专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201433393A 雷射加工裝置及雷射加工方法审中-公开
简体标题：激光加工设备及激光加工方法
公开(公告)号：TW201433393A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102142240
申请日：2013-11-20
申请人：國立大學法人九州大學 , KYUSHU UNIVERSITY, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION , 極光股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：池上浩 , IKENOUE, HIROSHI , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU , 溝口計 , MIZOGUCHI, HAKARU
IPC分类号： B23K26/00 , C03B33/02 , B23K26/38 , C03B33/04
CPC分类号： C03C23/0025 , B23K26/034 , B23K26/0622 , C03B33/0222 , H01S3/0092 , H01S3/0971 , H01S3/10015 , H01S3/1055 , H01S3/115 , H01S3/1301 , H01S3/134 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H01S3/2375 , H01S3/2391 , Y02P40/57
摘要：一種雷射加工裝置，可具備：雷射光源，發射在8μm至11μm的波長範圍內具有峰值且脈寬為30ns以下的脈衝雷射光；光學系，將該脈衝雷射光集光並照射至被加工物；及控制部，由該雷射光源所發射的該脈衝雷射光的重複頻率控制為25kHz以上。
简体摘要：一种激光加工设备，可具备：激光光源，发射在8μm至11μm的波长范围内具有峰值且脉宽为30ns以下的脉冲激光光；光学系，将该脉冲激光光集光并照射至被加工物；及控制部，由该激光光源所发射的该脉冲激光光的重复频率控制为25kHz以上。

2. 发明专利

TWI606753B 極端紫外光生成系統有权
简体标题：极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TWI606753B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW102119927
申请日：2013-06-05
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 溝口計 , MIZOGUCHI, HAKARU , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , H05G2/005

3. 发明专利

TW201404246A 極端紫外光生成系統审中-公开
简体标题：极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TW201404246A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102119927
申请日：2013-06-05
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 溝口計 , MIZOGUCHI, HAKARU , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要：本發明的極端紫外光生成系統，係對標靶照射第1脈衝雷射光及第2脈衝雷射光而使標靶電漿化，藉此構成可生成極端紫外光之極端紫外光生成系統，亦可具備：腔室，其係設有用以導入第1脈衝雷射光及第2脈衝雷射光之至少1個的導入口；標靶供給裝置，其係構成可對腔室內的既定的領域供給標靶；第1雷射裝置，其係構成可輸出被照射於腔室內的標靶之第1脈衝雷射光，具有未滿1ns的脈衝寬之第1脈衝雷射光；及第2雷射裝置，其係構成可輸出被照射於被第1脈衝雷射光照射的標靶之第2脈衝雷射光。
简体摘要：本发明的极端紫外光生成系统，系对标靶照射第1脉冲激光光及第2脉冲激光光而使标靶等离子化，借此构成可生成极端紫外光之极端紫外光生成系统，亦可具备：腔室，其系设有用以导入第1脉冲激光光及第2脉冲激光光之至少1个的导入口；标靶供给设备，其系构成可对腔室内的既定的领域供给标靶；第1激光设备，其系构成可输出被照射于腔室内的标靶之第1脉冲激光光，具有未满1ns的脉冲宽之第1脉冲激光光；及第2激光设备，其系构成可输出被照射于被第1脉冲激光光照射的标靶之第2脉冲激光光。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式