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1. 发明专利

TW201433393A 雷射加工裝置及雷射加工方法审中-公开
简体标题：激光加工设备及激光加工方法
公开(公告)号：TW201433393A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102142240
申请日：2013-11-20
申请人：國立大學法人九州大學 , KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION , 極光股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：池上浩 , IKENOUE, HIROSHI , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU , 溝口計 , MIZOGUCHI, HAKARU
IPC分类号： B23K26/00 , C03B33/02 , B23K26/38 , C03B33/04
CPC分类号： C03C23/0025 , B23K26/034 , B23K26/0622 , C03B33/0222 , H01S3/0092 , H01S3/0971 , H01S3/10015 , H01S3/1055 , H01S3/115 , H01S3/1301 , H01S3/134 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H01S3/2375 , H01S3/2391 , Y02P40/57
摘要：一種雷射加工裝置，可具備：雷射光源，發射在8μm至11μm的波長範圍內具有峰值且脈寬為30ns以下的脈衝雷射光；光學系，將該脈衝雷射光集光並照射至被加工物；及控制部，由該雷射光源所發射的該脈衝雷射光的重複頻率控制為25kHz以上。
简体摘要：一种激光加工设备，可具备：激光光源，发射在8μm至11μm的波长范围内具有峰值且脉宽为30ns以下的脉冲激光光；光学系，将该脉冲激光光集光并照射至被加工物；及控制部，由该激光光源所发射的该脉冲激光光的重复频率控制为25kHz以上。

2. 发明专利

TW200601732A 供帶寬光譜控制用之雷射輸出光束前導波分光器 LASER OUTPUT BEAM WAVEFRONT SPLITTER FOR BANDWIDTH SPECTRUM CONTROL 审中-公开
简体标题：供带宽光谱控制用之激光输出光束前导波分光器 LASER OUTPUT BEAM WAVEFRONT SPLITTER FOR BANDWIDTH SPECTRUM CONTROL
公开(公告)号：TW200601732A
公开(公告)日：2006-01-01
申请号：TW094116091
申请日：2005-05-18
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：山德史壯李察L. SANDSTROM, RICHARD L. , 布朗丹尼爾J. W. BROWN, DANIEL J.W. , 艾瑟夫亞歷山大I. ERSHOV, ALEXANDER I. , 佛蒙柯維伊格爾V. FOMENKOV, IGOR V. , 派特洛威廉N. PARTLO, WILLIAM N.
IPC分类号： H04J , H04B
CPC分类号： H01S3/0812 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/08059 , H01S3/097 , H01S3/1055 , H01S3/1305
摘要：本案揭示一種裝置與方法,以提供在窄帶短脈衝時間氣體放電雷射輸出光脈衝光束產生系統中之帶寬控制,以經選定之脈衝重覆率產生一包含數個雷射輸出光脈衝之光束,該裝置可包含一散射帶寬選擇光組件,其係選定各脈衝之至少一中心波長,此係至少部份地由含有個別脈衝的雷射光脈衝光束在該散射波長選擇光組件上的入射角所決定;一調諧機構,其係操作來選擇含有個別脈衝的雷射光脈衝光束在該散射波長選擇光組件上的至少一入射角;該調諧機構包含多個入射角選擇元件,各元件對該雷射光脈衝之一空間上分開但時序上不分開的不同部份界定一入射角用以從該散射中心波長選擇光組件反射一包含多個空間上分開但時序上不分開之部份之雷射光脈衝,各部份具有至少兩個不同的選定中心波長中之一個。該調諧機構可包含一時序入射角選擇元件,其係對該脈衝之時序上分開的不同部份界定一入射角用以從該散射帶寬選擇光組件反射一包含各脈衝之多個時序上分開之部份之雷射光束,各脈衝之時序上分開的各部份具有至少兩個不同的選定中心波長中之一個。該調諧機構可包含多個空間入射角選擇元件,各元件對該雷射光脈衝之一空間上分開但時序上不分開之部份界定一入射角,以及多個時序入射角選擇元件,各元件對該脈衝各空間上分開但時序上不分開之部份之至少一第一時序上分開之部份界定至少一第一入射角且對該脈衝各空間上分開之部份之一第二時序上分開但空間上不分開之部份界定一第二入射角。
简体摘要：本案揭示一种设备与方法,以提供在窄带短脉冲时间气体放电激光输出光脉冲光束产生系统中之带宽控制,以经选定之脉冲重复率产生一包含数个激光输出光脉冲之光束,该设备可包含一散射带宽选择光组件,其系选定各脉冲之至少一中心波长,此系至少部份地由含有个别脉冲的激光光脉冲光束在该散射波长选择光组件上的入射角所决定;一调谐机构,其系操作来选择含有个别脉冲的激光光脉冲光束在该散射波长选择光组件上的至少一入射角;该调谐机构包含多个入射角选择组件,各组件对该激光光脉冲之一空间上分开但时序上不分开的不同部份界定一入射角用以从该散射中心波长选择光组件反射一包含多个空间上分开但时序上不分开之部份之激光光脉冲,各部份具有至少两个不同的选定中心波长中之一个。该调谐机构可包含一时序入射角选择组件,其系对该脉冲之时序上分开的不同部份界定一入射角用以从该散射带宽选择光组件反射一包含各脉冲之多个时序上分开之部份之激光光束,各脉冲之时序上分开的各部份具有至少两个不同的选定中心波长中之一个。该调谐机构可包含多个空间入射角选择组件,各组件对该激光光脉冲之一空间上分开但时序上不分开之部份界定一入射角,以及多个时序入射角选择组件,各组件对该脉冲各空间上分开但时序上不分开之部份之至少一第一时序上分开之部份界定至少一第一入射角且对该脉冲各空间上分开之部份之一第二时序上分开但空间上不分开之部份界定一第二入射角。

3. 发明专利

TW475303B 雷射帶寬控制技術有权
简体标题：激光带宽控制技术
公开(公告)号：TW475303B
公开(公告)日：2002-02-01
申请号：TW090102816
申请日：2001-02-16
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：伊格爾V 弗曼可夫 , 亞門克洛洋 , 傑斯D 布克 , 帕拉許P 達斯 , 理查L 珊德斯壯 , 弗瑞德瑞克G 艾瑞爾 , 約翰M 亞爾哥士 , 加馬拉拉吉G 帕德瑪杜邦杜
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/105 , H01S3/1055
摘要：一種可做電氣放電雷射頻寬控制用之技術。一線窄化設備，係設置使具有至少一壓電驅動器，和一快速頻寬偵測工具，以及一頻寬控制，係使具有一低於1.0毫秒之時間嚮應。在一較佳實施例中，一波長調制面鏡，係在一極窄樞動角之範圍內，以大於每秒500抖顫調諧之速率，做抖顫調諧，以造成標稱波長值中之一抖顫調諧，而產生一所希望之系列雷射脈波的有效頻寬。
简体摘要：一种可做电气放电激光带宽控制用之技术。一线窄化设备，系设置使具有至少一压电驱动器，和一快速带宽侦测工具，以及一带宽控制，系使具有一低于1.0毫秒之时间向应。在一较佳实施例中，一波长调制面镜，系在一极窄枢动角之范围内，以大于每秒500抖颤调谐之速率，做抖颤调谐，以造成标称波长值中之一抖颤调谐，而产生一所希望之系列激光脉波的有效带宽。

4. 发明专利

TW443020B 以耐用校準器為基礎的輸出耦合器失效
简体标题：以耐用校准器为基础的输出耦合器
公开(公告)号：TW443020B
公开(公告)日：2001-06-23
申请号：TW088121001
申请日：1999-12-15
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：亞力山大I.爾休夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/139 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/08059 , H01S3/08081 , H01S3/0812 , H01S3/0971 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/137 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251
摘要：一種耐用的基於校準器的雷射輸出耦合器。該輸出耦合器特別可用於紫外雷射例如氟化氬準分子雷射或氟雷射。基於校準器的輸出耦合器之主要元件為兩個稜鏡對齊，因此二稜鏡之一的第一面係平行另一稜鏡的第一面。二稜鏡之第一者之第二面與來自雷射腔穴之射束形成等於或約等於布魯斯特(Brewster)角的夾角。二稜鏡之第二鏡具有第二面與耦合器之出射束形成等於或約等於布魯斯特角之夾角。較佳稜鏡由氟化鈣製成且環繞約一大氣壓之氮氣。假設雷射束之波長為193毫微米(用於氟化氬準分子雷射)，布魯斯特角為約57度，第一及第二面個別界定一個約34度的頂角。
較佳具體例中，裝置用作為帶有一個基於繞射光柵之線窄化模組之線窄化氟化氬準分子雷射的輸出耦合器。基於校準器之輸出耦合器係調整為偏好反射於或接近光柵產生之光譜最大值之光。經由於雷射共振腔室放大由基於校準器之輸出耦合器偏好反射之於或接近光柵光譜最大值之光而大致改良線窄化結果。揭示若干較佳方法用以調變基於校準器之輸出耦合器來匹配經由基於光柵之線窄化模組選定的波長。
简体摘要：一种耐用的基于校准器的激光输出耦合器。该输出耦合器特别可用于紫外激光例如氟化氩准分子激光或氟激光。基于校准器的输出耦合器之主要组件为两个棱镜对齐，因此二棱镜之一的第一面系平行另一棱镜的第一面。二棱镜之第一者之第二面与来自激光腔穴之射束形成等于或约等于布鲁斯特(Brewster)角的夹角。二棱镜之第二镜具有第二面与耦合器之出射束形成等于或约等于布鲁斯特角之夹角。较佳棱镜由氟化钙制成且环绕约一大气压之氮气。假设激光束之波长为193毫微米(用于氟化氩准分子激光)，布鲁斯特角为约57度，第一及第二面个别界定一个约34度的顶角。较佳具体例中，设备用作为带有一个基于绕射光栅之线窄化模块之线窄化氟化氩准分子激光的输出耦合器。基于校准器之输出耦合器系调整为偏好反射于或接近光栅产生之光谱最大值之光。经由于激光共振腔室放大由基于校准器之输出耦合器偏好反射之于或接近光栅光谱最大值之光而大致改良线窄化结果。揭示若干较佳方法用以调制基于校准器之输出耦合器来匹配经由基于光栅之线窄化模块选定的波长。

5. 发明专利

TW443013B 具有高透明性稜鏡束擴張器之線窄化裝置失效
简体标题：具有高透明性棱镜束扩张器之线窄化设备
公开(公告)号：TW443013B
公开(公告)日：2001-06-23
申请号：TW088116524
申请日：1999-10-01
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：帕拉許P.達斯 , 理查G.莫頓 , 亞歷山大I.厄爾薩夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/03 , H01S3/08009 , H01S3/1055 , H01S3/225
摘要：一種基於光柵之線窄化裝置具有一個附有至少四個稜鏡之稜鏡束擴張器。各稜鏡設置成入射角為67至71度。高折射指數且強健材料如三氧化二鋁之單層塗層施加至各稜鏡的斜邊表面提供有效抗反射塗層。較佳具體例中，四個稜鏡之入射角各自為約68.2度。較佳具體例之雷射具有類似帶有3稜鏡之理想多層抗反射塗層束擴張器之雷射相同的線窄化效果及頻寬。新穎四稜鏡配置之主要利益為稜鏡塗層遠更價廉且耐久性大為增高。申請人於空氣中試驗新稜鏡經歷三千萬次十毫焦脈衝而無顯著劣化。今日之介電多層堆疊塗層並無任一者可耐受如此多次曝光。
简体摘要：一种基于光栅之线窄化设备具有一个附有至少四个棱镜之棱镜束扩张器。各棱镜设置成入射角为67至71度。高折射指数且强健材料如三氧化二铝之单层涂层施加至各棱镜的斜边表面提供有效抗反射涂层。较佳具体例中，四个棱镜之入射角各自为约68.2度。较佳具体例之激光具有类似带有3棱镜之理想多层抗反射涂层束扩张器之激光相同的线窄化效果及带宽。新颖四棱镜配置之主要利益为棱镜涂层远更价廉且耐久性大为增高。申请人于空气中试验新棱镜经历三千万次十毫焦脉冲而无显着劣化。今日之介电多层堆栈涂层并无任一者可耐受如此多次曝光。

6. 发明专利

TW415140B 可靠模組化製造品質窄波帶氪氟準分子雷射有权
简体标题：可靠模块化制造品质窄波带氪氟准分子激光
公开(公告)号：TW415140B
公开(公告)日：2000-12-11
申请号：TW088103668
申请日：1999-03-10
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：大衛S.諾里斯 , 赫夫A.伯索斯利 , 亞歷山大I.厄爾薩夫 , 提伯.朱哈士 , 詹姆斯H.阿左拉 , 帕拉許P.達斯 , 依高V.福門考夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G01J9/0246 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/0971 , H01S3/1055 , H01S3/1392 , H01S3/225
摘要：一種可靠的模組化製造品質窄波帶氪氟準分子雷射，能夠以1000Hz產生具有大約0.6兆分之一米或更小的頻寬之10毫焦耳雷射脈波。本發明特別適用於積體電路的光學照相製造中長期日以繼夜的操作。超越習知技藝雷射的改進包括了單一上游預電離管以及聲障板。較佳實施例包括了被降低的氟濃度、形狀可降低送風機軸承上氣動力反應力的陽極支撐棒、提供較快的脈波爬升時間之改良的脈波功率系統、具實質增加的反射性之輸出連接器、具有氟化鈣稜鏡光束擴展器的譜線緊縮模組、更正確的波長計、以及以新且改良的脈波能量控制演算法予以規畫之雷射電腦控制器。
简体摘要：一种可靠的模块化制造品质窄波带氪氟准分子激光，能够以1000Hz产生具有大约0.6兆分之一米或更小的带宽之10毫焦耳激光脉波。本发明特别适用于集成电路的光学照相制造中长期日以继夜的操作。超越习知技艺激光的改进包括了单一上游预电离管以及声障板。较佳实施例包括了被降低的氟浓度、形状可降低送风机轴承上气动力反应力的阳极支撑棒、提供较快的脉波爬升时间之改良的脉波功率系统、具实质增加的反射性之输出连接器、具有氟化钙棱镜光束扩展器的谱线紧缩模块、更正确的波长计、以及以新且改良的脉波能量控制算法予以规画之激光电脑控制器。

7. 发明专利

TW381364B 具不穩定共振腔之極窄波帶雷射失效
简体标题：具不稳定共振腔之极窄波带激光
公开(公告)号：TW381364B
公开(公告)日：2000-02-01
申请号：TW087110603
申请日：1998-06-30
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：亞歷山大I.厄爾秀夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70483 , G02B5/1828 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/08009 , H01S3/08081 , H01S3/1055 , H01S3/13 , H01S3/225
摘要：本案提供一種極窄波帶雷射;藉由使用一圓柱形部分反射鏡子,以提供與具有一光束擴大器和一曲線光柵的一線調窄模組組合的一輸出耦合器,而產生一不穩定共振腔,來達成極窄波帶寬度。
简体摘要：本案提供一种极窄波带激光;借由使用一圆柱形部分反射镜子,以提供与具有一光束扩大器和一曲线光栅的一线调窄模块组合的一输出耦合器,而产生一不稳定共振腔,来达成极窄波带宽度。

8. 发明专利

TWI420153B 用以選擇與控制光源頻帶寬度之系統方法與裝置有权
简体标题：用以选择与控制光源频带宽度之系统方法与设备
公开(公告)号：TWI420153B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW098136142
申请日：2009-10-26
申请人：希瑪股份有限公司 , CYMER, INC.
发明人：弗古羅艾弗倫 , FIGUEROA, EFRAIN , 派特洛威廉N , PARTLO, WILLIAM N. , 亞哥特斯約翰M , ALGOTS, JOHN MARTIN
IPC分类号： G02B27/44
CPC分类号： H01S3/08009 , G01J3/02 , G01J3/0237 , G01J3/027 , G01J3/06 , G01J3/14 , G01J3/18 , G01J2003/1208 , G02B5/1828 , H01S3/08004 , H01S3/1055 , H01S3/1067

9. 发明专利

TW201204181A 具有用於極紫外光源的預脈衝之主振盪器－功率放大器驅動雷射 MASTER OSCILLATOR-POWER AMPLIFIER DRIVE LASER WITH PRE-PULSE FOR EUV LIGHT SOURCE 审中-公开
简体标题：具有用于极紫外光源的预脉冲之主振荡器－功率放大器驱动激光 MASTER OSCILLATOR-POWER AMPLIFIER DRIVE LASER WITH PRE-PULSE FOR EUV LIGHT SOURCE
公开(公告)号：TW201204181A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100119962
申请日：2011-06-08
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：侯凱鐘 , 山德史東理查L , 派特洛威廉N , 布朗丹尼爾J W , 佛蒙柯維伊格爾V
IPC分类号： H05G , H01S
CPC分类号： H01S3/0078 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70908 , G03F7/70933 , H01S3/076 , H01S3/1055 , H01S3/117 , H01S3/2232 , H05G2/008
摘要：本發明揭示一種裝置,其可包括:一光學放大器,其具有包含波長��1以及��2,且��1≠��2之一增益頻帶;一預脈衝種子雷射,其具有一用以調諧一預脈衝輸出為波長��1之調諧模組;一產生具有波長��2之雷射輸出的主脈衝種子雷射;以及一光束組合器,其用以經由該光學放大器引導該預脈衝輸出以及該主脈衝輸出至一共同路徑。
简体摘要：本发明揭示一种设备,其可包括:一光学放大器,其具有包含波长��1以及��2,且��1≠��2之一增益频带;一预脉冲种子激光,其具有一用以调谐一预脉冲输出为波长��1之调谐模块;一产生具有波长��2之激光输出的主脉冲种子激光;以及一光束组合器,其用以经由该光学放大器引导该预脉冲输出以及该主脉冲输出至一共同路径。

10. 发明专利

TW201027128A 用以選擇與控制光源頻帶寬度之系統方法與裝置 SYSTEM METHOD AND APPARATUS FOR SELECTING AND CONTROLLING LIGHT SOURCE BANDWIDTH 审中-公开
简体标题：用以选择与控制光源频带宽度之系统方法与设备 SYSTEM METHOD AND APPARATUS FOR SELECTING AND CONTROLLING LIGHT SOURCE BANDWIDTH
公开(公告)号：TW201027128A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098136142
申请日：2009-10-26
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：弗古羅艾弗倫 , 派特洛威廉N , 亞哥特斯約翰M
IPC分类号： G02B
CPC分类号： H01S3/08009 , G01J3/02 , G01J3/0237 , G01J3/027 , G01J3/06 , G01J3/14 , G01J3/18 , G01J2003/1208 , G02B5/1828 , H01S3/08004 , H01S3/1055 , H01S3/1067
摘要：一用於頻帶寬度選擇之機構係包括一具有一體部之分散性光學元件，該體部包括分散的一反射面，其包括一沿著分散性光學元件的反射面延伸於一縱軸線方向之入射區域。體部亦包括一第一端區塊，其配置於體部的一第一縱向端，及一第二端區塊，其配置於體部的一第二縱向端，第二縱向端係與第一縱向端相對。頻帶寬度選擇機構亦包括一第一致動器，其安裝在分散性光學元件的一第二面上，第二面與反射面相對，第一致動器係具有一被耦合至第一端區塊之第一端及一被耦合至第二端區塊之第二端，第一致動器係為操作性以施加相等且相反的力至第一端區塊及第二端區塊以沿著體部縱軸線且在與分散性光學元件的反射面呈法向之一第一方向彎折體部。頻帶寬度選擇機構亦包括一第二致動器，其安裝在分散性光學元件的一第三面上，第三面與反射面呈法向，第二致動器具有一以一第一撓曲件被耦合至第一端區塊之第一端及一以一第二撓曲件被耦合至第二端區塊之第二端，第一致動器係為操作性以施加相等且相反的力至第一端區塊及第二端區塊以在一垂直於分散性光學元件的反射面之第二方向沿著體部縱軸線彎折體部，第二方向亦垂直於第一方向，第二致動器包括一經加壓流體力施加機構。亦揭露一用於選擇頻帶寬度之方法。
简体摘要：一用于频带宽度选择之机构系包括一具有一体部之分散性光学组件，该体部包括分散的一反射面，其包括一沿着分散性光学组件的反射面延伸于一纵轴线方向之入射区域。体部亦包括一第一端区块，其配置于体部的一第一纵向端，及一第二端区块，其配置于体部的一第二纵向端，第二纵向端系与第一纵向端相对。频带宽度选择机构亦包括一第一致动器，其安装在分散性光学组件的一第二面上，第二面与反射面相对，第一致动器系具有一被耦合至第一端区块之第一端及一被耦合至第二端区块之第二端，第一致动器系为操作性以施加相等且相反的力至第一端区块及第二端区块以沿着体部纵轴线且在与分散性光学组件的反射面呈法向之一第一方向弯折体部。频带宽度选择机构亦包括一第二致动器，其安装在分散性光学组件的一第三面上，第三面与反射面呈法向，第二致动器具有一以一第一挠曲件被耦合至第一端区块之第一端及一以一第二挠曲件被耦合至第二端区块之第二端，第一致动器系为操作性以施加相等且相反的力至第一端区块及第二端区块以在一垂直于分散性光学组件的反射面之第二方向沿着体部纵轴线弯折体部，第二方向亦垂直于第一方向，第二致动器包括一经加压流体力施加机构。亦揭露一用于选择频带宽度之方法。

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