿着涂覆的内表面将从热源排出的热量施加到涂覆的基底上，直到包层组合物冶金地结合到基底上。

5. 发明授权

KR101349351B1 태양광색 아크 발생장치 및 고압 방전등 有权
标题翻译：用于产生太阳能电弧的装置和太阳能高压放电灯
公开(公告)号：KR101349351B1
公开(公告)日：2014-01-10
申请号：KR1020120008384
申请日：2012-01-27
申请人： 김기성 , 동양보일러뱅크(주)
发明人： 김기성
IPC分类号： H01J61/073 , H01J61/56 , H01J61/84
CPC分类号： H05B7/18 , F22B1/30 , H01J65/048 , H05H1/48
摘要： 본 발명의 태양광색 아크 발생장치는, 토카막 장치의 원리를 응용하여 토로이달과 폴로이달 결선 방식을 이용한 태양광 색 아크 리액터를 개발하는 것이 목적인바, 교류 전원 혹은 직류 전원 공급부에 접속되며 교류유도 리액턴스를 최대화하고 직류저항을 최소화시킨 권선부(20); 및 상기 권선부의 일측에 접속되는 아크 발생부(30); 를 포함하되, 상기 권선부(20)는, 8자형 코일부(200)와, 상기 8자형 코일부의 좌우 환형 고리(201,202)를 관통하는 결합 도우넛형 코일부(300)로 이루어지며, 상기 8자형 코일부(200)와 상기 결합 도우넛형 코일부(300)의 각각은, 적어도 하나의 꼬임선 뭉치로 이루어지되, 각 꼬임선 뭉치는 적어도 2개의 꼬임선이 꼬여서 이루어지며, 상기 꼬임선은 적어도 하나의 전선으로 이루어짐으로써, 상기 권선부(20)는 가급적 짧은 길이의 전선으로 가급적 많은 토로이달 및 폴로이달 자기장을 형성하여, 교류유도 리액턴스 및 직류저항을 가급적 작게하는 출력을 가능하게 하는 것을 특징으로 한다.

6. 发明公开

KR1020130023511A 냉각용 열교환기가 설치된 펄스 플라즈마 반응기 有权
标题翻译：具有冷却热交换器的脉冲等离子体反应器
公开(公告)号：KR1020130023511A
公开(公告)日：2013-03-08
申请号：KR1020110086325
申请日：2011-08-29
申请人： 한국기계연구원
发明人： 한방우 , 김용진 , 김학준
IPC分类号： H05H1/24 , B01D53/32 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32522 , H01J37/32073 , H01J37/3244 , H01J37/3255 , H01J37/32559 , H01J37/32862 , H05H1/48 , H05H2001/481 , H05H2242/10
摘要： PURPOSE: A pulse plasma reactor is provided to increase processing efficiency of nitrogen dioxide by offering an environment for nitrogen dioxide included in toxic gas to react with ammonia. CONSTITUTION: A pulse plasma reactor consists of a pulse corona discharge unit(10) generating a large amount of radical such as O, OH and HO2 by generating pulse corona discharge, a hydroplaning unit forming a hydroplane on a precipitator of the pulse corona discharge unit, a cleansing solution tank(30) storing cleansing solution used for the hydroplaning unit, a cleansing solution circulation unit(40) supplying cleansing solution in the cleansing solution tank to the hydroplaning unit, a gas supply unit(60) supplying additional gas for processing toxic gas and a heat exchanger(70) to decrease temperature of toxic gas to well react with the additional gas. [Reference numerals] (AA) Toxic gas; (BB) Additional gas; (CC) Processed toxic gas; (DD) Refrigerant; (EE) Ground
摘要翻译：目的：提供脉冲等离子体反应器，通过提供包含在有毒气体中的二氧化氮与氨反应的环境来提高二氧化氮的处理效率。构成：脉冲等离子体反应器由脉冲电晕放电单元（10）组成，脉冲电晕放电单元（10）通过产生脉冲电晕放电产生大量的自由基，例如O，OH和HO2，在脉冲电晕放电单元的除尘器上形成水平面的滑水单元存储用于所述滑水单元的清洗液的清洗液槽（30），将清洗液槽内的清洗液供给到所述滑水单元的清洗液循环单元（40），供给用于处理的附加气体的气体供给单元有毒气体和热交换器（70），以降低有毒气体的温度，以便与附加气体良好反应。（附图标记）（AA）有毒气体; （BB）附加气体; （CC）加工有毒气体; （DD）制冷剂; （EE）地面

7. 发明授权

KR101218075B1 폐기물 처리 챔버에서 사용하기 위한 개선된 플라즈마 토치 失效
标题翻译：一种用于废物处理室的改进的等离子喷枪
公开(公告)号：KR101218075B1
公开(公告)日：2013-01-03
申请号：KR1020077027581
申请日：2006-04-27
申请人： 이.이.알. 인바이런먼탈 에너지 리소스(이-스라엘) 엘티디.
发明人： 그네덴코,바레리지. , 수리스,알렉산더엘. , 페가즈,데이비드
IPC分类号： H05H1/26
CPC分类号： H05H1/48 , H05H1/28
摘要： 본발명은폐기물처리챔버의벽에있는개구부를통해삽입하기위한플라즈마토치이다. 본발명의플라즈마토치는상부단부및 하부단부를갖는동축슬리브를포함하는것에의해특징화된다. 슬리브는상기벽의개구부에위치되는적어도토치의외부표면의부분을에워싸슬리브의내부표면과토치의외부표면사이에절연챔버를형성한다. 상기벽의개구부에위치되는적어도토치의상기외부표면의부분을에워싸는동축슬리브의부분의적어도일부분은열 교환유체에대한투과성또는침투성이다. 토치는절연챔버로열 교환유체를유입시키기위한유입구를포함한다. 플라즈마토치가개구부를통해삽입될때, 처리챔버벽과동축슬리브사이에갭이존재한다. 따라서, 동축슬리브및 절연챔버는처리챔버벽과처리챔버의내부로부터방사되는많은양의열로부터플라즈마토치의외부표면을보호하고, 유입구를통해흐르는열 교환유체가절연챔버를빠져나가처리챔버로향한다.

8. 发明授权

KR101158590B1 나노구조 탄소 재료의 제조 방법, 상기 제조 방법에 의해형성된 나노구조 탄소 재료 및 상기 나노구조 탄소 재료를갖는 기판 有权
标题翻译：用于制造纳米结构的碳材料的方法，通过这种方法生产的纳米结构的碳材料和具有这种纳米结构的碳材料的基材
公开(公告)号：KR101158590B1
公开(公告)日：2012-06-22
申请号：KR1020067009255
申请日：2004-11-08
申请人： 코니카 미놀타 가부시키가이샤
发明人： 콘도,요시까즈
IPC分类号： C01B31/02 , B82B3/00 , B82Y40/00
CPC分类号： H05H1/48 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/158 , C01B32/162 , C01B2202/02 , D01F9/12 , H01J2201/30469 , H05H2240/10 , H05H2245/124
摘要： A method for forming nanostructured carbons comprising the steps of: generating a plasma by supplying at least a discharge gas between opposing electrodes and applying a high-frequency voltage between the electrodes under an approximately atmospheric pressure; existing a material gas for forming the nanostructured carbons with the plasma to generate an activated material gas; and exposing a substrate to the activated material gas.

9. 发明授权

KR101083085B1 방전 공간에서 전기 방전을 통하여 플라스마를 발생시키기위한 방법 및 장치 有权
标题翻译：通过放电空间中的放电等离子体生成的方法和装置
公开(公告)号：KR101083085B1
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：KR1020057016748
申请日：2004-03-05
申请人： 코닌클리케 필립스 엔.브이.
发明人： 보쉬,에릭,제라더스,데오도어 , 존커스,제르엔 , 네프,윌리 , 데라,귄더,핸스
IPC分类号： H05H1/24 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , H05G2/005 , H05H1/48
摘要： The invention relates to a method and a device for the generation of a plasma through electric discharge in a discharge space which contains at least two electrodes, at least one of which is constructed from a matrix material or carrier material, such that an erosion-susceptible region with an evaporation spot is formed at least by the current flow. To present a method or a device for the generation of a plasma by electric discharge, it is suggested that a sacrificial substrate (38) is provided at least at the evaporation spot, the boiling point of said sacrificial suvstrate (38) during discharge operation lying below the melting point of the carrier material (30), such that charge carriers arising in the current flow are mainly generated from the sacrificial substrate (38).

10. 发明公开

KR1020110038418A 휘발성유기화합물 및 악취처리를 위한 저온 플라즈마 반응장치 失效
标题翻译：挥发性有机化合物的冷等离子体反应装置或有毒气味处理
公开(公告)号：KR1020110038418A
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：KR1020090095701
申请日：2009-10-08
申请人： 주식회사 세미라인
发明人： 민병롱 , 하문수 , 유중환 , 신승욱 , 정탁교
IPC分类号： B01D53/32 , B03C3/00 , A61L9/22
CPC分类号： B01D53/323 , A61L9/16 , B01D46/30 , B01D2255/102 , B01D2255/20 , B01D2257/708 , B01D2259/818 , H05H1/48
摘要： PURPOSE: A low temperature plasma reaction apparatus for disposing volatile organic compounds and bad odor are provided to optimize the flux of target gas by regulating the location of a blind plate and increasing an electric discharging area. CONSTITUTION: A low temperature plasma reaction apparatus for disposing volatile organic compounds and bad odor is installed in a housing through which target gas including toxic components flows. A conductive block(1) includes a cylindrical groove(11) and a slit hole(12). A plasma unit(2) is spaced apart from the inner circumference of the cylindrical groove. An electric discharging induction part(3) increases the electric charge area of the plasma unit. The electric discharging induction part is a bland plate.
摘要翻译：目的：提供一种用于处置挥发性有机化合物和恶臭的低温等离子体反应装置，通过调节盲板的位置和增加放电面积来优化目标气体的通量。构成：用于放置挥发性有机化合物和恶臭的低温等离子体反应装置安装在包含有毒成分的目标气体流过的壳体中。导电块（1）包括圆柱形槽（11）和狭缝孔（12）。等离子体单元（2）与圆柱形槽的内圆周间隔开。放电感应部件（3）增加等离子体单元的电荷面积。放电感应部件是平板。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式