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1. 发明申请

WO2010117551A1 METHOD FOR MODIFYING A MATERIAL LAYER USING GAS CLUSTER ION BEAM PROCESSING 审中-公开
标题翻译：使用气体离子束加工改性材料层的方法
公开(公告)号：WO2010117551A1
公开(公告)日：2010-10-14
申请号：PCT/US2010/027127
申请日：2010-03-12
申请人： TEL EPION INC. , HAUTALA, John, J. , BAXTER, Nathan, E.
发明人： HAUTALA, John, J. , BAXTER, Nathan, E.
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/317 , H01J27/026 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J37/3178 , H01J2237/0812 , H01J2237/316 , H01J2237/3165 , H01J2237/31701 , H01J2237/31732
摘要： A method of method of modifying a material layer on a substrate (152, 252) is described. The method comprises forming the material layer on the substrate (152, 252). Thereafter, the method comprises establishing a gas cluster ion beam (GCIB) (128) having an energy per atom ratio ranging from about 0.25 eV per atom to about 100 eV per atom, and modifying the material layer by exposing the material layer to the GCIB (128).
摘要翻译：描述了改变衬底（152,252）上的材料层的方法的方法。该方法包括在基底（152,252）上形成材料层。此后，该方法包括建立一个气体簇离子束（GCIB）（128），其具有每原子比约0.25eV至约100eV /原子的能量，并且通过将材料层暴露于GCIB来修饰材料层（128）。

2. 发明申请

WO2006047609A8 IONIZER AND METHOD FOR GAS-CLUSTER ION-BEAM FORMATION 审中-公开
标题翻译：气团离子束形成的电离器和方法
公开(公告)号：WO2006047609A8
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：PCT/US2005038600
申请日：2005-10-25
申请人： EPION CORP , MACK MICHAEL E
发明人： MACK MICHAEL E
IPC分类号： H01J27/02 , H01J27/00 , H01J49/00
CPC分类号： H01J27/08 , H01J27/026 , H01J37/08 , H01J37/3053 , H01J2237/0041 , H01J2237/0812
摘要： An ionizer (640, Fig.10) for forming a gas-cluster ion beam is disclosed (Fig. 10) including inlet and outlet ends partially defining an ionization region traversed by a gas-cluster jet and one or more plasma electron source(s) (642) for providing electrons (644) to the ionizing region for ionizing at least a portion of the gas-clusters to form a gas-cluster ion beam. One or more sets of substantially linear rod electrodes (452) may be disposed substantially parallel to and in one or more corresponding partial, substantially cylindrical pattern(s) about die gas-cluster jet axis, wherein some sets are arranged in substantially concentric patterns with differing radii (458, 464). In certain embodiments, the ionizer includes one or more substantially linear thermionic filaments disposed substantially parallel to the gas-cluster jet axis, heating means, electrical biasing means to judiciously bias sets of the linear rod electrodes with respect to the thermionic filaments to achieve electron repulsion.
摘要翻译：公开了一种用于形成气体团簇离子束的离子发生器（图10）（图10），其包括部分地限定由气体团簇射流横穿的电离区域的入口端和出口端以及一个或多个等离子体电子源）（642），用于向电离区提供电子（644），用于电离至少一部分气体团以形成气体团簇离子束。一组或多组基本上线性的杆状电极（452）可以围绕模具气体团簇射流轴线基本平行于一个或多个对应的部分基本上圆柱形的模式设置，并且其中一些组以基本上同心的模式布置，不同的半径（458,464）。在某些实施例中，离子发生器包括基本平行于气体团簇喷射轴设置的一个或多个基本上线性的热离子细丝，加热装置，电偏置装置，用于相对于热离子细丝明智地偏置成组的线性杆电极以实现电子排斥。

3. 发明申请

WO01040532A2 GAS CLUSTER ION BEAM LOW MASS ION FILTER 审中-公开
标题翻译：具有离子性气体带的低离子过滤器
公开(公告)号：WO01040532A2
公开(公告)日：2001-06-07
申请号：PCT/US2000/042556
申请日：2000-12-05
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/305 , H01J49/04 , H05H7/04 , C23C
CPC分类号： H01J49/0422 , H01J27/026 , H01J37/05 , H01J49/10 , H01J2237/0812 , H05H7/04
摘要： Incorporating the use of a permanent magnet (252) within a GCIB apparatus to separate undesirable monomer ions from a gas cluster ion beam (148) to facilitate improved processing of workpieces (152). In an alternate embodiment, the effect of the permanent magnet may be controlled by the use of an electrical coil. The above system eliminates problems related to power consumption and heat generation.
摘要翻译：本发明涉及GCIB装置内的永磁体（气态离子簇）用于从气态离子束分离不需要的单体离子的用途，以促进部件的改进处理。在另一个实施例中，永磁体的效果可以通过使用电线圈来控制。该系统消除了与能耗和产热有关的问题。

4. 发明申请

WO01008196A2 METHOD AND DEVICE FOR CLUSTER FRAGMENTATION 审中-公开
标题翻译：方法和设备集群碎片
公开(公告)号：WO01008196A2
公开(公告)日：2001-02-01
申请号：PCT/EP2000/006956
申请日：2000-07-20
IPC分类号： G01N27/64 , F03H1/00 , F03H99/00 , G01N27/62 , H01J49/04 , H01J49/10 , H01J49/40 , H05H3/02 , H01J49/00
CPC分类号： F03H1/00 , H01J27/026 , H01J49/0463 , H05H3/02
摘要： The invention relates to a method for cluster fragmentation comprising the production of at last one cluster containing one carrier substance and the fragmentation of the cluster into cluster fragments, whereby the cluster is charged with at least one coreactant before fragmentation and the coreactant is part of at least one cluster fragment after fragmentation. The invention also relates to a cluster radiation system for implementing the method and to applications of cluster fragmentation in the analysis and cleaning of surfaces, in the analysis of clusters and in the operation of ion engines.
摘要翻译：一种用于群集方法包括含有载体中的至少一个簇，并且在簇片段集群，其中所述集群加载有碎裂之前至少一种反应物的碎片的产生，并且所述反应物为后碎片部分的至少一个簇片段。还用于实现该方法和聚类碎片进行分析的应用程序和表面的清洁，为簇和离子推进器的操作分析团簇束系统进行说明。

5. 发明申请

WO2013028529A1 DRUG DELIVERY SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF 审中-公开
标题翻译：药物递送系统及其制造方法
公开(公告)号：WO2013028529A1
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：PCT/US2012/051381
申请日：2012-08-17
申请人： EXOGENESIS CORPORATION , KIRKPATRICK, Sean, R. , SVRLUGA, Richard, C.
发明人： KIRKPATRICK, Sean, R. , SVRLUGA, Richard, C.
IPC分类号： A61F2/06
CPC分类号： A61F2/82 , A61F2210/0076 , A61F2240/001 , A61F2250/0068 , A61L31/16 , A61L2300/602 , A61L2300/61 , A61L2400/18 , A61L2420/02 , A61L2420/08 , H01J27/026
摘要： A medical device for surgical implantation adapted to serve as a drug delivery system has one or more drug loaded holes with barrier layers to control release or elution of the drug from the holes or to control inward diffusion of fluids into the holes. The barrier layers are non-polymers and are formed from the drug material itself by beam processing. The holes may be in patterns to spatially control drug delivery. Flexible options permit combinations of drugs, variable drug dose per hole, multiple drugs per hole, temporal control of drug release sequence and profile. Methods for forming such a drug delivery system are also disclosed. Gas cluster ion beam and/or accelerated Neutral Beam derived from an accelerated gas cluster ion beam may be employed.
摘要翻译：适于用作药物递送系统的用于手术植入物的医疗装置具有一个或多个具有阻挡层的药物负载孔，以控制药物从孔中的释放或洗脱，或者控制流体向孔中的向内扩散。阻挡层是非聚合物，并且由药物材料本身通过束加工形成。孔可以是空间控制药物递送的图案。灵活的选择允许药物组合，每孔可变药物剂量，每孔多种药物，药物释放顺序和形态的时间控制。还公开了形成这种药物递送系统的方法。可以采用来自加速气体团簇离子束的气体团簇离子束和/或加速中性束。

6. 发明申请

WO2012049110A2 IMPROVEMENTS IN AND RELATING TO ION GUNS 审中-公开
标题翻译：改进和相关于离子钥匙
公开(公告)号：WO2012049110A2
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：PCT/EP2011/067626
申请日：2011-10-10
申请人： VG SYSTEMS LIMITED , BARNARD, Bryan
发明人： BARNARD, Bryan
IPC分类号： H01J37/08
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/026 , H01J37/05 , H01J37/3171 , H01J49/142 , H01J2237/057 , H01J2237/0812 , H01J2237/0827
摘要： A method of processing one or more surfaces is provided, comprising: providing a switchable ion gun which is switchable between a cluster mode setting for producing an ion beam substantially comprising ionised gas clusters for irradiating a surface and an atomic mode setting for producing an ion beam substantially comprising ionised gas atoms for irradiating a surface; and selectively operating the ion gun in the cluster mode by mass selecting ionised gas clusters using a variable mass selector thereby irradiating a surface substantially with ionised gas clusters or the atomic mode by mass selecting ionised gas atoms using a variable mass selector thereby irradiating a surface substantially with ionised gas atoms. Also provided is a switchable ion gun comprising: a gas expansion nozzle for producing gas clusters; an ionisation chamber for ionising the gas clusters and gas atoms; and a variable (preferably a magnetic sector) mass selector for mass selecting the ionised gas clusters and ionised gas atoms to produce an ion beam variable between substantially comprising ionised gas clusters and substantially comprising ionised gas atoms. Preferably, the gun comprises an electrically floating flight tube for adjusting the energy of the ions whilst within the mass selector.
摘要翻译：提供一种处理一个或多个表面的方法，包括：提供可切换离子枪，其可在用于产生基本上包括用于照射表面的电离气体簇的离子束的簇模式设置和用于产生离子束的原子模式设置之间切换基本上包括用于照射表面的电离气体原子; 并且通过使用可变质量选择器质量选择电离气体簇来选择性地操作离子枪，从而通过使用可变质量选择器大量选择电离气体原子而基本上用电离气体簇或原子模式照射表面，从而基本上照射表面具有电离气体原子。还提供了一种可切换离子枪，包括：用于产生气体团的气体膨胀喷嘴; 用于电离气团和气原子的电离室; 以及用于质量选择电离气体团簇和电离气体原子以产生基本上包含电离气体簇并且基本上包含电离气体原子的离子束可变的变量（优选磁性扇区）质量选择器。优选地，枪包括电浮动飞行管，用于在质量选择器内调节离子的能量。

7. 发明申请

WO2011140200A1 GAS CLUSTER ION BEAM SYSTEM WITH RAPID GAS SWITCHING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：具有快速气体切换装置的气体离子束系统
公开(公告)号：WO2011140200A1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：PCT/US2011/035158
申请日：2011-05-04
申请人： TEL EPION INC. , GRAF, Michael , BECKER, Robert, K. , REDDY, Christopher, T. , RUSSELL, Noel
发明人： GRAF, Michael , BECKER, Robert, K. , REDDY, Christopher, T. , RUSSELL, Noel
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/026 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/0812
摘要： A processing system (100, 1 00', 1 00") is provided for irradiating a substrate (1 52, 252) with a gas cluster ion beam (GCIB) (128, 1 28A, 1 28A'). The system (100, 100', 100") includes a nozzle (1 10, 1010) for forming and emitting gas cluster beams through a nozzle outlet (1 1 0b), and a stagnation chamber (1 1 6, 101 6) that is located upstream of and adjacent the nozzle (1 10, 101 0). The stagnation chamber (1 16, 1016) has an inlet (1 16a, 1016a), and the nozzle (1 1 0, 1010) is configured to direct a single gas cluster beam toward the substrate (152, 252). An ionizer (1 22) is positioned downstream of the outlet (1 10b) and is configured to ionize the gas cluster beam (1 18) to form the GCIB (128, 128A, 128A'). The system (1 00, 100', 100") also includes a gas supply (1 1 5, 101 5) that is in fluid communication with the inlet (1 1 6a, 1016a) of the stagnation chamber (1 16, 1016), and which includes a gas source (1 1 1, 101 1 ) and a valve (1 1 3, 101 3) located between the gas source (1 1 1, 1 01 1 ) and the nozzle (1 10, 101 0) for controlling flow of a gas between the gas source (1 1 1, 101 1 ) and the nozzle (1 1 0, 1 010).
摘要翻译：提供一种处理系统（100,100'，100“），用于用气体簇离子束（GCIB）（128,128A，182A'）照射衬底（152,252），系统（100 ，100'，100“）包括用于通过喷嘴出口（110b）形成和发射气体束束的喷嘴（110,1010）和位于上游的停滞室（1166,106）并且邻近喷嘴（110,101 0）。停滞室（116,1616）具有入口（16a，1016a），并且喷嘴（11010）构造成将单个气体束束引向衬底（152,252）。离子发生器（122）位于出口（10b）的下游，并被配置为离子化气体束束（118）以形成GCIB（128,128A，128A'）。系统（100,100'，100“）还包括与停滞室（116,1616）的入口（11 6a，1016a）流体连通的气体供应源（115 1，101 5），其包括位于气体源（111,111）和喷嘴（110,101）之间的气体源（111,111）和阀（113 3 101）用于控制气体源（111,111）和喷嘴（11010）之间的气体流。

8. 发明申请

WO2008053879A1 ガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法および固体表面平坦化装置审中-公开
标题翻译：用气体聚束离子束和固体表面光滑装置分散固体表面的方法
公开(公告)号：WO2008053879A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：PCT/JP2007/071102
申请日：2007-10-30
申请人：日本航空電子工業株式会社 , 国立大学法人京都大学 , 佐藤明伸 , 鈴木晃子 , ブーレルエマニュエル , 松尾二郎 , 瀬木利夫
发明人：佐藤明伸 , 鈴木晃子 , ブーレルエマニュエル , 松尾二郎 , 瀬木利夫
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： C23F4/00 , H01J27/026 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J37/317 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01L21/3065
摘要：　固体表面上に存在するスクラッチやそれに類する表面粗さをガスクラスターイオンビームの照射によって低減する。固体表面に対してガスクラスターイオンビームを照射する照射過程を含むガスクラスターイオンビームによる固体表面の平坦化方法であるとし、この照射過程は、固体表面のうち少なくともガスクラスターイオンビームが照射されている領域（スポット）に、複数方向からクラスターを衝突させる過程を含むとする。スポットに対する複数方向からのクラスター衝突は、例えば、ビーム中心に対してクラスターの飛散方向が発散する上記ガスクラスターイオンビームの照射によって行うことができる。
摘要翻译：通过用气体簇离子束的照射，存在在固体表面上存在的划痕和类似的表面粗糙度。用气体簇离子束使固体表面平坦化的方法包括用气体簇离子束照射固体表面的照射方法。这种照射过程包括使得多个方向上的簇撞击固体表面的至少这样的区域（或点）的步骤，这些区域（或点）被照射到气体簇离子束。可以通过与簇聚束离子束的照射相对于束中心散射的簇的扫描方向进行与多个方向的斑点的簇碰撞。

9. 发明申请

WO2007056249A1 DUAL MODE ION SOURCE FOR ION IMPLANTATION 审中-公开
标题翻译：用于离子植入的双离子源
公开(公告)号：WO2007056249A1
公开(公告)日：2007-05-18
申请号：PCT/US2006/043138
申请日：2006-11-06
申请人： SEMEQUIP INC. , HORSKY, Thomas, Neil
发明人： HORSKY, Thomas, Neil
IPC分类号： C23C16/00
CPC分类号： C23C14/48 , H01J27/026 , H01J27/08 , H01J27/205 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/0815 , H01J2237/082 , H01J2237/0827 , H01J2237/31701 , H01L21/265 , H01L21/26513 , H01L21/2658 , H01L21/823814
摘要： An ion source is disclosed for providing a range of ion beams consisting of either ionized clusters, such as B 2 H x + , B 5 H x + , B 10 H x + , B 18 H x + , P 4 + Or As 4 + , or monomer ions, such as Ge + , In + , Sb + , B + , As + , and P + , to enable cluster implants and monomer implants into silicon substrates for the purpose of manufacturing CMOS devices, and to do so with high productivity. The range of ion beams is generated by a universal ion source in accordance with the present invention which is configured to operate in two discrete modes: an electron impact mode, which efficiently produces ionized clusters, and an arc discharge mode, which efficiently produces monomer ions.
摘要翻译：公开了一种用于提供由离子簇组成的一系列离子束的离子源，例如B 2 H 2 O x SUP + + /

10. 发明申请

WO2005089459A2 METHOD AND APPARATUS FOR IMPROVED BEAM STABILITY IN HIGH CURRENT GAS-CLUSTER ION BEAM PROCESSING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：在高流量气体离子束处理系统中改进光束稳定性的方法和装置
公开(公告)号：WO2005089459A2
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/US2005/009018
申请日：2005-03-17
申请人： EPION CORPORATION
发明人： MACK, Michael, E. , BECKER, Robert, K. , GWINN, Matthew, C.
IPC分类号： H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/305 , H01J37/317
CPC分类号： H01J27/026 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/3056 , H01J37/317 , H01J2237/0812 , H01J2237/188 , H01J2237/3151 , H01J2237/31701 , H01J2237/31732 , H01J2237/3174
摘要： Apparatus and methods for improving beam stability in high current gas-cluster ion beam systems by reducing the frequency of transients occurring in the vicinity of the ionizer through use of shielding conductors and distinct component electrical biasing to inhibit backward extraction of ions from the ionizer towards the gas-jet generator.
摘要翻译：通过使用屏蔽导体减少在离子发生器附近发生的瞬变的频率，以及不同的分量电偏压来抑制离子从离子发生器反向提取的方法，用于改善高电流气体簇离子束系统中的束稳定性的装置和方法气喷发电机。

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