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1. 发明申请

WO2016163278A1 イオン照射による被覆材の脱膜方法および脱膜装置审中-公开
标题翻译：覆盖材料剥离方法和使用离子辐照的剥离装置
公开(公告)号：WO2016163278A1
公开(公告)日：2016-10-13
申请号：PCT/JP2016/060257
申请日：2016-03-29
申请人：新明和工業株式会社
发明人：レミニュフ　アレクセイ , 植村　賢介
IPC分类号： H01J37/30
CPC分类号： H01J37/3053 , C23C14/022 , C23C16/0245 , H01J37/08 , H01J2237/006 , H01J2237/0825 , H01J2237/20214 , H01J2237/3114 , H01J2237/3132 , H01J2237/3151
摘要：　ＰＣＤ（多結晶ダイヤモンド）のような無機物で被覆された工具や機械部品等を再生使用が可能となるように脱膜する方法であって、イオン照射の際に被脱膜基材（被覆材）に死角を生じ難く、温度的に基材（金属製部材）に脆性相を生じ難く、かつ、経済的な速度で脱膜が実行できる脱膜方法を提供することを課題とする。　金属製部材の表面に無機物からなる被膜が付いてなる被覆材（１）へイオン流（７）を照射して、前記金属製部材から前記被膜を剥離する脱膜方法であって、被覆材（１）を２以上のイオン流（７）が重なるイオン流集中部（７Ａ）に設置し、被覆材（１）へ正負バイアスを付加せずに、被覆材（１）へイオン流（７）を照射することを特徴とする脱膜方法によって上記課題を解決できる。
摘要翻译：本发明解决了提供剥离方法的问题，该剥离方法允许已经涂覆有诸如PCD（多晶金刚石）的无机材料的工具，机械部件等以能够再生和使用的方式被剥离它们。这种剥离方法允许剥离在离子照射期间以相对于要剥离的基材（覆盖材料）容易地发生死角而以经济的速度执行，并且在基材（金属构件）中容易发生脆性相，由于温度。通过从金属构件剥离涂层的剥离方法可以通过将离子流（7）照射到由金属表面上包含无机材料的涂层所形成的覆盖材料（1）上来解决问题，会员。剥离方法的特征在于：在两个或更多个离子流（7）重叠的离子流集中部分（7A）中设置覆盖材料（1）并将离子流（7）照射到覆盖材料（1）上，而不对正面/负面的偏压施加在覆盖材料（1）上。

2. 发明申请

WO2008054014A1 ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法および固体表面平坦化装置审中-公开
标题翻译：用气体离子束和固体表面平面化装置平整固体表面的方法
公开(公告)号：WO2008054014A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：PCT/JP2007/071460
申请日：2007-10-30
申请人：日本航空電子工業株式会社 , 国立大学法人京都大学 , 鈴木晃子 , 佐藤明伸 , ブーレルエマニュエル , 松尾二郎 , 瀬木利夫
发明人：鈴木晃子 , 佐藤明伸 , ブーレルエマニュエル , 松尾二郎 , 瀬木利夫
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/3065 , H01J2237/0812 , H01J2237/202 , H01J2237/3151
摘要：固体表面に存在する数１０ｎｍ～１００μｍ程度の周期の表面粗さをガスクラスターイオンビームの照射によって低減する。固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす角度を照射角度とし、固体とこの固体に衝突したクラスターとが相互作用する距離が飛躍的な増大に転じる照射角度を臨界角として、臨界角以上の照射角度で固体表面に対してガスクラスターイオンビームを照射する照射過程を有する固体表面の平坦化方法とする。この臨界角は７０°である。
摘要翻译：存在于固体表面上的约数十纳米（10nm）至数百微米（100μm）的循环的表面粗糙度通过用气体团簇离子束照射而降低。提供了一种使固体表面平坦化的方法，包括当将固体表面的法线与气体团簇离子束之间的角度称为照射角度时的照射步骤和照射角度与固体碰撞的固体和簇变成称为临界角的明显的增加，用不小于临界角的照射角度照射具有气体团簇离子束的固体表面。临界角为70°。

3. 发明申请

WO2005089459A2 METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVED BEAM STABILITY IN HIGH CURRENT GAS-CLUSTER ION BEAM PROCESSING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：在高流量气体离子束处理系统中改进光束稳定性的方法和装置
公开(公告)号：WO2005089459A2
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/US2005/009018
申请日：2005-03-17
申请人： EPION CORPORATION
发明人： MACK, Michael, E. , BECKER, Robert, K. , GWINN, Matthew, C.
IPC分类号： H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/305 , H01J37/317
CPC分类号： H01J27/026 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/3056 , H01J37/317 , H01J2237/0812 , H01J2237/188 , H01J2237/3151 , H01J2237/31701 , H01J2237/31732 , H01J2237/3174
摘要： Apparatus and methods for improving beam stability in high current gas-cluster ion beam systems by reducing the frequency of transients occurring in the vicinity of the ionizer through use of shielding conductors and distinct component electrical biasing to inhibit backward extraction of ions from the ionizer towards the gas-jet generator.
摘要翻译：通过使用屏蔽导体减少在离子发生器附近发生的瞬变的频率，以及不同的分量电偏压来抑制离子从离子发生器反向提取的方法，用于改善高电流气体簇离子束系统中的束稳定性的装置和方法气喷发电机。

4. 发明申请

WO2016061175A1 METHODS AND APPARATUS FOR DETERMINING, USING, AND INDICATING ION BEAM WORKING PROPERTIES 审中-公开
标题翻译：用于确定，使用和指示离子束工作特性的方法和装置
公开(公告)号：WO2016061175A1
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：PCT/US2015/055444
申请日：2015-10-14
申请人： HUNT, John Andrew , COYLE, Steven Thomas , HASSEL-SHEARER, Michael Patrick , HOSMAN, Thijs C.
发明人： HUNT, John Andrew , COYLE, Steven Thomas , HASSEL-SHEARER, Michael Patrick , HOSMAN, Thijs C.
IPC分类号： H01J37/20
CPC分类号： H01J37/243 , G01N1/44 , H01J37/08 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/3056 , H01J37/3178 , H01J2237/081 , H01J2237/24514 , H01J2237/24535 , H01J2237/30483 , H01J2237/31 , H01J2237/3151 , H01J2237/316
摘要： Disclosed are methods and apparatus for determining, using, and indicating ion beam working properties in an apparatus that performs ion beam sample preparation and coating. A beam probe may be used to measure one or more working properties of a portion of the ion beam, generating a probe signal in a known relationship to the one or more working properties. The beam probe may generate a signal in a known relationship to one or more properties of a sputtered coating reaching a sample. The ion beam apparatus may modulate one or more characteristics of the ion beam in response to receiving a signal from the beam probe. The probe signal may be used in the ion beam apparatus to indicate one or more ion beam working properties. Related apparatus and methods also permit the measurement of the known relationship between probe signal and ion beam working properties.
摘要翻译：公开了用于在执行离子束样品制备和涂覆的装置中确定，使用和指示离子束工作特性的方法和装置。光束探测器可用于测量离子束的一部分的一个或多个工作特性，产生与一个或多个工作特性已知关系的探测信号。光束探测器可以产生与已达到样品的溅射涂层的一个或多个特性有已知关系的信号。离子束装置可以响应于接收来自束探针的信号而调制离子束的一个或多个特性。探针信号可以用于离子束装置中以指示一个或多个离子束工作特性。相关的装置和方法还允许测量探测信号和离子束工作特性之间的已知关系。

5. 发明申请

WO2016022427A2 GCIB NOZZLE ASSEMBLY 审中-公开
标题翻译： GCIB喷嘴组件
公开(公告)号：WO2016022427A2
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/US2015043203
申请日：2015-07-31
申请人： TEL EPION INC
发明人： GWINN MATTHEW C , FREYTSIS AVRUM , BECKER ROBERT K
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J37/305 , H01J2237/006 , H01J2237/0206 , H01J2237/061 , H01J2237/0812 , H01J2237/0822 , H01J2237/3151
摘要： A nozzle assembly used for performing gas cluster ion beam (GCIB) etch processing of various materials is described. In particular, the nozzle assembly includes two or more conical nozzles that are aligned such that they are both used to generate the same GCIB. The first conical nozzle may include the throat that initially forms the GCIB and the second nozzle may form a larger conical cavity that may be appended to the first conical nozzle. A transition region may be disposed between the two conical nozzles that may substantially cylindrical and slightly larger than the largest diameter of the first conical nozzle.
摘要翻译：描述了用于执行各种材料的气体簇离子束（GCIB）蚀刻处理的喷嘴组件。特别地，喷嘴组件包括两个或更多个对齐的锥形喷嘴，使得它们都用于产生相同的GCIB。第一锥形喷嘴可以包括最初形成GCIB的喉部，并且第二喷嘴可以形成可以附加到第一锥形喷嘴的较大的锥形腔。过渡区域可以设置在两个圆锥形喷嘴之间，所述两个圆锥形喷嘴可以基本上圆柱形并且略大于第一锥形喷嘴的最大直径。

6. 发明申请

WO2016018771A1 ION BEAM SAMPLE PREPARATION AND COATING APPARATUS AND METHODS 审中-公开
标题翻译：离子束样品制备和涂层装置和方法
公开(公告)号：WO2016018771A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/US2015/042149
申请日：2015-07-25
申请人： HUNT, John Andrew , COYLE, Steven Thomas , HASSEL-SHEARER, Michael Patrick , HOSMAN, Thijs C.
发明人： HUNT, John Andrew , COYLE, Steven Thomas , HASSEL-SHEARER, Michael Patrick , HOSMAN, Thijs C.
IPC分类号： H01J27/00
CPC分类号： C23C14/46 , C23C14/022 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C14/545 , C23C14/566 , H01J37/3053 , H01J37/3178 , H01J2237/0822 , H01J2237/184 , H01J2237/202 , H01J2237/204 , H01J2237/3146 , H01J2237/3151
摘要： Ion beam sample preparation and coating apparatus and methods are described. A sample may be prepared in one or more ion beams and then a coating may be sputtered onto the prepared sample within the same apparatus. A vacuum transfer device may be used with the apparatus in order to transfer a sample into and out of the apparatus while in a controlled environment. Various methods to improve preparation and coating uniformity are disclosed including: rotating the sample retention stage; modulating the sample retention stage; variable tilt ion beam irradiating means, more than one ion beam irradiating means, coating thickness monitoring, selective shielding of the sample, and modulating the coating donor holder.
摘要翻译：描述了离子束样品制备和涂布装置和方法。可以在一个或多个离子束中制备样品，然后在相同的装置内将涂层溅射到制备的样品上。真空转移装置可以与该装置一起使用，以便在受控环境中将样品转入和移出装置。公开了改善制备和涂布均匀性的各种方法，包括：旋转样品保留阶段; 调节样品保留期; 可变倾斜离子束照射装置，多于一个离子束照射装置，涂层厚度监测，样品的选择性屏蔽以及调节涂层供体保持器。

7. 发明申请

WO2015149846A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR OBERFLÄCHENBEHANDLUNG VON SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译：方法和装置用于基材的表面处理
公开(公告)号：WO2015149846A1
公开(公告)日：2015-10-08
申请号：PCT/EP2014/056545
申请日：2014-04-01
申请人： EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人： RAZEK, Nasser
IPC分类号： H01L21/02 , C23C14/02
CPC分类号： H01L21/02046 , C23C14/022 , C23C16/50 , H01J37/32009 , H01J2237/08 , H01J2237/3137 , H01J2237/3151 , H01L21/67028
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung einer Substratoberfläche (7o) eines Substrats (7) mit folgenden Schritten: - Anordnung der Substratoberfläche (7o) in einer Prozesskammer (8), - Beaufschlagung der Substratoberfläche (7o) mit einem von einer Ionenstrahlquelle (2, 2', 2") erzeugten, auf die Substratoberfläche (7o) gerichteten lonenstrahl (3, 3', 3") zur Ablösung von Verunreinigungen von der Substratoberfläche (7o), wobei der Ionenstrahl (3, 3', 3") eine erste Komponente aufweist, - Einleitung einer zweiten Komponente in die Prozesskammer (8) zur Bindung der abgelösten Verunreinigungen. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung einer Substratoberfläche (7o) eines Substrats (7) mit: - einer Prozesskammer (8) zur Aufnahme des Substrats (7), - einer Ionenstrahlquelle (2, 2', 2") zur Erzeugung eines eine erste Komponente aufweisenden, auf die Substratoberfläche (7o) gerichteten Ionenstrahls (3, 3', 3") zur Ablösung von Verunreinigungen von der Substratoberfläche (7o), - Mittel zur Einleitung einer zweiten Komponente in die Prozesskammer (8) zur Bindung der abgelösten Verunreinigungen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在衬底（7）具有以下步骤的基板表面（70）的表面处理的方法： - 与一种对基板表面（70）（离子束源2的 - 在处理室（8）中，在基板表面（70）的定位，2为从基板表面3的杂质（70），离子束（3，分离”，2“）中产生（在衬底表面70）引导离子束（3,3' ，3" ）”，3“）一。具有第一组分， - 引入第二组分在处理室（8）用于进一步分离的杂质附着，本发明涉及一种装置，用于在基板的基板表面（70）（7），其包括进行表面处理： - 一个处理室（8），用于接收具有用于产生第一成分，在基底表面上的离子束源（2,2”，2“）（70）引导离子束（3， - 在衬底（7）， 3”，3“）为杂质脱离（从衬底表面70）， - 用于在所述处理室（8），用于的分离的杂质附着引入第二组分。

8. 发明申请

WO2014181132A1 METHOD OF REDUCING THE THICKNESS OF A TARGET SAMPLE 审中-公开
标题翻译：降低目标样品厚度的方法
公开(公告)号：WO2014181132A1
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：PCT/GB2014/051441
申请日：2014-05-12
申请人： OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LIMITED
发明人： LANG, Christian , STATHAM, Peter , HARTFIELD, Cheryl
IPC分类号： H01J37/304 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/3053 , H01J2237/30466 , H01J2237/3151
摘要： A method is provided of reducing the thickness of a region of a target sample. Reference data is obtained that is representative of x-rays generated by a particle beam being directed upon part of a reference sample under a first set of beam conditions. Under a second set of beam conditions the particle beam is directed upon the region of the target sample. The resultant x-rays are monitored as monitored data. Output data are then calculated based upon the reference and the monitored data. Material is then removed from the region, so as to reduce its thickness, in accordance with the output data.
摘要翻译：提供了减少目标样品的区域的厚度的方法。获得参考数据，其代表由在第一组光束条件下被引导到参考样本的一部分的粒子束产生的x射线。在第二组光束条件下，粒子束被引导到目标样品的区域。作为监测数据监测所得X射线。然后根据参考和监视数据计算输出数据。然后根据输出数据从该区域移除材料，以便减小其厚度。

9. 发明申请

WO2012047914A3 GRID PROVIDING BEAMLET STEERING 审中-公开
标题翻译：网格提供横梁转向
公开(公告)号：WO2012047914A3
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：PCT/US2011054800
申请日：2011-10-04
申请人： VEECO INSTR INC , KAMEYAMA IKUYA
发明人： KAMEYAMA IKUYA
IPC分类号： C23C14/46 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/46 , H01J27/024 , H01J37/08 , H01J2237/0656 , H01J2237/083 , H01J2237/3142 , H01J2237/3151 , H01J2237/31701
摘要： A grid assembly (114, 300) coupled to a discharge chamber of an ion beam source (102) is configured for steering ion beamlets emitted from the discharge chamber at circularly asymmetrically determined steering angles. The grid assembly 114, 300) includes at least a first and a second grid (302, 304) with a substantially circular pattern of holes, wherein each grid (302, 304) comprises holes positioned adjacent to one another. A plurality of the holes of the second grid (304) is positioned with offsets relative to corresponding holes in the first grid (302). Due to the offsets in the holes in the second grid (304), ions passing through the offset holes are electrostatically attracted towards the closest circumferential portion of the downstream offset holes. Thus, the trajectories of ions passing through the offset holes are altered. The beamlet is steered by predetermined asymmetric angles. The predetermined steering angles are dependent upon the hole offsets, voltage applied to the grids 302, 304), and the distance between the grids (302, 304).
摘要翻译：耦合到离子束源（102）的放电室的栅格组件（114,300）被配置用于以圆形非对称确定的转向角度引导从放电室发射的离子小射束。网格组件114,300）至少包括具有基本圆形的孔图案的第一和第二网格（302,304），其中每个网格（302,304）包括彼此相邻定位的孔。第二栅格（304）的多个孔相对于第一栅格（302）中的对应孔偏移地定位。由于第二栅格（304）中的孔的偏移，穿过偏移孔的离子被静电吸引向下游偏移孔的最靠近的圆周部分。因此，通过偏移孔的离子的轨迹被改变。小束通过预定的不对称角度进行操纵。预定转向角取决于孔偏移，施加到栅格302,304的电压）以及栅格（302,304）之间的距离。

10. 发明申请

WO2011007546A1 イオンビーム発生装置、基板処理装置及び電子デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：离子束生成装置，基板处理装置以及电子装置的制造方法
公开(公告)号：WO2011007546A1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：PCT/JP2010/004522
申请日：2010-07-13
申请人：キヤノンアネルバ株式会社 , 平柳裕久 , 三好歩 , アバラアインシタインノエル
发明人：平柳裕久 , 三好歩 , アバラアインシタインノエル
IPC分类号： H01J27/02 , H01J37/08 , H01L21/302
CPC分类号： H01J37/08 , B82Y10/00 , C23C14/46 , G11B5/743 , G11B5/855 , H01J27/024 , H01J27/16 , H01J37/147 , H01J37/30 , H01J37/32422 , H01J2237/024 , H01J2237/061 , H01J2237/3151 , H01J2237/316 , H01J2237/3165
摘要：　基板を回転させる機構を設けることなく、基板処理における高精度な均一性を得るとともに、消費電力を低減可能なイオンビーム発生装置を提供する。　イオンビーム発生装置１ａ，１ｂは、プラズマを発生するための放電槽と、被照射面に対して傾斜して配置された傾斜部を有し、前記放電槽で発生されたイオンを引き出す引出し電極と、前記放電槽の外部に設けられ、かつ前記引出し電極部を回転させる回転駆動部３０と、前記回転駆動部３０と前記引出し電極７とを連結するための回転支持部材３１と、を備え、前記放電槽の内部には前記回転支持部材３１の周囲に設けられた絶縁体ブロック３４を有する。
摘要翻译：提供一种离子束发生装置，其不需要安装基板旋转机构，能够实现基板处理的高精度均匀性和功耗的降低。离子束产生装置（1a，1b）设有：用于产生等离子体的排放池; 拉出电极，其具有相对于被照射面倾斜配置的倾斜部，拉出在上述排出槽处产生的离子; 旋转驱动部（30），安装在上述排出槽的外侧，旋转上述拉出电极部; 以及用于联接上述旋转驱动部（30）和上述拉出电极（7）的旋转支撑部件（31）。设置在上述旋转支撑构件（31）周围的绝缘体块（34）设置在上述排出池的内部。

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