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1. 发明授权

KR101267425B1 라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法
公开(公告)号：KR101267425B1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：KR1020077028901
申请日：2006-05-25
申请人： 사이머 엘엘씨 , 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 다스팔라시피. , 호프만토마스 , 샌드스트롬리차드엘. , 보우키오토 , 스텀프에른스트 , 매츠코비츠베르톨트 , 호엘미카엘 , 발터요르그 , 브레너쿠르트 , 그루프귄터
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/083 , B23K37/0408 , B23K37/047 , B23K2201/18 , B23K2201/38 , B23K2203/56 , C30B13/22 , C30B29/06 , G01B21/00 , G03F7/70383 , G03F7/70583 , H01L27/1296
摘要： 포커싱된빔이단축및 장축을형성하고있는기판상에증착된필름과익터액션하기위해빔을포커싱하는시스템및 방법이개시된다. 한형태에서, 본시스템은빔이필름에서단축에포커싱되었는지판정하기위해이미지평면상의필름으로부터반사된빛을분석하기위한검출시스템을포함할수 있다. 또다른형태에서, 성형라인빔과인터액션하기위해 (불완전하고, 평평하지않은표면을가진) 필름을포지셔닝하기위한시스템이제공된다.

2. 发明公开

KR1020080021653A 라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法
公开(公告)号：KR1020080021653A
公开(公告)日：2008-03-07
申请号：KR1020077028901
申请日：2006-05-25
申请人： 사이머 엘엘씨 , 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 다스팔라시피. , 호프만토마스 , 샌드스트롬리차드엘. , 보우키오토 , 스텀프에른스트 , 매츠코비츠베르톨트 , 호엘미카엘 , 발터요르그 , 브레너쿠르트 , 그루프귄터
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/083 , B23K37/0408 , B23K37/047 , B23K2201/18 , B23K2201/38 , B23K2203/56 , C30B13/22 , C30B29/06 , G01B21/00 , G03F7/70383 , G03F7/70583 , H01L27/1296
摘要： Systems and methods are disclosed for focusing a beam for an interaction with a film deposited on a substrate wherein the focused beam defines a short axis and a long axis. In one aspect, the system may include a detecting system to analyze light reflected from the film on an image plane to determine whether the beam is focused in the short axis at the film. In still another aspect, a system may be provided for positioning a film (having an imperfect, non-planar surface) for interaction with a shaped line beam. ® KIPO & WIPO 2008
摘要翻译：公开的系统和方法用于聚焦用于与沉积在基板上的膜相互作用的光束，其中聚焦光束限定短轴和长轴。在一个方面，系统可以包括检测系统，以分析在图像平面上从胶片反射的光，以确定光束是否在胶片的短轴中聚焦。在另一方面，可以提供一种用于定位用于与成形线束相互作用的胶片（具有不完美的非平面表面）的系统。 ®KIPO＆WIPO 2008

3. 发明公开

KR1020080113130A 선택적 작동 기계 부품의 위치 정밀 트리거링 방법 및 장치 无效
标题翻译：一种可选激活机器零件位置精确触发的方法和装置
公开(公告)号：KR1020080113130A
公开(公告)日：2008-12-26
申请号：KR1020087028960
申请日：2007-03-30
申请人： 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 쇼에르그프리드리히 , 스텀프에른스트 , 그루프구엔테르 , 러크오토
IPC分类号： G05B19/23
CPC分类号： G05B19/23 , G05B2219/37175 , G05B2219/45165
摘要： Disclosed is a method for the positionally accurate triggering of an optionally activated machine part (12) which is displaced relative to a workpiece (22) along at least one axis of movement (18). According to said method, local pulses (32) are generated with the aid of an incremental encoder (28), the number of local pulses (32) of a series (30) of local pulses being representative of the adjusted position of the machine part (12). The triggering signal (54) for the machine part (12) is generated when the actual number of local pulses matches a defined number of pulses. Preferably, the current number of local pulses and the defined number of pulses are compared independently of a higher-level drive control circuit (38, 46). Most preferably, the current number of local pulses and the defined number of pulses are compared in a comparator which is arranged on an interface card (48) of an arithmetic unit (36), the drive control circuit with a controller being embodied in the form of a controller program (46) that is cyclically processed by the processor (38) of the arithmetic unit (36). ® KIPO & WIPO 2009
摘要翻译：公开了一种用于位置精确地触发可选地激活的机器部件（12）的方法，该部件沿着至少一个运动轴线（18）相对于工件（22）移位。根据所述方法，借助于增量编码器（28）产生局部脉冲（32），一系列（30）局部脉冲的局部脉冲数（32）代表机器部分的调整位置（12）。当实际的本地脉冲数与定义的脉冲数匹配时，产生用于机器部分（12）的触发信号（54）。优选地，与较高级驱动控制电路（38,46）独立地比较当前数量的本地脉冲和限定数量的脉冲。最优选地，在布置在运算单元（36）的接口卡（48）上的比较器中比较当前数量的本地脉冲和定义的脉冲数，所述驱动控制电路具有控制器的形式控制器程序（46）由运算单元（36）的处理器（38）循环地处理。 ®KIPO＆WIPO 2009

4. 发明公开

KR1020080038392A 가공 장치의 부품을 가공 대상물의 표면 위에서 소정 이동경로를 따라 안내하는 방법 및 장치 无效
标题翻译：用于指导工作表面上定义的运动路径的机器部分的方法和装置
公开(公告)号：KR1020080038392A
公开(公告)日：2008-05-06
申请号：KR1020087005445
申请日：2006-07-20
申请人： 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 그루프귄터 , 슈툼프에른스트 , 보욱키오토 , 발터외르그
IPC分类号： B23Q35/128 , B23K26/042 , B23K26/08
CPC分类号： B23K37/0229 , B23K26/04 , B23Q35/128 , G05B2219/36199 , G05B2219/4719
摘要： A machine part (12) is guided along a defined motion path (28) over a workpiece surface (23). In the process, the machine part (12) is held at a defined distance (50) from the workpiece surface (23). Provided for this purpose is a distance sensor (14) which runs ahead of the machine part (12) with a defined advance (18). A multiplicity of distance values between the distance sensor (14) and the workpiece surface (23) are determined. A multiplicity of control values for setting the defined distance (50) are determined as a function of the distance values. The defined distance (50) is repeatedly set by means of the control values. According to one aspect of the invention, the distance values along the motion path (28) are determined with a first grid element spacing (46). The control values are determined along the motion path (28) with a second grid element spacing (44). The first and the second grid element spacing (46, 44) are different.
摘要翻译：机器部件（12）沿着限定的运动路径（28）被引导到工件表面（23）上方。在该过程中，机器部件（12）被保持在与工件表面（23）限定的距离（50）处。为此目的是提供一种距离传感器（14），该距离传感器（14）具有限定的前进（18）在机器部分（12）的前面延伸。确定距离传感器（14）和工件表面（23）之间的多个距离值。用于设定所定义的距离（50）的多个控制值被确定为距离值的函数。通过控制值重复设定定义的距离（50）。根据本发明的一个方面，沿着运动路径（28）的距离值由第一网格元素间隔（46）确定。沿着运动路径（28）以第二格栅元素间距（44）确定控制值。第一和第二栅格元素间隔（46,44）不同。

5. 发明授权

KR102239657B1 나사산의 게이지리스 측정 방법, 시스템 및 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램 有权
公开(公告)号：KR102239657B1
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：KR1020180136448
申请日：2018-11-08
申请人： 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 그림토마스 , 헤르만-케슬러클라우스-디터
IPC分类号： G01B5/20 , G01B5/00 , G06F15/02
摘要： 본개시내용은측정대상물(52, 100), 특히볼 스크류스핀들상의나사산(102)의게이지리스측정을위한방법에관한것으로, 상기방법은, 나사산홈(106)의반복적인또는연속적인프로빙을포함하는제1 나사산부분(110)에서부분적인이동편차를검출하는단계, 상기나사산홈(106)의반복적인또는연속적인프로빙을포함하는적어도하나의제2 나사산부분(112, 114)에서의부분적인이동편차를검출하는단계, 및상기검출된부분적인이동편차에기초하여총 이동편차를결정하는단계를가지며, 상기나사산부분(110, 112, 114)에서의부분적인이동편차는로컬좌표기준(120, 122, 124)에대해각각검출되고, 상기좌표기준(120, 122, 124)은상기나사산부분들(110, 112, 114) 사이에서시프트된다. 본개시내용은또한대응하는측정시스템, 그리고이러한종류의측정시스템및 대응하는컴퓨터프로그램의사용에관한것이다.

6. 发明授权

KR102220803B1 피사체 방사선 촬영 장치 및 피사체 방사선 촬영 장치의 상태를 결정하는 방법 有权
公开(公告)号：KR102220803B1
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：KR1020190008071
申请日：2019-01-22
申请人： 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 에를러마르코
IPC分类号： A61B6/00 , A61B6/08
摘要： 본발명은피사체방사선촬영장치(10)에관한것으로, 피사체방사선촬영장치(10)는피사체를방사선촬영하기위한전자기방사선을생성및 방출하도록구성된방사선소스(12)를포함하고, 피사체를적어도부분적으로통과하는방출된전자기방사선이상기검출기디바이스에적어도비례적으로충돌하는방식으로배열되어피사체의방사선사진을생성하도록구성된검출기디바이스(16)를포함한다. 검출기디바이스(10)뿐아니라, 방사선소스(12)에할당된방사선특성변수를결정하도록구성된센서배열(20)이존재한다. 평가유닛(26)은검출된방사선사진의품질파라미터를결정또는수신하고, 방사선특성변수를평가하고, 품질파라미터및 방사선특성변수에기반하여검출기디바이스및/또는방사선소스의상태에대해설명하도록구성된다.

7. 发明公开

KR1020090052329A 평면형 테이블 표면을 정렬하기 위한 방법 및 디바이스 无效
标题翻译：用于对准平面表面的方法和装置
公开(公告)号：KR1020090052329A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020097003667
申请日：2007-08-01
申请人： 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 호엘미카엘
IPC分类号： G01B11/02 , G01B11/06 , G06F11/00
CPC分类号： G01B11/272
摘要： 본 발명은 기준선(46)에 대해 평면형 테이블 표면(14)을 정렬하기 위한 디바이스 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 디바이스는 테이블 표면(14)에 접속되어 있는 제1 위치 센서(28)를 포함한다. 제1 위치 센서(28)는 기준선(46)에 대한 제1 테이블 높이를 결정하는 데 사용된다. 제1 위치 센서(28)는 이어서 제2 위치 센서(40)에 수직으로 위치되고, 제2 위치 센서(40)는 제1 위치 센서(28)에 대한 기준 높이를 결정하는 데 사용된다. 테이블 표면(14)은 이어서 제1 이동 방향(20)을 따라 변위되어 제2 위치 센서(40)를 사용하여 복수의 제2 테이블 높이를 결정한다. 측정 평면은 제2 테이블 높이에 기초하여 결정되고, 테이블 표면(14)은 측정 평면에 평행하게 정렬된다.
평면형 테이블 표면, 기준선, 제1 위치 센서, 제2 위치 센서, 측정 평면

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