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1. 发明申请

WO2019048845A1 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A PRINTED MICROARRAY AND VERIFYING THE SAME 审中-公开
公开(公告)号：WO2019048845A1
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：PCT/GB2018/052506
申请日：2018-09-05
申请人： ARRAYJET LIMITED
发明人： MITCHELL, Benjamin , SALVATELLA SERRA, Joan , CHONG-KWAN, Marisa
IPC分类号： B01J19/00 , B41J29/393 , G01N21/956 , G06T7/00
CPC分类号： B01J19/0046 , B01J2219/00378 , B01J2219/00693 , B41J2/2142 , G01N21/8806 , G01N21/956
摘要： Method for manufacturing a microarray and verifying the quality of said microarray, wherein the method comprises: -providing at least one reagent, -loading said at least one reagent in a dispensing print head, in a predetermined arrangement, -moving the print head with respect to a substrate and dispensing said at least one reagent on the substrate, during a print pass, to obtain a microarray, -illuminating the substrate using illumination means and obtaining an image of the printed microarray on the substrate, using a camera, -processing the obtained image to verify the quality of the microarray, wherein the step of obtaining an image of the printed microarray comprises: -illuminating the substrate and obtaining an image of the microarray by means of illumination means and a camera which are connected to and move together with the print head with respect to the substrate, the illumination means and the camera being adapted to move behind the print head.

2. 发明申请

WO2018069052A1 METHOD OF INSPECTING A SUBSTRATE, METROLOGY APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC SYSTEM 审中-公开
标题翻译：检查基板，计量器具和光刻系统的方法
公开(公告)号：WO2018069052A1
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：PCT/EP2017/074618
申请日：2017-09-28
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： TUKKER, Teunis, Willem , SINGH, Amandev , VAN DER ZOUW, Gerbrand
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02 , G01N21/95 , G01N21/956
CPC分类号： G03F7/70633 , G01B9/02016 , G01B11/272 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G03F7/70625 , G03F7/70941
摘要： Metrology apparatus and methods are disclosed. In one arrangement, a substrate is inspected. A source beam of radiation (131) emitted by a radiation source (50) is split into a measurement beam (132) and a reference beam (133). A first target is illuminated with the measurement beam, the first target being on the substrate (W). A second target (90) is illuminated with the reference beam, the second target being separated from the substrate. First scattered radiation (134) is collected from the first target and delivered to a detector (80). Second scattered radiation (135) is collected from the second target and delivered to the detector. The first scattered radiation interferes with the second scattered radiation at the detector. The first target comprises a first pattern. The second target comprises a second pattern, or a pupil plane image of the second pattern. The first pattern is geometrically identical to the second pattern, the first pattern and the second pattern are periodic and a pitch of the first pattern is identical to a pitch of the second pattern, or both.
摘要翻译：公开了计量装置和方法。在一种布置中，检查衬底。由辐射源（50）发射的源辐射束（131）被分成测量束（132）和参考束（133）。测量光束照射第一个目标，第一个目标位于衬底（W）上。用参考光束照射第二目标（90），第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射（134）并传送到检测器（80）。从第二个目标收集第二散射辐射（135）并传送到检测器。第一散射辐射在检测器处干扰第二散射辐射。第一个目标包括第一个模式。第二目标包括第二图案或第二图案的瞳面图像。第一图案在几何上与第二图案相同，第一图案和第二图案是周期性的，并且第一图案的间距与第二图案的间距相同，或者两者都相同。

3. 发明申请

WO2018055663A1 撮像装置及び実装装置审中-公开
标题翻译：成像设备和安装设备
公开(公告)号：WO2018055663A1
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：PCT/JP2016/077647
申请日：2016-09-20
申请人：富士機械製造株式会社
发明人：大木　秀晃 , 大崎　聡士 , 深谷　芳行
IPC分类号： H05K13/08 , G06T1/00 , H05K13/04 , G01N21/956
CPC分类号： H05K13/0813 , G01N21/956 , G06T1/00
摘要：パーツカメラ４０の撮像制御部５２は、配線パターン９５，９６と表面が平坦な端子９３，９４とを有する部品９０を撮像するにあたり、落射受光量が側射受光量よりも小さくなるように、部品９０の撮像時に落射用光源４４及び側射用光源４７を発光させる。落射受光量とは、落射用光源４４から発せられ部品９０で反射して撮像部５１に受光される光の光量である。同様に、側射受光量とは、側射用光源４７から発せられ部品９０で反射して撮像部５１に受光される光の光量である。
摘要翻译：成像控制单元的
零件相机40的52，在布线图案95，96和表面图像组件90，它具有一个平坦的终端93和94，所接收的光量的入射光量侧视图在元件90的图像拾取时使入射光源44和侧光源47发光。入射光接收量是从入射光源44发射并由部件90反射并由成像单元51接收的光的光量。类似地，侧面接收光量是从侧面光源47发射并由部件90反射并由成像单元51接收的光的光量。

4. 发明申请

WO2018043171A1 ＳｉＣエピタキシャルウェハ及びその製造方法、並びに、欠陥識別方法审中-公开
标题翻译： SiC外延片，其制造方法以及缺陷识别方法
公开(公告)号：WO2018043171A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/JP2017/029740
申请日：2017-08-21
申请人：昭和電工株式会社
发明人：郭　玲 , 亀井　宏二
IPC分类号： C30B29/36 , C23C16/42 , C30B25/20 , G01N21/956 , H01L21/205
CPC分类号： C23C16/42 , C30B25/20 , C30B29/36 , G01N21/956 , H01L21/205
摘要：このＳｉＣエピタキシャルウェハは、オフ角を有し、０．１～２．５個／ｃｍ２の基板カーボンインクルージョン密度を有する４Ｈ－ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層が形成されたＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャル層に含まれる、基板カーボンインクルージョン起因のラージピット欠陥および三角欠陥の合計密度が０．６個／ｃｍ２以下であることを特徴とする。
摘要翻译：该SiC外延晶片具有偏离角，并且是衬底碳夹杂物密度为0.1至2.5个/ cm 2的4H-SiC单晶，一种SiC外延晶片，其特征在于，在基板上形成有SiC外延层，所述SiC外延层中含有的基板碳夹杂物导致的大凹坑缺陷和三角缺陷的总密度为0.6个/ cm 2 或更少。

5. 发明申请

WO2018042743A1 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法审中-公开
标题翻译：基板检查装置，基板处理装置，基板检查方法以及基板处理方法
公开(公告)号：WO2018042743A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/JP2017/013870
申请日：2017-04-03
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：柏山　真人 , ペチュレスキー　チャー , 森田　彰彦 , 松尾　友宏
IPC分类号： H01L21/027 , G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/956 , H01L21/027
摘要：回転保持部（２５２）により基板Ｗが回転可能に保持される。第１の撮像時に、前記回転保持部により保持された基板が撮像部（１）により撮像されることにより、基板の画像を示す第１の画像データが生成される。第１の撮像後に、前記回転保持部により予め定められた角度だけ基板が回転される。基板の回転後の第２の撮像時に、前記回転保持部により保持された基板が前記撮像部により撮像されることにより、基板の画像を示す第２の画像データが生成される。前記第１および前記第２の画像データに基づいて、基板の表面状態の欠陥の有無が判定される。
摘要翻译：衬底W由旋转保持部分（252）可旋转地保持。在第一成像，由保持的基板，所述旋转保持单元通过由所述成像单元（1）被捕获，生成表示该基板的图像的第一图像数据。在第一次成像之后，由旋转保持单元使基板旋转预定角度。在所述衬底的所述旋转之后的第二成像，由保持的基板由成像单元通过旋转保持部捕获，生成表示该基板的图像的第二图像数据。基于第一图像数据和第二图像数据来确定衬底的表面状态中是否存在缺陷。

6. 发明申请

WO2018036828A1 METROLOGY APPARATUS FOR MEASURING A STRUCTURE FORMED ON A SUBSTRATE BY A LITHOGRAPHIC PROCESS, LITHOGRAPHIC SYSTEM, AND METHOD OF MEASURING A STRUCTURE FORMED ON A SUBSTRATE BY A LITHOGRAPHIC PROCESS 审中-公开
标题翻译：用于通过光刻工艺测量在基板上形成的结构的计量设备，光刻系统以及通过光刻工艺测量在基板上形成的结构的方法
公开(公告)号：WO2018036828A1
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：PCT/EP2017/070302
申请日：2017-08-10
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： PANDEY, Nitesh
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/95
CPC分类号： G03F7/70633 , G01J1/0411 , G01J1/0488 , G01N21/9505 , G01N21/956 , G03F7/70191 , G03F7/70575 , G03F7/70625
摘要： Metrology apparatus and methods are disclosed. In one arrangement, a metrology apparatus comprises an optical system that illuminates a structure with measurement radiation and detects the measurement radiation scattered by the structure. The optical system comprises an array of lenses that focusses the scattered measurement radiation onto a sensor. A dispersive element directs scattered measurement radiation in each of a plurality of non-overlapping wavelength bands exclusively onto a different respective lens of the array of lenses.
摘要翻译：公开了计量装置和方法。在一种布置中，度量设备包括光学系统，该光学系统用测量辐射照射结构并检测由该结构散射的测量辐射。该光学系统包括将散射的测量辐射聚焦到传感器上的透镜阵列。色散元件仅将多个非重叠波长带中的每一个中的散射测量辐射引导到透镜阵列的不同透镜上。

7. 发明申请

WO2017176592A1 SYSTEM AND METHOD FOR WAFER INSPECTION WITH A NOISE BOUNDARY THRESHOLD 审中-公开
标题翻译：具有噪声边界阈值的晶片检查的系统和方法
公开(公告)号：WO2017176592A1
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：PCT/US2017/025528
申请日：2017-03-31
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： JIANG, Xuguang , ZHANG, Yong
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8883 , G01N2021/8887 , G06T5/40 , G06T7/0002 , G06T7/0004 , G06T7/136 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01L22/00 , H01L22/12 , H01L22/20
摘要： A method includes receiving one or more images of three or more die of a wafer, determining a median intensity value of a set of pixel intensity values acquired from a same location on each of the three or more die, determining a difference intensity value for the set of pixel intensity values by comparing the median intensity value of the set of pixel intensity values to each pixel intensity value, grouping the pixel intensity values into an intensity bin based on the median intensity value of the set of pixel intensity values, generating an initial noise boundary based on a selected difference intensity value in the intensity bin, generating a final noise boundary by adjusting the initial noise boundary, generating a detection boundary by applying a threshold to the final noise boundary, and classifying one or more pixel intensity values outside the detection boundary as a defect.
摘要翻译：一种方法包括：接收晶片的三个或更多个晶粒的一个或多个图像，确定从三个或更多个晶粒中的每一个上的相同位置获取的一组像素强度值的中值强度值，通过将该组像素强度值的中值强度值与每个像素强度值进行比较来确定该组像素强度值的差值强度值，基于该组中值强度值将像素强度值分组为强度值基于强度分箱中的所选差分强度值生成初始噪声边界，通过调整初始噪声边界来生成最终噪声边界，通过将阈值应用于最终噪声边界来生成检测边界，以及将分类检测边界之外的一个或多个像素强度值作为缺陷。

8. 发明申请

WO2017170931A1 撮像装置及び検査装置审中-公开
标题翻译：成像设备和检查设备
公开(公告)号：WO2017170931A1
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：PCT/JP2017/013397
申请日：2017-03-30
申请人：株式会社タムラ製作所
发明人：志田　淳 , 山森　真一 , 関根　秀一 , 深澤　昌弘
IPC分类号： G01N21/956 , B23K1/00 , H05K3/34 , B23K101/42
CPC分类号： B23K1/00 , G01N21/956 , H05K3/34
摘要：撮像信号を使用して対象物の検査を正確に行うことを可能とする。撮像素子と、撮像レンズと、撮像レンズの前面を横切る気流を形成する吹き出し口とを有する撮像装置である。また、撮像素子と、撮像レンズと、撮像レンズの前面を横切る気流を形成する吹き出し口とを有する撮像装置とを有し、撮像装置の撮像信号を使用して対象物の検査を行う検査装置である。
摘要翻译：
使用成像信号可以准确地检查物体。图像拾取装置，图像拾取透镜和形成横穿图像拾取透镜的前表面的气流的喷射端口。检查设备具有成像装置，成像镜头和具有气流端口的成像装置，气流端口形成横过成像镜头的前表面的气流，并且使用成像装置的成像信号来检查对象一。

9. 发明申请

WO2017130555A1 スミア検出装置、レーザビア加工装置およびレーザビア加工方法审中-公开
标题翻译：涂抹检测设备，激光通孔处理设备和激光通孔处理方法
公开(公告)号：WO2017130555A1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：PCT/JP2016/085367
申请日：2016-11-29
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：藤原　成章
IPC分类号： G01N21/88 , B23K26/00 , B23K26/386 , G01N21/17 , G01N21/55 , G01N21/64 , G01N21/956 , H05K3/00 , H05K3/46
CPC分类号： B23K26/00 , B23K26/386 , G01N21/17 , G01N21/55 , G01N21/64 , G01N21/88 , G01N21/956 , H05K3/00 , H05K3/46
摘要：レーザビア加工装置（１）の励起光出射部（３３）は、多層基板（９）の絶縁層（９２）を形成する樹脂に蛍光を発生させる励起光を出射する。励起光は、対物レンズ（３２２）から多層基板（９）の主面へと至るとともに当該主面に垂直なレーザビア加工用のレーザ光の経路（Ｊ１）に沿って、当該主面に照射される。絶縁層検出部では、絶縁層（９２）の樹脂にて発生する蛍光を対物レンズ（３２２）を介して受光することにより、レーザ光による形成途上のビアホールにおける絶縁層（９２）の存在が検出される。これにより、レーザビア加工において、形成途上のビアホールにおけるスミアの存在を精度よく検出することができる。
摘要翻译：激光通孔加工设备（1）的激发光发射部分（33）发射用于在形成多层基板（9）的绝缘层（92）的树脂中产生荧光的激发光。激发光从物镜（322）照射到多层基板（9）的主表面上并且沿着用于激光的激光束的路径（J 1）经由垂直于主表面的处理。绝缘层检测单元，由通过物镜（322）接收在所述绝缘层（92）的树脂产生的荧光，所述绝缘层的在所述通孔形成由激光束显影存在（92）被检测这一点。由此，在激光通孔加工中，可以准确地检测出形成的通孔中的拖尾的存在。

10. 发明申请

WO2017102304A1 ADJUSTMENT OF A METROLOGY APPARATUS OR A MEASUREMENT THEREBY BASED ON A CHARACTERISTIC OF A TARGET MEASURED 审中-公开
标题翻译：计量器具的调整或基于测量的目标特性进行的测量
公开(公告)号：WO2017102304A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/079105
申请日：2016-11-29
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： SOCHA, Robert, John , DEN BOEF, Arie, Jeffrey , PANDEY, Nitesh
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/956
CPC分类号： G03F7/70633 , G01N21/956 , G03F7/70641
摘要： Disclosed herein is a method of adjusting a metrology apparatus, the method comprising: spatially dividing an intensity distribution in a pupil plane of the metrology apparatus into a plurality of pixels; reducing an effect of a structural asymmetry in a target on a measurement by the metrology apparatus on the target, by adjusting, using a computer, intensities of the plurality of pixels.
摘要翻译：本文公开了一种调节度量装置的方法，该方法包括：将度量衡装置的光瞳平面中的强度分布空间分割成多个像素; 通过使用计算机调整多个像素的强度，减少目标中的结构不对称对测量装置对目标的测量结果的影响。

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