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1. 实用新型

TWM600030U 雷射封裝結構有权
简体标题：激光封装结构
公开(公告)号：TWM600030U
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW109205423
申请日：2020-05-06
申请人：迪伸電子股份有限公司
发明人：董欣志
IPC分类号： H01S5/02 , H01L33/48

2. 实用新型

TWM600029U 雷射模組有权
简体标题：激光模块
公开(公告)号：TWM600029U
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW109205414
申请日：2020-05-06
申请人：迪伸電子股份有限公司
发明人：董欣志
IPC分类号： H01S3/04 , H01S3/038 , H01S3/00 , B23K26/064 , B23K26/08 , B23K26/352

3. 发明专利

TW202027384A 氣密裝置审中-公开
简体标题：气密设备
公开(公告)号：TW202027384A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108140223
申请日：2019-11-06
申请人：日商住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：岡田康弘 , OKADA, YASUHIRO , 萬雅史 , YOROZU, MASAFUMI , 田中研太 , TANAKA, KENTA , 河村譲一 , KAWAMURA, JOICHI
IPC分类号： H02K5/10 , H02K5/124 , H01S3/036
摘要：本發明提供一種未使用密封機構便能夠將腔室等氣體容器內保持為氣密的氣密裝置。具備配置於填充有氣體之氣體容器外而與氣體容器一同形成氣密空間之馬達容器及旋轉軸之馬達安裝於氣體容器。馬達容器包含將氣體容器中的空間與馬達容器中的空間分隔之分隔部分。旋轉軸穿過設置於分隔部分之第1孔而從馬達容器中延伸至氣體容器中。在分隔部分，除第1孔以外，亦設置有使氣體在馬達容器中的空間與氣體容器中的空間之間流通之第2孔。
简体摘要：本发明提供一种未使用密封机构便能够将腔室等气体容器内保持为气密的气密设备。具备配置于填充有气体之气体容器外而与气体容器一同形成气密空间之马达容器及旋转轴之马达安装于气体容器。马达容器包含将气体容器中的空间与马达容器中的空间分隔之分隔部分。旋转轴穿过设置于分隔部分之第1孔而从马达容器中延伸至气体容器中。在分隔部分，除第1孔以外，亦设置有使气体在马达容器中的空间与气体容器中的空间之间流通之第2孔。

4. 发明专利

TW202027240A PIN二極體中之有效散熱审中-公开
简体标题： PIN二极管中之有效散热
公开(公告)号：TW202027240A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108120636
申请日：2019-06-14
申请人：美商瞻博網路公司 , JUNIPER NETWORKS, INC.
发明人：諾柏格艾利克裘漢 , NORBERG, ERIK JOHAN , 達凡德納瑟 , DALVAND, NASER , 費雪克格里艾倫 , FISH, GREGORY ALAN
IPC分类号： H01L23/367 , H01S5/024
摘要：可利用跨熱障壁(例如，諸如通常囊封p-i-n二極體之厚頂部氧化物包覆層)分流熱量之導熱通孔來減小整合於絕緣體上半導體基板上之p-i-n二極體之熱阻抗。在各項實施例中，一或多個導熱通孔自本質二極體層之一頂表面延伸至連接至該二極體之經摻雜頂層之一金屬結構，及/或自該金屬結構向下延伸至該基板之至少半導體裝置層。
简体摘要：可利用跨热障壁(例如，诸如通常囊封p-i-n二极管之厚顶部氧化物包覆层)分流热量之导热通孔来减小集成于绝缘体上半导体基板上之p-i-n二极管之热阻抗。在各项实施例中，一或多个导热通孔自本质二极管层之一顶表面延伸至连接至该二极管之经掺杂顶层之一金属结构，及/或自该金属结构向下延伸至该基板之至少半导体设备层。

5. 发明专利

TW202023065A 發光元件、發光方法、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法审中-公开
简体标题：发光组件、发光方法、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TW202023065A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108130036
申请日：2019-08-22
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：西根達郎 , NISHINE, TATSURO
IPC分类号： H01L33/20 , H01S5/183 , G03F7/20
摘要：発光素子は、本發明提供一種發光元件，其自光射出面射出光，且所述發光元件包括：發光器件，發出光；第一光學器件，入射來自發光器件的光；以及第二光學器件，對經由第一光學器件自光射出面射出的光的擴展角進行控制；並且入射至第二光學器件的光具有與來自發光器件的光的波長分佈不同的波長分佈。
简体摘要：発光素子は、本发明提供一种发光组件，其自光射出面射出光，且所述发光组件包括：发光器件，发出光；第一光学器件，入射来自发光器件的光；以及第二光学器件，对经由第一光学器件自光射出面射出的光的扩展角进行控制；并且入射至第二光学器件的光具有与来自发光器件的光的波长分布不同的波长分布。

6. 发明专利

TW202022278A 投射裝置、投射系統、及附投射系統的建造物审中-公开
简体标题：投射设备、投射系统、及附投射系统的建造物
公开(公告)号：TW202022278A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108124704
申请日：2019-07-12
申请人：日商大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：中津川夏織 , NAKATSUGAWA, KAORI , 倉重牧夫 , KURASHIGE, MAKIO , 西尾俊平 , NISHIO, SHUMPEI , 中井俊之 , NAKAI, TOSHIYUKI , 羽鳥茂喜 , HATORI, SHIGEKI , 北條美貴子 , HOJO, MIKIKO , 石田一敏 , ISHIDA, KAZUTOSHI
IPC分类号： F21S2/00 , F21V9/00 , G02B5/18 , H01S5/022 , H01S5/0683 , F21Y115/30
摘要：投射裝置(10)，係將光投射至建造物(ST)或自然(NT)照明被投射區域(LP)。投射裝置具有：同調光源(20)、將從同調光源射出的光繞射的繞射光學元件(40)。
简体摘要：投射设备(10)，系将光投射至建造物(ST)或自然(NT)照明被投射区域(LP)。投射设备具有：同调光源(20)、将从同调光源射出的光绕射的绕射光学组件(40)。

7. 实用新型

TWM597002U 可調控光學模態之雷射結構有权
简体标题：可调控光学模态之激光结构
公开(公告)号：TWM597002U
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW108216614
申请日：2019-12-13
申请人：元光科技股份有限公司
发明人：楊英杰
IPC分类号： H01S5/125 , H01S5/06

9. 实用新型

TWM596074U 可攜式雷射光產生裝置有权
简体标题：可携式激光光产生设备
公开(公告)号：TWM596074U
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW109200529
申请日：2020-01-14
申请人：簡正光
发明人：簡正光
IPC分类号： A61H39/08 , A61N1/00 , H01S3/00

10. 发明专利

TW202019038A 二極體雷射器配置以及安裝二極體雷射器配置之方法审中-公开
简体标题：二极管激光器配置以及安装二极管激光器配置之方法
公开(公告)号：TW202019038A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108121820
申请日：2019-06-21
申请人：美商創浦光子學股份有限公司 , TRUMPF PHOTONICS, INC.
发明人：史崔梅爾史蒂芬 , STROHMAIER, STEFAN , 米瑟納珊克雅恩海克 , MEISSNER-SCHENK, ARNE-HEIKE , 厄本傑拉德 , URBAN, GERALD , 韓森杰德 , HANSEN, GERD , 卡斯坦克里斯汀 , CARSTENS, CHRISTIAN
IPC分类号： H01S5/024
摘要：本發明係有關於一種二極體雷射器配置(1)，包含二極體雷射裝置(3)、第一冷卻元件(5)、第二冷卻元件(9)以及至少一間隔裝置(13，13.1，13.2)，該第一冷卻元件具有第一外表面(7)，該第二冷卻元件具有第二外表面(11)，其中該二極體雷射裝置(3)與該至少一間隔裝置(13，13.1，13.2)係以相互間隔一定距離的方式在該第一冷卻元件(5)與該第二冷卻元件(9)之間分別佈置在第一外表面(7)上與第二外表面(11)上，其中第一冷卻元件(5)與第二冷卻元件(9)皆被構建為用於冷卻二極體雷射裝置(3)。其中，該二極體雷射裝置(3)具有第一二極體基面(15)以及第二二極體基面(17)，其中二極體雷射裝置(3)藉由該第一二極體基面(15)在第一外表面(7)之第一前區(23)內佈置在此外表面上，以及/或者藉由該第二二極體基面(17)在第二外表面(11)之第二前區(25)內佈置在此外表面上，且其中該至少一間隔裝置(13，13.1，13.2)被構建為用於如此調節第一冷卻元件(5)與第二冷卻元件(9)之相對彼此的位置，使得第一外表面(7)在第一前區(23)內平行於第一二極體基面(15)佈置，以及/或者使得第二外表面(11)在第二前區(25)內平行於第二二極體基面(17)佈置。
简体摘要：本发明系有关于一种二极管激光器配置(1)，包含二极管激光设备(3)、第一冷却组件(5)、第二冷却组件(9)以及至少一间隔设备(13，13.1，13.2)，该第一冷却组件具有第一外表面(7)，该第二冷却组件具有第二外表面(11)，其中该二极管激光设备(3)与该至少一间隔设备(13，13.1，13.2)系以相互间隔一定距离的方式在该第一冷却组件(5)与该第二冷却组件(9)之间分别布置在第一外表面(7)上与第二外表面(11)上，其中第一冷却组件(5)与第二冷却组件(9)皆被构建为用于冷却二极管激光设备(3)。其中，该二极管激光设备(3)具有第一二极管基面(15)以及第二二极管基面(17)，其中二极管激光设备(3)借由该第一二极管基面(15)在第一外表面(7)之第一前区(23)内布置在此外表面上，以及/或者借由该第二二极管基面(17)在第二外表面(11)之第二前区(25)内布置在此外表面上，且其中该至少一间隔设备(13，13.1，13.2)被构建为用于如此调节第一冷却组件(5)与第二冷却组件(9)之相对彼此的位置，使得第一外表面(7)在第一前区(23)内平行于第一二极管基面(15)布置，以及/或者使得第二外表面(11)在第二前区(25)内平行于第二二极管基面(17)布置。

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