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    • 3. 发明申请
    • PREDICTIVE SYSTEM FOR INDUSTRIAL INTERNET OF THINGS
    • 事物的工业互联网预测系统
    • WO2017200770A1
    • 2017-11-23
    • PCT/US2017/031245
    • 2017-05-05
    • INTEL CORPORATION
    • SINDIA, SurajAGARWAL, ShrutiYELTEN, Mustafa BerkeTICE, Christopher L.JANCZAK, Teresa KrystynaJOHNSON, Scott C.
    • H01L21/66G06N3/08
    • G06N7/005G01R31/2894G06N3/02G06N3/08G06Q10/063H01L22/14H01L22/20
    • Systems, apparatuses, and methods for enabling sensor discovery in autonomous devices herein. An example device to perform system-level verification predictions includes a neural network circuit including a neural network. During a first phase, the neural network circuit to train the neural network using respective assembly-level test data and the system-level verification test data associated with each of a first plurality of semiconductor dice. The first plurality of semiconductor dice is produced from a plurality of training wafers. During a second phase, the neural network circuit to determine, using the neural network, a system-level pass/fail decision for each of second plurality of semiconductor dice based on respective assembly-level test data associated with each of the second plurality of semiconductor dice. The second plurality of semiconductor dice is produced from a plurality of production wafers.
    • 本文中用于在自主设备中启用传感器发现的系统,设备和方法。 执行系统级验证预测的示例设备包括包含神经网络的神经网络电路。 在第一阶段期间,神经网络电路使用各自的组装级测试数据和与第一多个半导体管芯中的每一个相关联的系统级验证测试数据来训练神经网络。 第一组多个半导体管芯由多个训练晶圆制成。 在第二阶段期间,神经网络电路使用神经网络基于与第二多个半导体中的每一个相关联的相应组件级测试数据来确定用于第二多个半导体管芯中的每一个的系统级通过/ 骰子。 第二多个半导体管芯由多个生产晶圆制成。
    • 8. 发明申请
    • BIPOLAR WAFER CHARGE MONITOR SYSTEM AND ION IMPLANTATION SYSTEM COMPRISING SAME
    • 双极波浪充电监测系统和包含相同的离子植入系统
    • WO2016138086A1
    • 2016-09-01
    • PCT/US2016/019281
    • 2016-02-24
    • AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
    • FARLEY, MarvinSAKASE, TakaoFOLEY, Joseph
    • H01J37/304H01J37/317H01J37/32
    • H01J37/304H01J37/3171H01J37/32412H01J2237/0041H01J2237/0203H01J2237/24507H01J2237/304H01J2237/31701H01L22/14
    • Charge monitor apparatus and methods are provided for determining a cumulative charge experienced by a workpiece during ion implantation. In one aspect, a charge monitor having a Langmuir probe 126 is provided, wherein a positive and negative charge rectifier 136,138 are operably coupled to the probe and configured to pass only a positive and negative charges therethrough, respectively; a positive current integrator 140 is operably coupled to the positive charge rectifier 136, wherein the positive current integrator is biased via a positive threshold voltage 142, and wherein the positive current integrator is configured to output a positive dosage 144 based, at least in part, on the positive threshold voyage; a negative current integrator 150 is operably coupled to the negative charge rectifier 138, wherein the negative current integrator is biased via a negative threshold voltage 152, and wherein the negative current integrator is configured to output a negative dosage 154 based, at least in part, on the negative threshold voltage; a positive charge counter 146 and a negative charge counter 156 are configured to respectively receive the output from the positive current integrator and negative current integrator in order to provide a respective cumulative positive charge value 148 and cumulative negative charge value 158 associated with the respective positive charge and negative charge.
    • 提供充电监测装置和方法,用于确定在离子注入期间由工件经历的累积电荷。 在一个方面,提供了具有朗缪尔探针126的电荷监测器,其中正和负电荷整流器136,138可操作地耦合到探针并且被配置为分别仅通过正和负电荷; 正电流积分器140可操作地耦合到正电荷整流器136,其中正电流积分器经由正阈值电压142被偏置,并且其中正电流积分器被配置为输出正剂量144,至少部分地, 在积极的航程上; 负电流积分器150可操作地耦合到负电荷整流器138,其中负电流积分器经由负阈值电压152被偏置,并且其中负电流积分器被配置为输出负剂量154,至少部分地, 对负阈值电压; 正电荷计数器146和负电荷计数器156被配置为分别接收来自正电流积分器和负电流积分器的输出,以便提供与相应的正电荷相关联的相应的累积正电荷值148和累积负电荷值158 和负电荷。
    • 10. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR QUALITÄTSKONTROLLE UND PROZESSENTWICKLUNG
    • 装置和方法用于质量控制和工艺开发
    • WO2016065379A2
    • 2016-05-06
    • PCT/AT2015/000133
    • 2015-10-19
    • MTI GMBH
    • HACKSTEINER, Markus
    • G01N27/416G01N17/00G01N17/02
    • G01N27/416G01N17/00G01N17/02H01L22/14
    • Zum Prüfen von Wafern, Mikrochips und dgl. werden elektrische und/oder elektrochemische Eigenschaften derselben auf elektrochemischem Weg periodisch gemessen und gespeichert. Die Messwerte werden miteinander verglichen, um Änderungen der Eigenschaften zu ermitteln. Für das Ausführen des Verfahrens ist eine als Messzelle ausgebildete Vorrichtung 1 vorgesehen, die zwischen einer oberen Halbzelle 5 und einer unteren Halbzelle 3 einen Prüfraum 7 aufweist, durch den Elektrolyt geleitet wird. Der Prüfraum 7 wird durch einen Zellendeckel 21, der gleichzeitig einen Wafer 19 gegen eine Ringdichtung 13 in Richtung auf die obere Halbzelle 5 drückt, verschlossen. Die den Prüfraum 7 bildende Öffnung in der unteren Halbzelle 3 wird durch eine Ringdichtung 23, eine Anodenplatte 25 und einen Anodendeckel 27 verschlossen.
    • 对于晶片,微芯片等的测试。,电气和/或相同的电化学特性周期性电化学测量和存储。 的测量值进行比较以确定在属性变化。 用于执行所提供的测量池装置1,其具有上半部和下半电池5电池3通过电解质之间的测试区域7设计的方法。 外壳7由电池盖21,其同时按压晶片19对在上半电池5的方向的环形密封件13封闭。 形成在下部半电池3中的开口的测试室7由环形密封件23,阳极板25和阳极盖27日密封