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    • 3. 发明授权
    • 실리콘막의 결정화 방법
    • 실리콘막의결정화방법
    • KR100379361B1
    • 2003-04-07
    • KR1020010029913
    • 2001-05-30
    • 엘지디스플레이 주식회사
    • 정윤호
    • H01L21/268
    • H01L21/0268C30B1/023C30B13/22C30B13/32C30B29/06H01L21/02532H01L21/02595H01L21/2026
    • 본 발명은 순차측면고상화(SLS) 방법에 의해 실리콘막을 결정화하는 방법에 관한 것이다.
      종래의 순차측면고상화(SLS) 방법에 의해 형성된 다결정 실리콘막은 그레인의 크기가 방향에 따라서 크게 다르기 때문에, 이러한 다결정 실리콘을 이용하여 박막 트랜지스터에 적용할 경우 박막 트랜지스터의 특성 또한 그레인의 성장 방향에 따라 크게 달라진다.
      본 발명에서는 제 1 및 제 2 방향으로 배열되고 서로 엇갈리는 스트라이프 패턴을 각각 가지는 네 영역으로 이루어진 마스크를 이용하여, 비정질 실리콘막이 형성된 기판을 마스크 폭의 1/4 만큼 이동시키며 레이저빔을 조사함으로써, 정사각형 형태의 일정한 크기를 가지는 그레인을 형성할 수 있다. 따라서, 이러한 방법으로 형성된 다결정 실리콘막을 이용하여, 전계효과 이동도가 높으며 균일한 특성을 가지는 박막 트랜지스터를 만들 수 있다.
    • 顺序横向固化掩模,其具有第一区域和第二区域,所述第一区域具有被多个第一狭缝分开的多个第一条带。 该掩模还包括具有由多个第二狭缝分开的多个第二条纹的第二区域。 第二条纹垂直于第一条纹。 第三区域具有由多个第三狭缝分开的多个第三条纹,第三条纹相对于第一条纹横向排列。 第四区域具有多个第四条纹和多个第四条纹之间的第四狭缝,第四条纹相对于第二条纹横向排列。 通过掩模的多次运动和多次重叠照射使用掩模进行顺序横向凝固。