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1. 发明专利

TWI596852B 用於雷射放電管之氣體循環迴路有权
简体标题：用于激光放电管之气体循环回路
公开(公告)号：TWI596852B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW102134364
申请日：2013-09-24
申请人：歐洲雷射系統與方案解決公司 , LASER SYSTEMS & SOLUTIONS OF EUROPE
发明人：葛雷特朱利安 , GRELLET, JULIEN , 卻斯坦尼可拉斯 , CHASTAN, NICOLAS
IPC分类号： H01S3/036
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/03 , H01S3/041

2. 发明专利

TW201246732A 控制二腔室型氣體放電雷射系統中的氣體濃度之系統及方法 SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING GAS CONCENTRATION IN A TWO-CHAMBER GAS DISCHARGE LASER SYSTEM 审中-公开
简体标题：控制二腔室型气体放电激光系统中的气体浓度之系统及方法 SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING GAS CONCENTRATION IN A TWO-CHAMBER GAS DISCHARGE LASER SYSTEM
公开(公告)号：TW201246732A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101110780
申请日：2012-03-28
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：萊格斯丹尼爾J
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/03 , H01S3/225 , H01S3/2308
摘要：本發明係揭露用於控制諸如受激準分子雷射等二腔室型氣體放電雷射之腔室中的氣體濃度之系統及方法。對於主振盪器的雷射腔室選擇一第一組的注射機會,且對於功率放大器的雷射腔室選擇一第二組的注射機會。在對於主振盪器的各選定注射機會,其雷射腔室係接收一含有一固定量的一非鹵素包含氣體、及一計算量的一鹵素包含氣體之注射。在對於功率放大器的選定注射機會,其雷射腔室係接收一固定量的鹵素包含氣體,並可亦接收一固定量的非鹵素包含氣體。
简体摘要：本发明系揭露用于控制诸如受激准分子激光等二腔室型气体放电激光之腔室中的气体浓度之系统及方法。对于主振荡器的激光腔室选择一第一组的注射机会,且对于功率放大器的激光腔室选择一第二组的注射机会。在对于主振荡器的各选定注射机会,其激光腔室系接收一含有一固定量的一非卤素包含气体、及一计算量的一卤素包含气体之注射。在对于功率放大器的选定注射机会,其激光腔室系接收一固定量的卤素包含气体,并可亦接收一固定量的非卤素包含气体。

3. 发明专利

TW496022B 用於氣體放電雷射之波測量器有权
简体标题：用于气体放电激光之波测量器
公开(公告)号：TW496022B
公开(公告)日：2002-07-21
申请号：TW089127842
申请日：2001-02-08
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：彼得C 紐曼 , 約翰T 米契 , 理查L 山斯壯
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G01J1/4257 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0208 , G01J3/0291 , G01J3/26 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70483 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/0811 , H01S3/0971 , H01S3/225
摘要：一光學位型，其用於在一雷射波測量器中以一最小位準的光強度照射一校準器。該系統包括多個光學組件，該等組件引導代表整個光束橫切面之一部份雷射輸出光束，通過一定位在一校準器室中之校準器，並達至一光學偵測器上。一第一透鏡縮小該光束樣本的尺寸，以及一第二透鏡再準直該光束，該光束按著前行進入該校準器室，以確定光束的所有空間分量被過切地取樣。一衍射的漫射元件係被併入光程中。在一較佳的實施例，該衍射的漫射元件係置於介在乎-凹透鏡與校準器之間的校準器室中。在另一較佳的實施例中，該漫射元件係位在上游但在該室外之光程中。
简体摘要：一光学位型，其用于在一激光波测量器中以一最小位准的光强度照射一校准器。该系统包括多个光学组件，该等组件引导代表整个光束横切面之一部份激光输出光束，通过一定位在一校准器室中之校准器，并达至一光学侦测器上。一第一透镜缩小该光束样本的尺寸，以及一第二透镜再准直该光束，该光束按着前行进入该校准器室，以确定光束的所有空间分量被过切地采样。一衍射的漫射组件系被并入光程中。在一较佳的实施例，该衍射的漫射组件系置于介在乎-凹透镜与校准器之间的校准器室中。在另一较佳的实施例中，该漫射组件系位在上游但在该室外之光程中。

4. 发明专利

TW463429B 放電激勵受激準分子雷射裝置有权
简体标题：放电激励受激准分子激光设备
公开(公告)号：TW463429B
公开(公告)日：2001-11-11
申请号：TW089109988
申请日：2000-05-24
申请人：荏原製作所股份有限公司
发明人：關口信一 , 篠崎弘行 , 茨田敏光 , 中澤敏治
IPC分类号： H01S
CPC分类号： F16C32/047 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/225
摘要：放電激勵受激準分子雷射裝置包含有盒子、主電極對、用於在主電極對間產生高速雷射氣體流之交叉流動式風扇，此交叉流動式風扇具有由其對立末端突出之可轉動軸、利用軸承以非接觸方式可轉動支撐此可轉動軸之磁性軸承、當磁性軸承處於未運轉時用於支撐可轉動軸之保護軸承、和用於啟動交叉流動式風扇之馬達。此磁性軸承包含有放置在交叉流動式風扇對立兩端之徑向磁性軸承。放置在馬達附近之徑向磁性軸承所具有之軸承剛性大於放置在距馬達較遠處的那一個徑向磁性軸承之軸承剛性。
简体摘要：放电激励受激准分子激光设备包含有盒子、主电极对、用于在主电极对间产生高速激光气体流之交叉流动式风扇，此交叉流动式风扇具有由其对立末端突出之可转动轴、利用轴承以非接触方式可转动支撑此可转动轴之磁性轴承、当磁性轴承处于未运转时用于支撑可转动轴之保护轴承、和用于启动交叉流动式风扇之马达。此磁性轴承包含有放置在交叉流动式风扇对立两端之径向磁性轴承。放置在马达附近之径向磁性轴承所具有之轴承刚性大于放置在距马达较远处的那一个径向磁性轴承之轴承刚性。

5. 发明专利

TW393814B 具氣體添加物之窄波帶準分子雷射有权
简体标题：具气体添加物之窄波带准分子激光
公开(公告)号：TW393814B
公开(公告)日：2000-06-11
申请号：TW087116811
申请日：1998-10-09
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：湯瑪斯.霍夫曼 , 石原敏彥 , 帕拉許P.達斯 , 亞歷山大I.厄爾秀夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要：本發明提供一種極窄帶脈衝準分子雷射，其可以能量劑量控制增強及再現性升高而產生速率於約500至2000 Hz範圍之脈衝。極小量由氧氣或重貴氣(氙或氡用於KrF雷射，或氪、氙或氡用於ArF雷射)組成此穩定型添加物添加至氣體混合物。試驗顯示藉由添加約30ppm氙至KrF雷射能量穩定性實質改進。試驗顯示對ArF雷射添加約6-10 ppm氙或40 ppm氪其性能改良。較佳具體例中，於KrF雷射藉由降低氟分壓至低於O.10%及經由增高輸出耦合器之反射率至大於25%可達到極窄帶寬。較佳具體例中，先前技術線窄化模組使用的先前技術融合矽氧束擴大稜鏡以氟化鈣稜鏡替代。
简体摘要：本发明提供一种极窄带脉冲准分子激光，其可以能量剂量控制增强及再现性升高而产生速率于约500至2000 Hz范围之脉冲。极小量由氧气或重贵气(氙或氡用于KrF激光，或氪、氙或氡用于ArF激光)组成此稳定型添加物添加至气体混合物。试验显示借由添加约30ppm氙至KrF激光能量稳定性实质改进。试验显示对ArF激光添加约6-10 ppm氙或40 ppm氪其性能改良。较佳具体例中，于KrF激光借由降低氟分压至低于O.10%及经由增高输出耦合器之反射率至大于25%可达到极窄带宽。较佳具体例中，先前技术线窄化模块使用的先前技术融合硅氧束扩大棱镜以氟化钙棱镜替代。

6. 发明专利

TW393670B 具能量感測器回授之雷射照射步進機或掃描器失效
简体标题：具能量传感器回授之激光照射步进机或扫描仪
公开(公告)号：TW393670B
公开(公告)日：2000-06-11
申请号：TW087112916
申请日：1998-08-05
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：理查L.桑斯瓊姆 , 艾格V.佛曼寇夫 , 羅伯G.奧薩斯基 , 帕拉許P.達斯 , 赫維A.畢斯奧希爾
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/134 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要：一種比如步進機或掃描器之雷射照射晶圓曝光系統，具有位在曝光系統內接近光置處的第一光強度檢測器以及位在接近雷射之輸出的第二光強度檢測器。回授控制系統根據由檢測器中至少一者檢出的信號而控制了雷射的輸出。回授控制系統包括了由運算法設計程式的處理器，該運算法是用以控制雷射放電電壓以便用叢發模式內的雷射操作提供在光罩處具有所要強度的光脈波。該運算法利用了至少以下參數:預先測量的脈波能量、計算的能量誤差、計算的劑量誤差、脈波能量對電壓的變化率之值、以及至少一參考電壓。在較佳實施例中運算法使用由位在接近光罩處之光強度檢測器所測量得的脈波能量去提供回授控制，並且使用在雷射之輸出處的光強度檢測器去確保雷射的輸出被維持在預定的範圍內。
简体摘要：一种比如步进机或扫描仪之激光照射晶圆曝光系统，具有位在曝光系统内接近光置处的第一光强度检测器以及位在接近激光之输出的第二光强度检测器。回授控制系统根据由检测器中至少一者检出的信号而控制了激光的输出。回授控制系统包括了由运算法设计进程的处理器，该运算法是用以控制激光放电电压以便用丛发模式内的激光操作提供在光罩处具有所要强度的光脉波。该运算法利用了至少以下参数:预先测量的脉波能量、计算的能量误差、计算的剂量误差、脉波能量对电压的变化率之值、以及至少一参考电压。在较佳实施例中运算法使用由位在接近光罩处之光强度检测器所测量得的脉波能量去提供回授控制，并且使用在激光之输出处的光强度检测器去确保激光的输出被维持在预定的范围内。

7. 发明专利

TWI577099B 雷射裝置及框架有权
简体标题：激光设备及框架
公开(公告)号：TWI577099B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW101100815
申请日：2012-01-09
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：川筋康文 , KAWASUJI, YASUFUMI , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU , 藤本准一 , FUJIMOTO, JUNICHI , 岩瀨日出男 , IWASE, HIDEO
IPC分类号： H01S3/23 , H01S3/02
CPC分类号： H01S3/03 , G02B7/003 , G02B7/004 , H01S3/2232 , H01S3/2316 , H05G2/005 , H05G2/008

8. 发明专利

TWI495214B 氣體雷射裝置有权
简体标题：气体激光设备
公开(公告)号：TWI495214B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW100125938
申请日：2011-07-22
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：谷野陽一 , TANINO, YOICHI , 西前順一 , NISHIMAE, JUNICHI , 山本達也 , YAMAMOTO, TATSUYA , 藤川周一 , FUJIKAWA, SHUICHI
IPC分类号： H01S3/041
CPC分类号： H01S3/041 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/076 , H01S3/081 , H01S3/0816 , H01S3/0971 , H01S3/2232

9. 发明专利

TW201424173A 用於雷射放電管之氣體循環迴路审中-公开
简体标题：用于激光放电管之气体循环回路
公开(公告)号：TW201424173A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102134364
申请日：2013-09-24
申请人：愛克西可法國公司 , EXCICO FRANCE
发明人：葛雷特朱利安 , GRELLET, JULIEN , 卻斯坦尼可拉斯 , CHASTAN, NICOLAS
IPC分类号： H01S3/036
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/03 , H01S3/041
摘要：本發明係關於用於雷射放電管之一氣體循環迴路，其包含一氣體供應管道及一氣體排放管道，其中該氣體供應管道及/或該氣體排放管道在該雷射放電管之縱向方向上伸長且分別藉由經調適用於該雷射放電管之至少部分上之受控的分別一橫向氣體入口、出口的一入口流分配器、一出口流分配器而連接至該雷射放電管，且其中該入口流分配器及/或該出口流分配器包含複數個各別入口通道或出口通道，該迴路之特徵在於：該氣體供應管道之直徑與該入口通道之直徑之間的比率、及/或該氣體排放管道之直徑與該出口通道之直徑之間的比率為至少2。此外，本發明係關於包含此類氣體循環迴路之一雷射裝置。
简体摘要：本发明系关于用于激光放电管之一气体循环回路，其包含一气体供应管道及一气体排放管道，其中该气体供应管道及/或该气体排放管道在该激光放电管之纵向方向上伸长且分别借由经调适用于该激光放电管之至少部分上之受控的分别一横向气体入口、出口的一入口流分配器、一出口流分配器而连接至该激光放电管，且其中该入口流分配器及/或该出口流分配器包含复数个各别入口信道或出口信道，该回路之特征在于：该气体供应管道之直径与该入口信道之直径之间的比率、及/或该气体排放管道之直径与该出口信道之直径之间的比率为至少2。此外，本发明系关于包含此类气体循环回路之一激光设备。

10. 发明专利

TWI353095B 帶寬控制裝置 BANDWIDTH CONTROL DEVICE 有权
简体标题：带宽控制设备 BANDWIDTH CONTROL DEVICE
公开(公告)号：TWI353095B
公开(公告)日：2011-11-21
申请号：TW096118353
申请日：2007-05-23
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：佛蒙柯維伊格爾V , 派特洛威廉N , 萊利丹尼爾J , 霍威詹姆斯K , 奧古拉史丹利C
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/225 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/08009 , H01S3/137 , H01S3/2256
摘要：茲揭示用於操作雷射輸出光束脈衝譜線窄化機構的方法與裝置，其係可包含：標稱中心波長及帶寬選擇光件；靜態波前補償機構，其係形成該選擇光件的曲率；主動式波前補償機構，其係形成該選擇光件的曲率而且操作方式與該靜態波前補償機構無關。該方法與裝置可包含：該標稱中心波長及帶寬選擇光件係包含光柵；該靜態波前補償機構係施加預先選定的彎矩至該光柵；該主動式波前補償機構係施加分開選定的彎矩至該光柵以回應彎矩控制器基於帶寬回饋的控制，該帶寬回饋係來自監視雷射輸出光束脈衝之帶寬的帶寬監視器。該主動式波前補償機構可包含氣動驅動機構。
简体摘要：兹揭示用于操作激光输出光束脉冲谱线窄化机构的方法与设备，其系可包含：标称中心波长及带宽选择光件；静态波前补偿机构，其系形成该选择光件的曲率；主动式波前补偿机构，其系形成该选择光件的曲率而且操作方式与该静态波前补偿机构无关。该方法与设备可包含：该标称中心波长及带宽选择光件系包含光栅；该静态波前补偿机构系施加预先选定的弯矩至该光栅；该主动式波前补偿机构系施加分开选定的弯矩至该光栅以回应弯矩控制器基于带宽回馈的控制，该带宽回馈系来自监视激光输出光束脉冲之带宽的带宽监视器。该主动式波前补偿机构可包含气动驱动机构。

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