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31. 发明公开

KR20180005623A 미리 설정된 처리 경로를 따라 레이저 빔의 이동 축들의 높은 동적 제어를 가지는 금속 재료의 레이저 처리 방법 및 상기 방법의 구현을 위한 기계 장치 및 컴퓨터 프로그램 审中-公开
标题翻译：激光束的运动轴高度动态控制金属材料的激光加工方法，该激光束沿着预定的加工路径以及用于实施所述方法的计算机程序
公开(公告)号：KR20180005623A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：KR20170085913
申请日：2017-07-06
IPC分类号： B23K26/062 , B23K26/042 , B23K26/14 , B23K26/21 , B23K26/38
CPC分类号： B23K26/1438 , B23K26/0626 , B23K26/0643 , B23K26/073 , B23K26/14 , B23K26/21 , B23K26/38 , B23K26/382 , G02B26/0858
摘要： 재료의적어도하나의작업평면상에서미리설정된횡력분포(transverse power distribution)를가지는포커싱된레이저빔(focused laser beam)에의해금속재료를레이저처리하는방법이서술되고, 상기방법은레이저빔 방출소스를제공하는단계, 상기레이저빔을, 빔수송광로(beam transport optical path)를따라상기재료에인접하여배치된작업헤드(working head)로유도하는단계, 상기금속재료에입사하는전파의광축(optical axis of propagation)을따라상기레이저빔을콜리메이팅(collimating)하는단계, 상기금속재료의작업평면의영역에상기콜리메이팅된레이저빔을포커싱하는단계및 일련의작업영역을포함하는상기금속재료상의작업경로를따라상기포커싱된레이저빔을전도하는단계를포함한다. 상기레이저빔은복수의독립적으로움직일수 있는반사영역을가지는변형가능하고, 제어되는표면반사요소에의해콜리메이팅된빔을반사하여성형되고, 상기금속재료의상기작업경로의현재경로및/또는현재작업평면의영역의함수로써상기금속재료의적어도하나의작업평면상에상기빔의미리설정된횡력분포를이루기위해상기반사영역의배치를제어하여성형된다.
摘要翻译：借助于在材料（WP）的至少一个工作平面上具有预定横向功率分布的聚焦激光束（B）来描述金属材料（WP）的激光加工方法，该方法包括以下步骤：提供激光束发射源（10），沿着光束传输光路将激光束（B）引导到布置在材料（WP）附近的工作头（14），沿着光轴（B）准直激光束（B）（WP）上的传播，将准直激光束（B）聚焦在材料（WP）的工作平面的区域中，并且沿金属材料（WP）上的工作路径传导所述聚焦激光束（B））包括一系列工作区域，其中激光束（B）通过借助于具有多个独立可移动反射区域的可变形受控表面反射元件反射准直光束（B）并且通过控制反射区域建立在金属材料（WP）的至少一个工作平面上的梁（WP）的预定横向功率分布，作为当前工作平面的面积和/或金属上的工作路径的电流方向的函数材料（WP）。

32. 发明公开

KR1020170102317A 식각-정지 물질 손상을 최소화하기 위한 가변 에너지 빔을 포함하는 레이저 어블레이션 시스템 审中-实审
标题翻译：一种激光消融系统，包括用于使蚀刻停止材料损伤最小化的可变能量束
公开(公告)号：KR1020170102317A
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：KR1020177021379
申请日：2015-12-21
申请人： 서스 마이크로텍 포토닉 시스템즈 인코포레이티드 , 인터내셔날 비즈니스 머신 코포레이션
发明人： 어윈브라이언엠. , 레인스트라바우베더블유. , 폴로모프니콜라스에이. , 시츠코트니티. , 수터매슈이. , 테슬러크리스토퍼엘.
IPC分类号： B23K26/361 , B23K26/362 , B23K26/40 , B23K26/0622 , B23K26/06 , B23K26/066
CPC分类号： B23K26/0626 , B23K26/0622 , B23K26/066 , B23K26/361 , B23K26/362 , B23K26/40
摘要： 어블레이션시스템은가공물의적어도하나의매립된특징부상에형성된에너지-감응물질을제거하기위하여에너지빔을생성하도록구성된어블레이션수단을포함한다. 상기어블레이션수단은상기에너지-감응층의제1부분을제거하기위하여초기유량(fluence) 및초기펄스반복주파수(pulse rate)를선택한다. 상기어블레이션수단은또한상기매립된특징부가손상되거나변형되지않으면서노출되도록상기에너지-감응층의제2나머지부분을제거하기위하여에너지빔의상기초기유량및 초기펄스반복주파수중 적어도하나를감소시킨다.
摘要翻译：消融系统包括消融装置，消融装置被配置成产生能量束以去除在工件的至少一个嵌入特征上形成的能量敏感材料。消融装置选择初始脉冲和初始脉冲重复频率以去除能量敏感层的第一部分。消融装置也是能量来加入如果不是损坏或变形的暴露掩埋特征 - 减少初始流速中的至少一个和所述能量束的起始脉冲重复频率，以除去敏感层的第二其余。

33. 发明公开

KR1020170082974A SiC 웨이퍼의 생성 방법 审中-实审
标题翻译：如何制作SiC晶圆
公开(公告)号：KR1020170082974A
公开(公告)日：2017-07-17
申请号：KR1020160179292
申请日：2016-12-26
申请人： 가부시기가이샤 디스코
发明人： 히라타가즈야 , 모리시게유키오
IPC分类号： H01L21/78 , H01L21/02 , H01L21/268 , H01L21/76
CPC分类号： B23K26/0057 , B23K26/0006 , B23K26/032 , B23K26/0622 , B23K26/0626 , B23K26/0648 , B23K26/0823 , B23K26/0853 , B23K26/0876 , B23K26/53 , B23K37/0235 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , B28D5/0011
摘要： 본발명은 SiC 잉곳으로부터효율적으로 SiC 웨이퍼를생성할수 있는 SiC 웨이퍼의생성방법을제공하는것을목적으로한다. SiC 웨이퍼의생성방법으로서, SiC 잉곳에대해투과성을갖는파장의레이저빔의집광점을 SiC 잉곳의단부면으로부터생성될웨이퍼의두께에상당하는깊이에위치시키고, 상기집광점과상기 SiC 잉곳을상대적으로이동시켜레이저빔을상기단부면에조사하여, 상기단부면에평행한개질층및 상기개질층으로부터신장되는크랙을형성하여분리기점으로하는분리기점형성단계와, 상기분리기점형성단계를실시한후, 상기분리기점으로부터웨이퍼의두께에상당하는판형물을상기 SiC 잉곳으로부터박리하여 SiC 웨이퍼를생성하는웨이퍼박리단계를구비하고, 상기분리기점형성단계에있어서, 집광점을형성하는집광렌즈의개구수를 0.45∼0.9로설정하고, 레이저빔의 M팩터를실질적으로 5∼50으로설정하여집광점의직경을φ15 ㎛∼φ150 ㎛로설정한다.
摘要翻译：本发明的目的在于提供一种能够从SiC晶锭高效地制造SiC晶片的SiC晶片的制造方法。作为SiC晶片的生成方法中，通过将激光束的聚光点与具有相对于对应于所述晶片的厚度的深度的光传输性能，以SiC晶锭的波长以从SiC晶锭的端面，相对于所述聚光点和所述SiC晶锭中产生通过将激光束照射到端面上，形成平行于端面的改性层和从改性层延伸的裂缝以形成分裂基准点，，在起始形成具有对应于从分离开始点处的晶片和生成的SiC晶片的晶片分离步骤的厚度的水和从SiC晶锭取出分离板，聚光透镜的数值孔径，以形成一个聚光点设定为0.45〜0.9，激光的M因子为5〜50左右，聚光点的直径为15〜150μm。

34. 发明公开

KR1020170038146A 레이저 가공 장치 审中-实审
标题翻译：激光加工设备
公开(公告)号：KR1020170038146A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：KR1020160113320
申请日：2016-09-02
申请人： 가부시기가이샤 디스코
发明人： 다나카고헤이 , 만나미히데토시 , 후지사와히사토시 , 노무라히로시 , 오노에와카나 , 사와베다이키
IPC分类号： H01L21/78 , H01L21/268 , H01L21/76 , H01L21/683 , H01L21/677 , H01L21/687
CPC分类号： B23K26/38 , B23K26/0006 , B23K26/0087 , B23K26/0626 , B23K26/064 , B23K26/0673 , B23K26/0853 , B23K26/359 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , B32B15/011 , H01L21/67115 , H01L21/6719 , H01L21/67346 , H01L21/6773 , H01L21/67772 , H01L21/67778 , H01L21/68 , H01L21/68707 , H01L21/68714 , H01L21/78
摘要： 레이저가공장치를적어도구성하는레이저광선의레이저발진기로서, 출력이큰 레이저발진기를채용한경우여도, 그능력을충분히살릴수 있는레이저가공장치를제공한다. 레이저가공장치로서, 피가공물을유지하는제 1 척테이블을 X 축, Y 축방향으로가공이송하는제 1 X 축이송수단, 제 1 Y 축이송수단과, 피가공물에레이저광선을집광하는제 1 집광기를포함하는제 1 레이저기구와, 피가공물을유지하는제 2 척테이블을 X 축방향, Y 축방향으로가공이송하는제 2 X 축이송수단과, 제 2 Y 축이송수단과, 피가공물에레이저광선을집광하는제 2 집광기를포함하는제 2 레이저기구와, 레이저발진기가발진한레이저광선을그 제 1 집광기와그 제 2 집광기로분기하는광학계와, 그제 1, 제 2 레이저기구에대해각각가공조건을설정하는제 1 조작패널, 제 2 조작패널을포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种激光加工装置，即使在使用输出大的激光振荡器的情况下，也能够充分利用至少形成激光加工装置的激光的激光振荡器。 1。一种激光加工设备，包括：第一X轴传送装置，用于传送保持工件在X轴和Y轴方向上的第一卡盘工作台;第一Y轴传送装置; 第一激光机构，包括聚光器，第二X轴传递装置，用于传递用于在X轴方向和Y轴方向上保持工件的第二卡盘台，第二Y轴传递装置，第二激光装置，包括用于会聚激光束的第二聚光器;用于将激光振荡器摆动器激光束分成第一聚光器和第二聚光器的光学系统; 用于设定条件的第一操作面板和第二操作面板。

35. 发明公开

KR1020160102489A 첨가식 제조 장치 및 이를 작동시키기 위한 방법 审中-实审
标题翻译：添加剂制造装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020160102489A
公开(公告)日：2016-08-30
申请号：KR1020167019734
申请日：2014-12-18
申请人： 페츠, 도미니크
发明人： 페츠,도미니크
IPC分类号： B29C67/00 , B22F3/00 , G03G15/22 , B33Y10/00 , B33Y30/00
CPC分类号： B23K26/342 , B22F3/008 , B22F2999/00 , B23K26/03 , B23K26/0626 , B23K26/144 , B29C64/106 , B29C64/141 , B29C64/153 , B29C64/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , G03G15/224 , Y02P10/29 , B22F3/004 , B22F2202/06
摘要： 본발명은, 각층에대해미리정해진그리드(49)에따라그리드위치(44)의제조위치에서위치에따라선택적으로재료(21)를공급하도록구성된적어도한 개의헤드(3,4) 및기저부를가지며삼차원물체를층을이루며첨가식으로제조하기위한신속시제품제조장치(1)에관한것이다. 본발명에따라복수개의재료들을처리할수 있고삼차원공작물을층을이루며신속하고정확하게형성하는시제품장치를형성하기위해상기헤드(3)의융합기유닛(24)는각각의그리드위치(44)에위치한재료(21)를위치에따라선택적으로상기그리드위치에융합시키도록구성된다.

36. 发明公开

KR1020160086791A 음향광변조기를 이용하여 미세 홈 또는 구멍을 가공하기 위한 레이저 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：激光器件和使用声学光学调制器形成微孔和孔的方法
公开(公告)号：KR1020160086791A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：KR1020160086546
申请日：2016-07-08
申请人： 주식회사 소재의맥 , (주)티엔에프 , 울산과학기술원
发明人： 김재환 , 정택용 , 김경훈 , 강용구 , 이활종 , 배성철
IPC分类号： B23K26/382 , B23K26/0622 , B23K26/067 , B23K26/06 , B23K26/08
CPC分类号： B23K26/382 , B23K26/0622 , B23K26/0626 , B23K26/0648 , B23K26/067 , B23K26/083
摘要： 본발명은음향광변조기를이용하여미세홈 또는구멍을가공하기위한레이저장치및 방법에관한것으로, 펄스레이저를조사하여대상물에미세홈 또는구멍을가공하는레이저장치에있어서, 레이저를발생시키는광원을구비하는광원부;와광원에서방출된레이저가통과하도록순차적으로다수배치된다수의음향광변조기를구비하는가공부;를포함하고, 여기서가공부는각각의음향광변조기를통과하는레이저로부터시간단위로펄스레이저를추출한후 조사하여대상물에미세홈 또는구멍을가공하도록된 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种激光装置及使用声光调制器形成微槽和孔的方法，更具体地涉及用于通过辐射脉冲激光器在物体中形成微凹槽和孔的激光装置其包括：具有产生激光的光源的光源单元; 以及具有多个声光调制器的形成单元，其被布置为使得从光源照射的激光通过。成形单元从通过每个声光调制器的激光以时间单位提取和辐射脉冲激光，然后在物体中形成微凹槽和孔。

37. 发明授权

KR101597369B1 반도체 웨이퍼의 레이저 가공 방법 有权
标题翻译：半导体波长激光加工方法
公开(公告)号：KR101597369B1
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：KR1020100032260
申请日：2010-04-08
申请人： 가부시기가이샤 디스코
发明人： 모리카즈히로시 , 다케다노보루 , 마츠모토히로카즈
IPC分类号： H01L21/78 , H01L21/301
CPC分类号： H01L21/78 , B23K26/0006 , B23K26/0626 , B23K26/40 , B23K2203/50 , B23K2203/56 , H01L21/67132 , H01L21/67144 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2221/68336
摘要： 본발명은항절강도가높은디바이스를얻을수 있는반도체웨이퍼의레이저가공방법을제공하는것을목적으로한다. 반도체웨이퍼의레이저가공방법으로서, 반도체웨이퍼의분할예정라인을따라반도체웨이퍼에대하여흡수성을갖는파장의펄스레이저빔을조사하여반도체웨이퍼에레이저가공홈을형성하는가공홈 형성공정을포함하고, 이가공홈 형성공정에서조사되는펄스레이저빔의펄스폭이 2 ㎱이하이며, 피크에너지밀도가 5 GW/㎠∼200 GW/㎠인것을특징으로한다.

38. 发明公开

KR1020160012179A 코팅이 제공된 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：生产涂层的基材的方法
公开(公告)号：KR1020160012179A
公开(公告)日：2016-02-02
申请号：KR1020157036030
申请日：2014-05-21
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 나도니콜라 , 미뭉엠마뉘엘 , 뒤보스브리스
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/08 , B23K26/06 , B23K26/073
CPC分类号： C22F1/183 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0604 , B23K26/0624 , B23K26/0626 , B23K26/064 , B23K26/0738 , B23K26/08 , B23K26/352 , B23K2203/50 , C03C17/09 , C03C2217/258 , C03C2218/328 , C21D1/34 , C21D9/0068
摘要： 본발명은기판상에침착된연속적코팅의레이저방사선에의한열 처리단계를포함하는, 코팅의적어도하나의특성의공간적변조를갖는패턴을포함하는코팅이제공된기판의제조방법에관한것이다. 열처리단계는기판을적어도하나의레이저선 형태로코팅상에집속되는레이저방사선으로, 연속적코팅을유지하게및 코팅이용융되지않게조사하고, 레이저선의종방향 (Y)을가로지르는방향 (X)으로기판및 코팅상에집속되는레이저선의상대이동을일으키고, 상기상대이동동안에레이저선의출력 (P)을상대이동속도 (v), 및상대이동방향 (X)에서의패턴의치수에따라서시간적으로변조하는것이다.
摘要翻译：一种用于获得具有涂层的基底的方法，其中所述涂层包括具有所述涂层的至少一个性质的空间调制的图案，包括使用激光辐射对沉积在所述基底上的连续涂层进行热处理。热处理使得基板被以至少一条激光线形式聚焦在涂层上的激光辐射照射，保持涂层连续且不熔化涂层，并且基板和激光器的相对位移在横向于激光线的纵向的方向上施加聚焦在涂层上的线，同时在该相对位移期间临时调制激光线的功率作为相对位移速度和图案尺寸的函数相对位移的方向。

39. 发明公开

KR1020150141140A 에칭 처리 방법 및 베벨 에칭 장치 审中-实审
标题翻译：蚀刻加工方法和水蚀蚀装置
公开(公告)号：KR1020150141140A
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：KR1020150077913
申请日：2015-06-02
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 곤도마사키
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/268 , H01L21/67 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/67253 , B23K26/0626 , B23K26/361 , B23K26/362 , H01L21/02087 , H01L21/6708 , H01L21/67115 , H01L22/00
摘要： 본발명은기판의베벨부에조사되기전의레이저광을모니터해, 레이저광의출력값의변동을검출하는것을목적으로한다. 레이저제너레이터와, 상기레이저제너레이터로부터출력된레이저광을계측하는파워미터를구비하고, 레이저광을조사하여기판을에칭하는베벨에칭장치를이용한에칭처리방법으로서, 레이저광을조사하여기판을에칭하기전에, 소정시간레이저광을파워미터에조사하는공정과, 상기파워미터에의해레이저광의출력값을계측하는공정과, 상기계측한레이저광의출력값이, 상기레이저제너레이터로부터출력되는레이저광의출력설정값에대해소정의임계값의범위내인지를판정하는공정을포함하는에칭처리방법이제공된다.
摘要翻译：本发明是通过在照射到基板的斜面单元之前监视激光束来检测激光束的输出值的变化。本发明提供一种使用斜面蚀刻装置的蚀刻处理方法，其具有激光发生器和用于测量从激光发生器输出的激光束的功率计，并通过向其照射激光来蚀刻基板。蚀刻处理方法包括以下处理：在通过用激光束照射基板来蚀刻基板之前，将激光束照射到功率计一段预定时间; 通过功率计测量激光束的输出值; 以及确定所测量的激光束的输出值是否在相对于从激光发生器输出的激光束的输出设定值的预定阈值的范围内。

40. 发明公开

KR1020150038595A 각막을 특성화하고 안과용 렌즈를 획득하기 위한 시스템 有权
标题翻译：用于表征角膜和获得眼底镜的系统
公开(公告)号：KR1020150038595A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020157005682
申请日：2010-03-04
申请人： 퍼펙트 아이피, 엘엘씨
发明人： 빌레요셉에프
IPC分类号： A61F2/16 , A61B3/10 , A61B5/00
CPC分类号： A61B3/1005 , A61B3/0008 , A61B3/0025 , A61B3/10 , A61B3/14 , A61B5/0062 , A61B5/0071 , A61B5/0075 , A61B5/0086 , A61B2576/02 , A61F2/145 , A61F2/16 , A61F2240/002 , B23K26/0626 , B23K26/36 , B23K26/361 , B29D11/00038 , B29D11/023 , B29K2105/255 , B29K2995/0097 , G02C7/02 , G02C2202/14
摘要： 눈의각막의형상을결정하기위한시스템으로서, 조사된각막부분으로부터형광성빛을생성할수 있는파장의적외선광으로눈의전방표면, 후방표면및 내부영역중 하나이상이조사된다. 발생된형광성빛이탐지된다. 조사단계는눈의광학적축선에대해서실질적으로수직인복수의여러평면들에서적외선광을포커싱하는단계를포함한다. 탐지된광으로부터, 각막의내부표면의적어도일부, 후방표면의적어도일부, 및/또는내부영역의일부의맵을생성할수 있다. 망막의색소상피세포내의단백질로부터형광을생성함으로써, 시야의선명도가결정될수 있다.

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