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1. 发明申请

WO2016187579A1 MULTI-OSCILLATOR, CONTINUOUS CODY-LORENTZ MODEL OF OPTICAL DISPERSION 审中-公开
标题翻译：多重振荡器，光学分散的连续编码LORENTZ模型
公开(公告)号：WO2016187579A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/US2016/033613
申请日：2016-05-20
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： MALKOVA, Natalia , POSLAVSKY, Leonid
IPC分类号： G01N21/21 , H01L21/66 , G01N21/95 , G01N21/84
CPC分类号： G01R31/308 , G01N21/211 , G01N21/8422 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G01N2201/12 , G01R31/44 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要： Methods and systems for monitoring band structure characteristics and predicting electrical characteristics of a sample early in a semiconductor manufacturing process flow are presented herein. High throughput spectrometers generate spectral response data from semiconductor wafers. In one example, the measured optical dispersion is characterized by a Gaussian oscillator, continuous Cody-Lorentz model. The measurement results are used to monitor band structure characteristics, including band gap and defects such as charge trapping centers, exciton states, and phonon modes in high-K dielectric layers and embedded nanostructures. The Gaussian oscillator, continuous Cody-Lorentz model can be generalized to include any number of defect levels. In addition, the shapes of absorption defect peaks may be represented by Lorentz functions, Gaussian functions, or both. These models quickly and accurately represent experimental results in a physically meaningful manner. The model parameter values can be subsequently used to gain insight and control over a manufacturing process.
摘要翻译：本文介绍了在半导体制造工艺流程中早期监测样品结构特征和预测样品电特性的方法和系统。高通量光谱仪从半导体晶圆产生光谱响应数据。在一个示例中，测量的光学色散的特征在于高斯振荡器，连续的Cody-Lorentz模型。测量结果用于监测高K电介质层和嵌入式纳米结构中的带结构特征，包括带隙和缺陷，例如电荷俘获中心，激子态和声子模式。高斯振荡器，连续Cody-Lorentz模型可以推广到包括任何数量的缺陷水平。此外，吸收缺陷峰的形状可以由洛伦兹函数，高斯函数或两者表示。这些模型以物理上有意义的方式快速准确地表示实验结果。模型参数值可以随后用于获得对制造过程的洞察和控制。

2. 发明申请

WO2016133765A1 OPTICAL METROLOGY WITH REDUCED FOCUS ERROR SENSITIVITY 审中-公开
标题翻译：具有减少聚焦误差灵敏度的光学计量学
公开(公告)号：WO2016133765A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/US2016/017399
申请日：2016-02-10
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： KRISHNAN, Shankar , ZHUANG, Guorong Vera , WANG, David Y. , LIU, Xuefeng
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/255 , G01J3/0205 , G01J3/0208 , G01J3/18 , G01J3/2803 , G01J3/42 , G01J2003/425 , G01N21/211 , G01N21/55 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G01N2201/06113 , G01N2201/068
摘要： Methods and systems for performing broadband spectroscopic metrology with reduced sensitivity to focus errors are presented herein. Significant reductions in sensitivity to focus position error are achieved by imaging the measurement spot onto the detector such that the direction aligned with the plane of incidence on the wafer surface is oriented perpendicular to the direction of wavelength dispersion on the detector surface. This reduction in focus error sensitivity enables reduced focus accuracy and repeatability requirements, faster focus times, and reduced sensitivity to wavelength errors without compromising measurement accuracy. In a further aspect, the dimension of illumination field projected on the wafer plane in the direction perpendicular to the plane of incidence is adjusted to optimize the resulting measurement accuracy and speed based on the nature of target under measurement.
摘要翻译：本文介绍了对聚焦误差灵敏度降低的宽带光谱测量方法和系统。通过将测量点成像到检测器上来实现对聚焦位置误差的敏感性的显着降低，使得与晶片表面上的入射平面对准的方向定向为垂直于检测器表面上的波长色散的方向。聚焦误差灵敏度的降低可以降低焦点精度和重复性要求，更快的聚焦时间，降低对波长误差的灵敏度，而不会影响测量精度。在另一方面，调整在垂直于入射平面的方向上投射在晶片平面上的照明场的尺寸，以根据测量目标的性质优化所得到的测量精度和速度。

3. 发明申请

WO2015099711A1 IN-SITU MONITORING OF FABRICATION OF INTEGRATED COMPUTATIONAL ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：综合计算元素制造的现场监测
公开(公告)号：WO2015099711A1
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：PCT/US2013/077690
申请日：2013-12-24
申请人： HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC.
发明人： PERKINS, David L. , FREESE, Robert Paul , JONES, Christopher Michael , GARDNER, Richard Neal
IPC分类号： G01N21/17 , G01N21/41 , G01B11/06
CPC分类号： G05B19/41875 , C23C14/30 , C23C14/547 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01N21/211 , G01N21/25 , G01N21/8422 , G01N2021/213 , G05B2219/32368 , H01J27/022 , H01J27/08 , H01J37/3488
摘要： Techniques include receiving a design of an integrated computational element (ICE), the ICE design including specification of a substrate and a plurality of layers, their respective target thicknesses and complex refractive indices, complex refractive indices of adjacent layers being different from each other, and a notional ICE fabricated in accordance with the ICE design being related to a characteristic of a sample; forming at least some of the plurality of layers of the ICE in accordance with the ICE design; performing at least two different types of in-situ measurements; predicting, using results of the at least two different types of in situ measurements, performance of the ICE relative to the ICE design; and adjusting the forming of the layers remaining to be formed, at least in part, by updating the ICE design based on the predicted performance.
摘要翻译：技术包括接收集成计算元件（ICE）的设计，ICE设计包括基板和多个层的规格，它们各自的目标厚度和复折射率，相邻层的复折射率彼此不同，以及根据ICE设计制造的名义ICE与样品的特性相关; 根据ICE设计形成ICE的多个层中的至少一些层; 执行至少两种不同类型的原位测量; 使用至少两种不同类型的原位测量的结果来预测ICE相对于ICE设计的性能; 并且至少部分地通过基于预测的性能更新ICE设计来调整形成剩余的层的形成。

4. 发明申请

WO2015084543A1 OPTICAL METROLOGY WITH MULTIPLE ANGLES OF INCIDENCE AND/OR AZIMUTH ANGLES 审中-公开
标题翻译：具有多个角度和/或AZIMUTH角度的光学方程
公开(公告)号：WO2015084543A1
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：PCT/US2014/064687
申请日：2014-11-07
申请人： NANOMETRICS INCORPORATED
发明人： LIU, Zhuan , LI, Shifang
IPC分类号： G01N21/21 , G01B11/245 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/26 , G01B11/245 , G01N21/21 , G01N21/211 , G01N2021/213 , G01N2021/214 , G01N2021/4711 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要： An optical metrology device simultaneously detects light with multiple angles of incidence (AOI) and/or multiple azimuth angles to determine at least one parameter of a sample. The metrology device focuses light on the sample using an optical system with a large numerical aperture, e.g., 0.2 to 0.9. Multiple channels having multiple AOIs and/or multiple azimuth angles are selected simultaneously by passing light reflected from the sample through a plurality of pupils in a pupil plate. Beamlets produced by the plurality of pupils are detected, e.g., with one or more spectrophotometers, to produce data for the multiple AOIs and/or multiple azimuth angles. The data for multiple AOI and/or multiple azimuth angles may then be processed to determine at least one parameter of the sample, such as profile parameters or overlay error.
摘要翻译：光学测量装置同时检测具有多个入射角（AOI）和/或多个方位角的光，以确定样品的至少一个参数。测量设备使用具有大数值孔径的光学系统（例如0.2至0.9）将光照射在样品上。通过使从样品反射的光通过瞳孔板中的多个瞳孔同时选择具有多个AOI和/或多个方位角的多个通道。通过一个或多个分光光度计来检测由多个瞳孔产生的束以产生多个AOI和/或多个方位角的数据。然后可以处理多个AOI和/或多个方位角的数据以确定样本的至少一个参数，诸如轮廓参数或覆盖误差。

5. 发明申请

WO2014197450A1 AUTOMATIC DETERMINATION OF FOURIER HARMONIC ORDER FOR COMPUTATION OF SPECTRAL INFORMATION FOR DIFFRACTION STRUCTURES 审中-公开
标题翻译：用于计算衍射结构的光谱信息的FOURIER HARMONIC ORDER的自动确定
公开(公告)号：WO2014197450A1
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：PCT/US2014/040644
申请日：2014-06-03
申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： BACKUES, Mark , AOYAGI, Paul , POSLAVSKY, Leonid
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , G01B11/16 , G01N21/25 , G06F17/00
CPC分类号： G01N21/4788 , G01B11/30 , G01B2210/56 , G01M11/025 , G01N21/211 , G01N21/956 , G01N2021/213 , G01N2021/214 , G03F7/70625 , G06F11/30 , G06F17/40 , G06F19/00 , H05K13/08
摘要： Automatic determination of Fourier harmonic order for computation of spectral information for diffraction structures described. An embodiment of a method includes automatically determining a Fourier harmonic order for computation of spectral information for periodic structures, wherein the determination of the Fourier harmonic order is based at least in part on the pitches in each of multiple directions of the periodic structures, material properties of the periodic structures, and characteristics of the periodic structures in which the materials are contained; and computing the spectral information for the periodic structures based at least in part on the determined Fourier harmonic order.
摘要翻译：自动确定用于计算衍射结构的光谱信息的傅里叶谐波次序。一种方法的实施例包括自动确定用于计算周期性结构的光谱信息的傅里叶谐波次序，其中，傅里叶谐波次序的确定至少部分地基于周期性结构的多个方向中的每一个的间距，材料特性的周期结构，以及包含材料的周期性结构的特征; 以及至少部分地基于所确定的傅里叶谐波顺序来计算所述周期性结构的频谱信息。

6. 发明申请

WO2013091404A1 包含参考光束的垂直入射宽带偏振光谱仪及光学测量系统审中-公开
公开(公告)号：WO2013091404A1
公开(公告)日：2013-06-27
申请号：PCT/CN2012/081071
申请日：2012-09-06
申请人：北京智朗芯光科技有限公司 , 李国光 , 刘涛 , 赵江艳 , 郭青杨 , 艾迪格·基尼欧 , 马铁中 , 夏洋
发明人：李国光 , 刘涛 , 赵江艳 , 郭青杨 , 艾迪格·基尼欧 , 马铁中 , 夏洋
IPC分类号： G01B11/06 , G02B27/14 , G02B27/40
CPC分类号： G01J3/447 , G01B11/02 , G01B2210/56 , G01J3/0208 , G01J3/0224 , G01J3/42 , G01N21/21 , G01N2021/213 , G02B27/14 , G02B27/40
摘要：一种包含参考光束的垂直入射宽带偏振光谱仪，包括光源（SO）、第一反射单元、第一聚光单元(OAP2）、第二聚光单元（L）、偏振器（P）、第一曲面反射镜（OAP1）、第一平面反射镜（M1）、第二反射单元和探测单元（SP）。一种光学测量系统，包括包含参考光束的垂直入射宽带偏振光谱仪。包含参考光束的垂直入射宽带偏振光谱仪实现了分光后的光束的完整结合，在提高光通效率的同时，还能保持光束的偏振状态，而且具有较低的复杂程度。

7. 发明申请

WO2012117601A1 炭素含有率取得装置および炭素含有率取得方法审中-公开
标题翻译：碳含量百分比收购设备和碳含量百分比收购方法
公开(公告)号：WO2012117601A1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/JP2011/072218
申请日：2011-09-28
申请人：大日本スクリーン製造株式会社 , 藤原裕之 , 山口真二 , 杉本克雄
发明人：藤原　裕之 , 山口　真二 , 杉本　克雄
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01N21/211 , G01N2021/213
摘要：　炭素含有率取得装置（１）では、所定のパラメータ群の値と、炭素含有率とを関連付ける参照情報が予め生成されて記憶される。ガラス基板９上に形成されたＳｉＣ膜に対して、分光エリプソメータ（３）にて測定を行うことにより測定スペクトルが取得され、コンピュータ（６）において当該測定スペクトルから当該パラメータ群の値が求められる。そして、パラメータ群の値および参照情報に基づいて、ＳｉＣ膜の炭素含有率の値が精度良く求められる。
摘要翻译：在该碳含量百分比采集装置（1）中，预先生成并存储与规定参数的值相关联的碳含量百分比的参照信息。通过分光椭偏仪（3）测量形成在玻璃基板（9）上的碳化硅膜，产生测量光谱，计算机（6）使用所述光谱获得上述参数的值。然后将所述参数值与参考信息一起使用，以高精度获得碳化硅膜中的碳的百分比。

8. 发明申请

WO2011043930A1 SCATTEROMETRY MEASUREMENT OF ASYMMETRIC STRUCTURES 审中-公开
标题翻译：不对称结构的散射测量
公开(公告)号：WO2011043930A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/US2010/049878
申请日：2010-09-22
申请人： NANOMETRICS INCORPORATED , RABELLO, Silvio, J. , MCGAHAN, William, A. , LI, Jie , LIU, Yongdong
发明人： RABELLO, Silvio, J. , MCGAHAN, William, A. , LI, Jie , LIU, Yongdong
IPC分类号： G01J4/00
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/24 , G01B2210/56 , G01N2021/213 , G01N2021/214 , G03F7/70633
摘要： Asymmetry metrology is performed using at least a portion of Mueller matrix elements, including, e.g., the off-diagonal elements of the Mueller matrix. The Mueller matrix may be generated using, e.g., a spectroscopic or angle resolved ellipsometer (100) that may include a rotating compensator (122). The Mueller matrix is analyzed by fitting at least a portion of the elements to Mueller matrix elements calculated using a rigorous electromagnetic model of the sample (101) or by fitting the off-diagonal elements to a calibrated linear response. The use of the Mueller matrix elements in the asymmetry measurement permits, e.g., overlay analysis using in-chip devices thereby avoiding the need for special off-chip targets.
摘要翻译：使用Mueller矩阵元素的至少一部分（包括例如Mueller矩阵的非对角线元素）来执行不对称度量。可以使用例如可以包括旋转补偿器（122）的分光镜或角度分辨椭圆仪（100）来生成Mueller矩阵。通过将至少一部分元素拟合到使用样品（101）的严格电磁模型计算的Mueller矩阵元素或通过将非对角元素拟合到校准的线性响应来分析Mueller矩阵。在不对称测量中使用Mueller矩阵元件允许例如使用片上器件的覆盖分析，从而避免了对特殊的片外目标的需要。

9. 发明申请

WO2011022745A1 OPTISCHE ANORDNUNG FÜR ELLIPSOMETRIE 审中-公开
标题翻译：光学安排椭偏仪
公开(公告)号：WO2011022745A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/AT2010/000306
申请日：2010-08-26
申请人： TECHNISCHE UNIVERSITÄT GRAZ , FORSCHUNGSHOLDING TU GRAZ GMBH , GILLI, Eduard , SCHENNACH, Robert , KORNSCHOBER, Martin
发明人： GILLI, Eduard , SCHENNACH, Robert , KORNSCHOBER, Martin
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01N21/211 , G01N2021/213
摘要： In einer optischen Anordnung (1) zum Messen spektroskopischer Eigenschaften einer an einer Probenposition (2) befindlichen Probe wird ein Lichtbündel über einen ersten Drehspiegel (7) und einen ersten bogenförmigen Hauptspiegel (8) auf die Probenposition in einem einstellbaren Einfallswinkel (φ) gelenkt, und das von der Probenposition reflektierte Licht wird über einen zweiten bogenförmigen Hauptspiegel (18) und einen zweiten Drehspiegel (17) einer Messung zugeführt. Erster und zweiter Hauptspiegel (8, 18) haben eine Spiegelfläche, die zumindest einem streifenförmigen Ausschnitt einer Rotationsfläche um die Hauptachse (4) entspricht und die von dem ersten Drehspiegel (7) in dessen verschiedenen einstellbaren Drehpositionen ausgehendes Licht auf die Probenposition wirft, wobei die Drehspiegel (7, 17) einander gegenüber auf der Hauptachse (4) angeordnet sind und beide gegenüber ihren Drehachsen um einen Winkel geneigt sind.
摘要翻译：在一个光学布置（1），用于测量的分光特性的样本位置（2）位于样品经由第一旋转镜（7）和第一圆弧状主镜的光束（8）被引导到样本位置以入射角（F）的可调节的角度，并从样本位置的光反射的光的第二弧形主镜（18）和第二旋转镜（17）被提供给测量。第一和第二主反射镜（8，18）具有对应于至少革命的绕主轴线的表面的带状部的反射镜表面（4）和在样品上的位置的出射光的其各种调节旋转位置，其中，所述从所述第一旋转镜（7）提出了旋转镜（7,17）布置在所述主轴线（4）彼此相对并且都以一定角度相对于它们的旋转轴倾斜。

10. 发明申请

WO2010049652A1 DEVICE AND METHOD FOR TAKING SPECTROSCOPIC POLARIMETRIC MEASUREMENTS IN THE VISIBLE AND NEAR-INFRARED RANGES 审中-公开
标题翻译：用于在可见和近红外范围内进行光谱极化测量的装置和方法
公开(公告)号：WO2010049652A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/FR2009052087
申请日：2009-10-28
申请人： HORIBA JOBIN YVON SAS , CENTRE NAT RECH SCIENT , ECOLE POLYTECH , CATTELAN DENIS , GARCIA-CAUREL ENRIC , DE MARTINO ANTONELLO , DREVILLON BERNARD
发明人： CATTELAN DENIS , GARCIA-CAUREL ENRIC , DE MARTINO ANTONELLO , DREVILLON BERNARD
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01N21/211 , G01N2021/213
摘要： The invention relates to a spectroscopic polarimetric system over a broad spectral range, including a light source capable of emitting an incident light beam on a wavelength range, a polarisation state generator (PSG), a polarisation state analyser (PSA) and a detector. The PSG and the PSA include means for modulating the polarisation of the light beam. According to the invention, the means for modulating the polarisation of the PSG are capable of generating a sequence of m polarisation states with m > 4 at each measurement wavelength, the means for modulating the polarisation of the PSA are capable of establishing a sequence of n polarisation states with n > 4 at each measurement wavelength, and the detection means are capable of acquiring a sequence of N measurements with 16
摘要翻译：本发明涉及在宽光谱范围内的光谱极化系统，包括能够发射波长范围上的入射光束的光源，偏振态发生器（PSG），偏振态分析器（PSA）和检测器。 PSG和PSA包括用于调制光束的偏振的装置。根据本发明，用于调制PSG的偏振的装置能够在每个测量波长产生m> 4的m个偏振状态的序列，用于调制PSA的偏振的装置能够建立n个序列在每个测量波长处具有n> 4的偏振状态，并且检测装置能够获得在每个波长处具有16

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