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1. 发明公开

KR20180031755A 마이크로파 생성기 및 합성 다이아몬드 물질의 제조 审中-公开
标题翻译：微波发生器和人造金刚石材料的制造
公开(公告)号：KR20180031755A
公开(公告)日：2018-03-28
申请号：KR20187005280
申请日：2016-08-22
申请人： ELEMENT SIX TECH LIMITED
发明人： BRANDON JOHN ROBERT , PERKINS NEIL
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32192 , H01J37/32266 , H01J37/32935 , H01J37/32944 , H05H2001/4607 , H05H2001/4622
摘要： 마이크로파플라즈마강화화학기상증착(MPECVD) 시스템에서사용할마이크로파생성기시스템이제공되며, 이마이크로파생성기시스템은, 화학기상증착처리를통해서합성다이아몬드물질을제조하기에적합한동작파워출력으로마이크로파를생성하도록구성된마이크로파생성기유닛과, 동작파워출력의감소혹은주파수변경을유발하는마이크로파생성기의오류를검출하도록구성된오류검출시스템과, 오류가검출된것에응답해서마이크로파생성기유닛을재시작하고, 동작파워출력의감소혹은주파수변경을유발한마이크로파생성기유닛의오류이후에 10초미만의시간이내에동작파워출력혹은주파수를복구하도록구성된재시작시스템을포함한다.
摘要翻译：微波等离子体增强，提供了一种化学气相沉积（MPECVD）微波发生器系统在系统中使用，所述微波发生器系统包括一个微波发生器单元，被配置hagie产生通过化学气相沉积工艺的合成金刚石材料以产生一个合适的操作功率输出的微波并且，由被配置为检测所述微波发生器的故障引起的频率变化的功率输出减少或误差检测系统的操作中，响应于微波发生器单元的重新启动中检测到错误时，其导致降低操作功率输出的或频率变化并且重启系统被配置为在一个微波发生器单元的错误之后小于10秒的时间段内恢复操作功率输出或频率。

2. 发明公开

KR1020160119788A 플라즈마 공정에서 방전을 모니터링하는 방법 및 플라즈마에서의 방전을 모니터링하기 위한 모니터링 디바이스 审中-实审
标题翻译：监测等离子体放电的方法和用于监测等离子体放电的监测装置
公开(公告)号：KR1020160119788A
公开(公告)日：2016-10-14
申请号：KR1020167022585
申请日：2015-02-06
申请人： 트럼프 휴팅거 에스피 제트 오. 오.
发明人： 지에랄토프스키안제이 , 그라봅스키아담 , 라흐표트르 , 젤레초프스키마르친
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32944 , G01R19/165 , H01J37/32128 , H01J37/32917 , H01J37/32926 , H01J37/32935
摘要： 플라즈마공정에서의방전을모니터링하는방법은, a. 주기적전력공급신호(71a)를플라즈마공정에공급하는단계; b. 전력공급신호의제 1 기간내의제 1 시간간격(Δt) 내에서제 1 전력공급신호파형을결정하는단계; c. 전력공급신호의제 2 기간내의제 2 시간간격(Δt) - 제 2 시간간격(Δt)은제 1 기간내의제 1 시간간격(Δt)의포지션에대응하는제 2 기간에서의포지션에있음 - 내에서제 2 전력공급신호파형(31, 51)을결정하는단계; d. 제 2 시간간격의제 2 전력공급신호파형(31, 51)을제 1 시간간격의제 1 전력공급신호파형또는기준신호파형(50, 60)과비교하고, 제 1 비교결과를결정하는단계; e. 제 1 비교결과가주어진제 1 비교결과에대응하면, 제 2 시간간격(Δt)에서의상기제 2 전력공급신호파형(31, 51), 제 1 시간간격(Δt)에서의제 1 전력공급파형또는기준신호파형(50, 60) 중하나를타임시프트하고, 타임시프트된신호를타임시프트되지않았던신호파형들중 하나와비교함으로써, 제 2 비교결과를획득하는단계를포함한다.

3. 发明公开

KR1020160064171A 플라즈마 공정에서 방전을 모니터링하기 위한 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：用于监测等离子体放电过程的装置和方法
公开(公告)号：KR1020160064171A
公开(公告)日：2016-06-07
申请号：KR1020167010971
申请日：2014-09-30
申请人： 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게
发明人： 레이폴드다니엘 , 리히터울리히 , 분파비앙
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32009 , G01R19/0061 , G01R31/12 , H01J37/32917 , H01J37/32926 , H01J37/32935 , H01J37/32944
摘要： 플라즈마공정에서의방전, 특히캐소드스퍼터링구성(13)의전극들사이의방전을모니터링하기위한디바이스및 방법 - 발전기는발전기의주기적으로변하는출력신호와함께전력을캐소드스퍼터링구성(13)에공급함 - 은, a. 적어도하나의플라즈마공급신호(19)의적어도제1 신호경로(2)를플라즈마공급신호의적어도하나의주기내에서의적어도제1 시간범위내에서검출하는단계, b. 적어도하나의플라즈마공급신호(19)의적어도제2 신호경로(6)를플라즈마공급신호의적어도하나의다른주기에서의제1 시간범위에대응하는지점에있는적어도제2 시간범위내에서검출하는단계, 및 c. 제2 신호경로가제1 신호경로로부터어떤거리만큼벗어나면식별신호를발생시키는단계를포함하고, 이거리는최소시간차(22) 및최소신호진폭차(21)를가진다. 상세하게는, 아크가그에의해아주신뢰성있고아주신속한방식으로식별될수 있다.

4. 发明授权

KR101343865B1 웨이퍼, 기판 표면의 플라즈마 가공 공정 중 아크 현상 감지방법 및 감지장치 有权
标题翻译：在晶片表面的等离子体处理期间检测电弧事件的方法和装置
公开(公告)号：KR101343865B1
公开(公告)日：2013-12-20
申请号：KR1020127007122
申请日：2010-08-12
申请人： 베러티 인스트루먼트, 인코퍼레이티드
发明人： 다니엘스,스텝헨 , 그린,샤네 , 소베론,페리페 , 마구이레,파울
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/32944 , H01J37/32082 , H01J37/32091 , H01J37/32935 , H01J37/32972 , H01L21/3065 , H01L22/14
摘要： 반도체웨이퍼, 기판표면에서수행되는플라즈마공정으로부터적어도하나이상의공정변수를모니터링하고플라즈마장치챔버내부에서발생하는아크현상을측정하는방법을제공한다. 상기방법은, 플라즈마공정간 플라즈마시스(sheath)로부터생성된변조된광선을감지하는단계; RF 전송선으로부터 RF 전압및 전류신호를샘플링하는단계; 적어도하나이상의모니터통계데이타를생성하기위하여감지된변조된광선및 RF 신호를처리하는단계; 및웨이퍼가공간 아크현상의발생을결정하기위하여모니터신호를처리하는단계를포함하는것인, 방법을제공한다.

5. 发明公开

KR1020120127350A 플라즈마 모니터링 시스템 无效
标题翻译：监测等离子体系统
公开(公告)号：KR1020120127350A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：KR1020120095061
申请日：2012-08-29
申请人： (주)쎄미시스코
发明人： 이순종 , 우봉주 , 정재훈 , 김학권 , 강지호
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01J37/32944
摘要： PURPOSE: A system for monitoring plasma is provided to accurately detect a processing state and abnormalities of a plasma process by detecting arcs as well as an end point of an etching process. CONSTITUTION: A spectroscope(108) is used in order to monitor the state of plasma. The spectroscope is connected to a viewport(120) of a chamber(100) through a first optical fiber(122). An arc detection sensor(110) is connected to the viewport through a second optical fiber(124). The arc detection sensor senses arc light due to an arc. A detection and control module(112) detects an end point by analyzing data provided from the spectroscope. [Reference numerals] (108) Spectroscope; (110) Arc sensor; (112) Detection/control module
摘要翻译：目的：提供一种用于监测等离子体的系统，以通过检测电弧以及蚀刻工艺的终点来精确地检测等离子体工艺的处理状态和异常。构成：使用分光镜（108）来监视等离子体的状态。分光器通过第一光纤（122）连接到腔室（100）的视口（120）。电弧检测传感器（110）通过第二光纤（124）连接到视口。电弧检测传感器由于电弧感测电弧光。检测和控制模块（112）通过分析从分光镜提供的数据来检测终点。（附图标记）（108）分光镜; （110）电弧传感器; （112）检测/控制模块

6. 发明公开

KR1020090010639A 이온원 전극과 이온원 전극보호회로의 이상을 동시에 검출하기 위한 원격검출장치 失效
标题翻译：与离子源相关的电极和电路的故障保护装置
公开(公告)号：KR1020090010639A
公开(公告)日：2009-01-30
申请号：KR1020070073909
申请日：2007-07-24
申请人： 한국원자력연구원
发明人： 오병훈 , 김민석 , 정기석
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32935 , G01N27/283 , G01R31/16 , H01C7/12 , H01J37/32559 , H01J37/32944
摘要： An apparatus for detecting failure of an electrode and an electrode protecting device related to ion sources is provided to protect ion sources by replacing the electrode protecting device with the trouble by including a plurality of electrode protecting devices. A remote detecting apparatus(1) includes an electrode protecting unit(10), a test power supply unit(60), an insulation detecting unit(80), a switching unit and a controller. The electrode protecting unit protects the ion source by absorbing a surge voltage that is a failure voltage induced to a transmission line as a transient voltage which is changed for a short time. The insulation detection unit detects damage between electrodes connected to ion sources to output the beam by using arc plasma. The test power supply unit verifies the ion source electrode and the electrode protecting unit for protecting the electrode. The switching unit is selectively connected to each component. The controller controls each component and transmits the detected data remotely.
摘要翻译：提供一种用于检测与离子源相关的电极故障和电极保护装置的装置，通过包括多个电极保护装置来替代电极保护装置来保护离子源。远程检测装置（1）包括电极保护单元（10），测试电源单元（60），绝缘检测单元（80），开关单元和控制器。电极保护单元通过吸收浪涌电压来保护离子源，该浪涌电压是作为短时间改变的瞬时电压而被传输到传输线的故障电压。绝缘检测单元检测连接到离子源的电极之间的损坏，以通过使用电弧等离子体输出光束。测试电源单元验证离子源电极和电极保护单元以保护电极。切换单元选择性地连接到每个组件。控制器控制每个组件并远程发送检测到的数据。

7. 发明公开

KR1020080048310A 반도체 소자 제조용 플라즈마 장치 无效
标题翻译：用于制造半导体器件的等离子体设备
公开(公告)号：KR1020080048310A
公开(公告)日：2008-06-02
申请号：KR1020060118552
申请日：2006-11-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 금경수 , 홍형식 , 허노현 , 박진성 , 한재현 , 이용철
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32944 , H01L21/67288
摘要： A plasma apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to prevent the generation of an arc and to prevent damage of a wafer by using a digital signal processor. A power supply unit(110) supplies electric power to a plasma chamber(100). An electrical signal measurement unit(120) measures an electrical signal supplied to the plasma chamber and outputs a measured value. A control unit(130) receives the measured value outputted from the electrical signal measurement unit, compares the measured value with a predetermined range, and controls an operation of the power supply unit. The control unit includes an analog/digital converter(132) for converting the measured value to a digital signal, a digital signal processor(134) for comparing the digital signal with the predetermined range, and an interlock part(136) for controlling the operation of the power supply unit.
摘要翻译：提供一种用于制造半导体器件的等离子体装置，以防止产生电弧并且通过使用数字信号处理器来防止晶片的损坏。电源单元（110）向等离子体室（100）供电。电信号测量单元（120）测量提供给等离子体室的电信号并输出测量值。控制单元（130）接收从电信号测量单元输出的测量值，将测量值与预定范围进行比较，并控制电源单元的操作。控制单元包括用于将测量值转换为数字信号的模拟/数字转换器（132），用于将数字信号与预定范围进行比较的数字信号处理器（134），以及用于控制操作的互锁部分（136）的电源单元。

8. 发明公开

KR1020170096014A 플라즈마 공정의 전력 공급 동안 발생하는 아크를 검출하는 방법, 플라즈마 전력 공급부에 대한 제어 유닛, 및 플라즈마 전력 공급부 审中-实审
标题翻译：一种用于检测在等离子体工艺的供电期间发生的电弧的方法，用于等离子体电源的控制单元，
公开(公告)号：KR1020170096014A
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：KR1020177019854
申请日：2015-12-15
申请人： 트럼프 휴팅거 에스피 제트 오. 오.
发明人： 가핀스키체자리 , 기에랄토브스키안드레 , 그라보브스키아담 , 라치피오트르 , 제레초브스키마르친
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32944
摘要： 플라즈마챔버(30)에서의플라즈마공정에전력을공급하기위한플라즈마전력공급부(10)는: a. DC 소스(15); b. DC 소스(15)에연결된출력신호발생기(16); c. DC 소스(15)와출력신호발생기(16) 사이에존재하는신호시퀀스를측정하기위한제1 신호시퀀스측정디바이스(20); d. 출력신호발생기(16)의출력에존재하는신호시퀀스를측정하기위한제2 신호시퀀스측정디바이스(18, 19); 및 e. 제1 및제2 신호시퀀스측정디바이스들(18, 19, 20)에연결되는제어유닛(14)을포함한다.
摘要翻译：一种用于向等离子体室（30）中的等离子体处理供应功率的等离子体电源（10）包括：a。直流电源15; 湾耦合到DC源15的输出信号发生器16; 温度。测量装置20的第一信号序列以测量所述DC源15和输出信号生成器16之间存在一个信号序列; d。用于在输出端（16）测量的信号序列存在于输出信号发生器的第二信号序列，所述测量装置（18，19）; 和e。以及连接到第一和第二信号序列测量装置18,19,20的控制单元14。

9. 发明公开

KR1020160049463A 플라즈마 처리 장치 审中-实审
标题翻译：等离子体加工设备
公开(公告)号：KR1020160049463A
公开(公告)日：2016-05-09
申请号：KR1020150142640
申请日：2015-10-13
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 고노마사유키 , 손류 , 마츠모토나오키 , 요시카와쥰 , 아이타미치타카 , 시미즈잇페이 , 요시다유스케 , 고야마고지 , 스다야마마사미 , 아라마키유키요시
IPC分类号： H01L21/02 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32192 , H01J37/32266 , H01J37/32944
摘要： (과제) 전자파의전파를억제함으로써챔버내에있어서의이상방전의발생을억제하는것을목적으로한다. (해결수단) 가스를챔버내에공급하고, 전자파의전력에의해가스로부터플라즈마를생성하고, 유지대에유지된기판에소정의플라즈마처리를실시하는플라즈마처리장치로서, 전자파발생기로부터출력된전자파를전파시켜, 상기챔버내에투과시키는유전체창과, 상기유전체창을지지하는지지부재와, 상기유전체창에인접하는돌출부를갖고, 상기지지부재가배치된공간과플라즈마생성공간을구획하는구획부재와, 상기돌출부에의해상기플라즈마생성공간에노출되지않도록, 상기구획부재와상기유전체창의사이에배치되는도전성부재를갖는플라즈마처리장치가제공된다.
摘要翻译：本发明通过抑制电磁波的电波来抑制室内异常放电的发生。等离子体处理装置将气体供应到室中，通过电磁波的动力从气体产生等离子体，并对保持器上的基板进行预定的等离子体处理。等离子体处理装置包括：电介质窗，其扩展从电磁发生器输出的电磁波，以将电磁波传输到室中; 支撑构件，其支撑介电窗口; 分隔构件，其具有与所述电介质窗口相邻的突出部分并且分隔所述支撑构件设置的空间和等离子体产生空间; 以及导电构件，其设置在所述分隔构件和所述电介质窗口之间，以避免通过所述突出部暴露于所述等离子体产生空间。

10. 发明公开

KR1020150046275A 스위칭 모드 이온 에너지 분포 시스템의 고장, 비정상 및 다른 특성들을 모니터링하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于监测开关型离子能量分配系统的故障，异常和其他特性的系统和方法
公开(公告)号：KR1020150046275A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：KR1020157007516
申请日：2013-08-26
申请人： 어드밴스드 에너지 인더스트리즈 인코포레이티드
发明人： 카터다니엘 , 브룩빅터 , 호프만다니엘제이.
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/08 , G01N27/06
CPC分类号： H01J37/08 , G01N27/06 , H01J37/32944 , H01J37/3299 , H01J37/32917
摘要： 플라즈마챔버에있어서이온에너지를조정하고기판지지부에대해기판을척킹하기위한시스템, 방법및 장치가기재된다. 예시적방법은, 플라즈마챔버에기판을배치시키는단계, 상기플라즈마챔버에플라즈마를형성하는단계, 기판에주기전압함수(또는변조된주기전압함수)를인가하도록기판에대한파워를제어가능하게스위칭하는단계, 및주기전압함수의다중사이클에걸쳐, 시간평균방식으로규정된이온에너지분포를야기하도록기판의표면에서규정된이온에너지분포에응답하여주기전압함수를변조하는단계를포함한다.
摘要翻译：公开了用于调节等离子体室中的离子能并将衬底夹持到衬底支撑件的系统，方法和装置。一种示例性方法包括将衬底放置在等离子体室中，在等离子体室中形成等离子体，可控制地将功率切换到衬底，以便向衬底施加周期性电压函数（或修改的周期性电压函数），并且对衬底进行调制周期性电压功能的多个周期，周期性电压函数响应于衬底表面处的离子能量的限定分布，以便以时间平均的方式实现定义的离子能量分布。

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