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1. 发明专利

TW200735493A 深紫外線雷射光源之主動頻譜控制技術 ACTIVE SPECTRAL CONTROL OF DUV LASER LIGHT SOURCE 审中-公开
简体标题：深紫外线激光光源之主动频谱控制技术 ACTIVE SPECTRAL CONTROL OF DUV LASER LIGHT SOURCE
公开(公告)号：TW200735493A
公开(公告)日：2007-09-16
申请号：TW095149174
申请日：2006-12-27
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC.
发明人：杜恩斯坦威尼J. DUNSTAN, WAYNE J. , 賈庫斯羅伯特N. JACQUES, ROBERT N. , 拉歐拉傑賽克哈爾M. RAO, RAJASEKHAR M. , 崔秀克費多B. TRINTCHOUK, FEDOR B.
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/13 , G03F7/70575 , H01S3/134 , H01S3/136
摘要：根據所揭示之主題之一實施例之觀點,揭示一線窄化高平均功率高脈衝重覆雷射微影照相光源頻寬控制方法及裝置,其可包含一頻寬度量模組,其測量光源所產生之雷射輸出光脈衝束脈衝並提供頻寬測量;一頻寬錯誤訊號產生器,其接收該頻寬測量及一頻寬設定點並提供一頻寬錯誤訊號;一主動頻寬控制器,其提供一細頻寬修正啓動器訊號及一粗頻寬修正啓動器訊號以回應頻寬錯誤。細頻寬修正啓動器和粗頻寬修正啓動器每一個可引入個別的光源行為修改,其減少頻寬錯誤。粗和細頻寬修正啓動器每一個可包含多個頻寬修正啓動器。
简体摘要：根据所揭示之主题之一实施例之观点,揭示一线窄化高平均功率高脉冲重复激光微影照相光源带宽控制方法及设备,其可包含一带宽度量模块,其测量光源所产生之激光输出光脉冲束脉冲并提供带宽测量;一带宽错误信号产生器,其接收该带宽测量及一带宽设置点并提供一带宽错误信号;一主动带宽控制器,其提供一细带宽修正启动器信号及一粗带宽修正启动器信号以回应带宽错误。细带宽修正启动器和粗带宽修正启动器每一个可引入个别的光源行为修改,其减少带宽错误。粗和细带宽修正启动器每一个可包含多个带宽修正启动器。

2. 发明专利

TW469683B 具有線狹窄化單元之高功率氣體放電雷射有权
简体标题：具有线狭窄化单元之高功率气体放电激光
公开(公告)号：TW469683B
公开(公告)日：2001-12-21
申请号：TW089118008
申请日：2000-09-02
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：雷蒙德F 希布斯奇 , 亞利桑德I 厄休夫 , 艾克哈德D 翁克斯 , 帕拉須P 達斯 , 丹尼洛K 理查德生 , 潔西D 布克
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/036 , H01S3/0401 , H01S3/08009 , H01S3/08059 , H01S3/0812 , H01S3/086 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/1392 , H01S3/225 , H01S3/2256
摘要：用以窄化製造高能量雷射光束之雷射光的一以光柵為基礎的譜光窄化裝置。本發明同時備置使在光束表面上的熱氣層造成最小負面效果的技術。
在較佳實施例中，一氣流被引導跨過光柵的表面。在其他實施例中，使用氦氣作為一吹洗氣體以減少熱氣層的影響，而在其他實施例中則係減少吹洗氣體壓力以減少熱氣層的光學效果。
简体摘要：用以窄化制造高能量激光光束之激光光的一以光栅为基础的谱光窄化设备。本发明同时备置使在光束表面上的热气层造成最小负面效果的技术。在较佳实施例中，一气流被引导跨过光栅的表面。在其他实施例中，使用氦气作为一吹洗气体以减少热气层的影响，而在其他实施例中则系减少吹洗气体压力以减少热气层的光学效果。

3. 发明专利

TWI558045B 用於種源雷射模式穩定化之系統及方法有权
简体标题：用于种源激光模式稳定化之系统及方法
公开(公告)号：TWI558045B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW102129122
申请日：2013-08-14
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：桑德斯特倫理查L , SANDSTROM, RICHARD L.
IPC分类号： H01S3/11 , H01S3/139 , H05G2/00
CPC分类号： H01S3/13 , H01S3/0085 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/136 , H01S3/1398 , H01S3/2366 , H01S3/2383 , H05G2/005 , H05G2/008

4. 发明专利

TW201415738A 用於種源雷射模式穩定化之系統及方法审中-公开
简体标题：用于种源激光模式稳定化之系统及方法
公开(公告)号：TW201415738A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102129122
申请日：2013-08-14
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：桑德斯特倫理查L , SANDSTROM, RICHARD L.
IPC分类号： H01S3/11 , H01S3/139 , H05G2/00
CPC分类号： H01S3/13 , H01S3/0085 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/136 , H01S3/1398 , H01S3/2366 , H01S3/2383 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要：本案揭示一種用以在一雷射產生電漿(LPP)極紫外線(EUV)光系統中穩定化種源雷射之方法及裝置。在一個實施例中，可藉由一可移動反射鏡來調整雷射之空腔長度，該可移動反射鏡形成空腔之一個末端。在不同的反射鏡位置處量測自一輸出脈衝之釋放至下一次達到雷射發光臨界值之時間延遲，且選擇導致空腔模式與雷射之增益峰值對準之一反射鏡位置，因此產生自雷射之一輸出脈衝至下一個雷射發光臨界值之最小時間延遲。雷射中之一Q開關允許預雷射發光且因此允許輸出脈衝之無抖動定時。回饋迴路將雷射輸出保持在最大增益及最大效率，且將衰減及定時保持在所需的操作點處。
简体摘要：本案揭示一种用以在一激光产生等离子(LPP)极紫外线(EUV)光系统中稳定化种源激光之方法及设备。在一个实施例中，可借由一可移动反射镜来调整激光之空腔长度，该可移动反射镜形成空腔之一个末端。在不同的反射镜位置处量测自一输出脉冲之释放至下一次达到激光发光临界值之时间延迟，且选择导致空腔模式与激光之增益峰值对准之一反射镜位置，因此产生自激光之一输出脉冲至下一个激光发光临界值之最小时间延迟。激光中之一Q开关允许预激光发光且因此允许输出脉冲之无抖动定时。回馈回路将激光输出保持在最大增益及最大效率，且将衰减及定时保持在所需的操作点处。

5. 发明专利

TW201036294A 線窄化高平均功率高脈衝重覆雷射微影照相光源頻寬控制系統以及氟入射控制系統 LINE NARROWED HIGH AVERAGE POWER HIGH PULSE REPETITION LASER MICRO-PHOTOLITHOGRAPHY LIGHT SOURCE BANDWIDTH CONTROL SYSTEM AND FLUORINE INJECTION CONTROL SYSTEM 审中-公开
简体标题：线窄化高平均功率高脉冲重复激光微影照相光源带宽控制系统以及氟入射控制系统 LINE NARROWED HIGH AVERAGE POWER HIGH PULSE REPETITION LASER MICRO-PHOTOLITHOGRAPHY LIGHT SOURCE BANDWIDTH CONTROL SYSTEM AND FLUORINE INJECTION CONTROL SYSTEM
公开(公告)号：TW201036294A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW099116707
申请日：2006-12-27
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：杜恩斯坦威尼J , 賈庫斯羅伯特N , 拉歐拉傑賽克哈爾M , 崔秀克費多B
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/13 , G03F7/70575 , H01S3/134 , H01S3/136
摘要：根據所揭示之主題之一實施例之觀點,揭示一線窄化高平均功率高脈衝重覆雷射微影照相光源頻寬控制方法及裝置,其可包含一頻寬度量模組,其測量光源所產生之雷射輸出光脈衝束脈衝並提供頻寬測量;一頻寬錯誤訊號產生器,其接收該頻寬測量及一頻寬設定點並提供一頻寬錯誤訊號;一主動頻寬控制器,其提供一細頻寬修正啓動器訊號及一粗頻寬修正啓動器訊號以回應頻寬錯誤。細頻寬修正啓動器和粗頻寬修正啓動器每一個可引入個別的光源行為修改,其減少頻寬錯誤。粗和細頻寬修正啓動器每一個可包含多個頻寬修正啓動器。
简体摘要：根据所揭示之主题之一实施例之观点,揭示一线窄化高平均功率高脉冲重复激光微影照相光源带宽控制方法及设备,其可包含一带宽度量模块,其测量光源所产生之激光输出光脉冲束脉冲并提供带宽测量;一带宽错误信号产生器,其接收该带宽测量及一带宽设置点并提供一带宽错误信号;一主动带宽控制器,其提供一细带宽修正启动器信号及一粗带宽修正启动器信号以回应带宽错误。细带宽修正启动器和粗带宽修正启动器每一个可引入个别的光源行为修改,其减少带宽错误。粗和细带宽修正启动器每一个可包含多个带宽修正启动器。

6. 发明专利

TW423188B 用於雷射之波長偏移校正技術失效
简体标题：用于激光之波长偏移校正技术
公开(公告)号：TW423188B
公开(公告)日：2001-02-21
申请号：TW087110604
申请日：1998-06-30
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：喬治J.艾佛瑞奇 , 依果V.佛門哥 , 帕拉許P.達斯 , 理查L.桑德斯托姆
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70333 , H01S3/13 , H01S3/225
摘要：雷射系統之波長偏移校正系統供校正波長唧聲。此種波長偏移校正系統包括學習算法其學習得自雷射之波長唧聲特徵及電腦系統其執行學習算法及基於習得之特徵提供波長校正控制信號而減低存在的波長唧聲之波長偏移幅度及隨後減少波長唧聲。
简体摘要：激光系统之波长偏移校正系统供校正波长唧声。此种波长偏移校正系统包括学习算法其学习得自激光之波长唧声特征及电脑系统其运行学习算法及基于习得之特征提供波长校正控制信号而减低存在的波长唧声之波长偏移幅度及随后减少波长唧声。

7. 发明专利

TW396669B 具自動直流抵補及增益調整之電射波長控制電路失效
简体标题：具自动直流抵补及增益调整之电射波长控制电路
公开(公告)号：TW396669B
公开(公告)日：2000-07-01
申请号：TW087100069
申请日：1998-01-05
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：史圖爾特L.安德森
IPC分类号： H01S , H01L
CPC分类号： H03G3/3084 , H01S3/13 , H01S3/1305 , H01S5/0683 , H01S5/0687 , H03G1/0088
摘要：本發明係關於雷射波長控制電路之回授通道中的一種自動增益控制電路。該增益控制電路自動地調整從一組光檢測器陣列輸出的類比信號之放大率，其中該陣列檢測雷射束地所產生的繸狀樣型。較佳實施例之回授電路的另一特點是用以補償回授通道中誤差並且使得繸狀樣型信號中暗位準信號能精確決定的直流抵補電壓之自動設定。這種暗位準信號提供用以量測繸狀樣型信號振幅之一組參考。因此，變化的光檢測器輸出可以更加精確地被量測。較佳實施例的回授電路也採用連接於一組鉗制電路中的ＬＥＤ之一種非常快速的放大器反飽和電路。
简体摘要：本发明系关于激光波长控制电路之回授信道中的一种自动增益控制电路。该增益控制电路自动地调整从一组光检测器数组输出的模拟信号之放大率，其中该数组检测激光束地所产生的䍁状样型。较佳实施例之回授电路的另一特点是用以补偿回授信道中误差并且使得䍁状样型信号中暗位准信号能精确决定的直流抵补电压之自动设置。这种暗位准信号提供用以量测䍁状样型信号振幅之一组参考。因此，变化的光检测器输出可以更加精确地被量测。较佳实施例的回授电路也采用连接于一组钳制电路中的ＬＥＤ之一种非常快速的放大器反饱和电路。

8. 发明专利

TW201611450A 用於兩腔室氣體放電雷射系統中之自動氣體最佳化之系統及方法审中-公开
简体标题：用于两腔室气体放电激光系统中之自动气体最优化之系统及方法
公开(公告)号：TW201611450A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104124758
申请日：2015-07-30
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：歐布萊恩凱文 , O'BRIEN, KEVIN , 索恩斯約書亞 , THORNES, JOSHUA , 伯瑞洛麥可 , BORRELLO, MICHAEL
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/134
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/0014 , H01S3/104 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308
摘要：本案揭示用於在兩腔室氣體放電雷射之腔室中的再填充之後自動地進行氣體最佳化之系統及方法。在低功率下發射該雷射，且必要時放出該放大器雷射腔室中之該氣體，直至該放電電壓符合或超過最小值，而不使該壓力下降至一最小值以下。增加該功率輸出以達近似該雷射之預期操作的叢發型式，且必要時再次放出該放大器腔室氣體直至該電壓及輸出能量符合或超過最小值，或直至該壓力小於最小值。隨後必要時放出該主控振盪器腔室中之該氣體，直至該主控振盪器之該輸出能量符合或降至最大值以下，而又不使該腔室中之該壓力下降至該最小值以下。雖然該壓力獲調整，但亦量測且調整帶寬以保留在所欲範圍內。一旦提供該等目標值，該過程即快速允許而無需手動交互。
简体摘要：本案揭示用于在两腔室气体放电激光之腔室中的再填充之后自动地进行气体最优化之系统及方法。在低功率下发射该激光，且必要时放出该放大器激光腔室中之该气体，直至该放电电压符合或超过最小值，而不使该压力下降至一最小值以下。增加该功率输出以达近似该激光之预期操作的丛发型式，且必要时再次放出该放大器腔室气体直至该电压及输出能量符合或超过最小值，或直至该压力小于最小值。随后必要时放出该主控振荡器腔室中之该气体，直至该主控振荡器之该输出能量符合或降至最大值以下，而又不使该腔室中之该压力下降至该最小值以下。虽然该压力获调整，但亦量测且调整带宽以保留在所欲范围内。一旦提供该等目标值，该过程即快速允许而无需手动交互。

9. 发明专利

TWI389409B 用於兩腔室氣體放電雷射之雷射控制方法及裝置有权
简体标题：用于两腔室气体放电激光之激光控制方法及设备
公开(公告)号：TWI389409B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098135413
申请日：2009-10-20
申请人：希瑪股份有限公司 , CYMER, INC.
发明人：雅各斯羅伯特N , JACQUES, ROBERT N.
IPC分类号： H01S3/104
CPC分类号： H01S3/104 , G03F7/70025 , H01S3/0057 , H01S3/034 , H01S3/13 , H01S3/2325

10. 发明专利

TW200402915A 雷射光源控制方法及裝置、曝光方法及裝置、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：激光光源控制方法及设备、曝光方法及设备、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW200402915A
公开(公告)日：2004-02-16
申请号：TW092116640
申请日：2003-06-19
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：服部修
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/13 , G03F7/70025 , G03F7/70575
摘要：藉由本發明即可使用輸出性能經常在良好狀態的雷射光源。本發明之解決手段，係求出含有可使用之振盪頻率的既定範圍之雷射光源之振盪頻率根據該雷射光源之輸出性能所得的資訊，例如求出顯示振盪頻率與輸出性能之關係的資訊等，將該資訊儲存於記憶體中。又，當控制雷射光源時，根據儲存於記憶體內之該資訊來指定雷射光源之輸出性能變差，或良好的特定頻率領域，並且判斷預定使用之振盪頻率f是否在特定頻率領域內（步驟156或166），依照判斷結果而避開輸出性能變差的頻率領域，或在輸出性能良好的頻率領域內設定振盪頻率（步驟158或164）。藉此即可使用輸出性能經常在良好狀態的雷射光源。
简体摘要：借由本发明即可使用输出性能经常在良好状态的激光光源。本发明之解决手段，系求出含有可使用之振荡频率的既定范围之激光光源之振荡频率根据该激光光源之输出性能所得的信息，例如求出显示振荡频率与输出性能之关系的信息等，将该信息存储于内存中。又，当控制激光光源时，根据存储于内存内之该信息来指定激光光源之输出性能变差，或良好的特定频率领域，并且判断预定使用之振荡频率f是否在特定频率领域内（步骤156或166），依照判断结果而避开输出性能变差的频率领域，或在输出性能良好的频率领域内设置振荡频率（步骤158或164）。借此即可使用输出性能经常在良好状态的激光光源。

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