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    • 21. 发明申请
    • AMPLIFICATEUR LASER A CASCADES QUANTIQUES EQUIPE D'UN REVETEMENT ANTI-REFLECHISSANT COMPORTANT UNE STRATE REALISEE EN FLUORURE D'YTTRIUM
    • 具有防反射涂层的数量级激光放大器,包括一层氟化物
    • WO2008071518A1
    • 2008-06-19
    • PCT/EP2007/062549
    • 2007-11-20
    • ALPES LASERS S.A.MAULINI, RichardBLASER, StéphaneFAIST, Jérôme
    • MAULINI, RichardBLASER, StéphaneFAIST, Jérôme
    • G02B1/11H01S5/028
    • G02B1/115B82Y20/00H01S5/028H01S5/3401
    • L'invention concerne un amplificateur laser (12) à cascades quantiques qui comporte une zone active (20) qui est formée par un empilement de couches de matériaux semi-conducteurs crues de manière épitaxiale sur une couche d'un substrat (16) de phosphure d'indium (InP) ou d'arsenure de gallium (GaAs) qui porte la zone active (20), et un revêtement vertical anti-réfléchissant (34) qui recouvre une face de sortie (28) du rayonnement laser, constitué de matérieux d'indices de réfraction données et d'épaisseurs déterminées de manière à laisser passer la totalité du rayonnement laser à travers la face de sortie; le revêtement anti-réfléchissant (34) comportant une première strate (36) ayant un premier indice de réfraction (n 1 ) inférieur à l'indice de réfraction déterminé (n D ), et au moins une deuxième strate (38) ayant un deuxième indice de réfraction (n 2 ) supérieur à l'indice de réfraction déterminé (n D ), caractérisé en ce que la première strate (36) du revêtement anti-réfléchissant (34) est réalisée en fluorure d'yttrium (YF 3 ).
    • 本发明涉及一种定量级联激光放大器(12),其具有有源区(20),该有源区包括在铟磷化物(InP)或镓的衬底层(16)上以外延方式形成的半导体材料的原始层的叠层 具有活性区(20)的砷化物(GaAs)和覆盖由具有给定折射率和预定厚度的材料制成的激光辐射的出口面(28)的垂直防反射涂层(34),使得整个激光 辐射可以流过出口面。 防反射涂层(34)包括具有低于预定折射率(n> D )的第一预定折射率(n <1> 1)的第一层(36) 以及至少第二层(38),其具有高于所述预定折射率(n> D )的第二折射率(n≥2),其特征在于,所述第一层 防反射涂层(34)的表面(36)由氟化钇(YF 3 3)制成。
    • 29. 发明申请
    • 分布帰還型半導体レーザ、分布帰還型半導体レーザアレイ及び光モジュール
    • 分布式反馈半导体激光器,分布式反馈半导体激光阵列和光学模块
    • WO2005053124A1
    • 2005-06-09
    • PCT/JP2004/016838
    • 2004-11-12
    • 日本電気株式会社工藤 耕治水谷 健二佐藤 健二加藤 友章
    • 工藤 耕治水谷 健二佐藤 健二加藤 友章
    • H01S5/12
    • B82Y20/00H01S5/0264H01S5/028H01S5/1014H01S5/1039H01S5/12H01S5/2224H01S5/227H01S5/34306H01S5/4031H01S5/4087
    •  変調速度10Gb/sを越える直接変調光源で(1)低閾値電流特性、(2)高単一モード特性、(3)高fr特性、(4)高温度特性、(5)広い波長域への対応が可能な、利得発生領域が極短い分布帰還型半導体レーザを提供する。  レーザ光の利得を発生させる利得発生領域30と、利得発生領域30の内部に形成された回折格子13と、を備える分布帰還型半導体レーザ1である。利得発生領域30を挟む前後2つの端面のうち前端面1aの反射率は1%以下に設定されているとともに、後端面1b側から前側を見た反射率は30%以上に設定されている。回折格子13の結合係数をκ、利得発生領域30の長さをLとすると、κは100cm −1 以上に、Lは150μm以下に、それぞれ設定されている。モード間利得差をΔα、閾値利得をgth=(内部損失αi+ミラー損失αm)とすると、Δα/gthが1以上となるκとLの組み合わせを用いる。
    • 作为具有(1)低阈值电流特性的调制速率超过10Gb / s的直接调制光源的分布反馈半导体激光器,(2)高单模特性,(3)高fr特性,( 4)高温特性,(5)适应宽波段和非常短的增益产生区域。 激光器(1)包括用于产生激光束的增益的增益产生区域(30)和形成在增益产生区域(30)中的衍射光栅(13)。 在夹着增益产生区域(30)的两个前端面和后端表面之中,前端面(1a)的反射率为1%以下,后端面(1b)的反射率为30%以上 当从后端面(1b)向前方观察时。 衍射光栅(13)的耦合系数kapp为100cm -1以上,增益产生区域(30)的长度L为150μm以下。 当Deltaalpha是模式之间的增益差异时,使用Deltaalpha / gth为1以上的kappa和L的组合,而gth =(内部损耗alphai +镜像损耗alpham)是阈值增益。