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1. 发明申请

WO2009013278A1 VORRICHTUNG ZUR TEMPERATUREINSTELLUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR温度设定光学元素
公开(公告)号：WO2009013278A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059549
申请日：2008-07-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HEMBACHER, Stefan , HAUF, Markus
发明人： HEMBACHER, Stefan , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70291 , G03F7/70875
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Temperatureinstellung eines optischen Elements, insbesondere von optischen Elementen in Objektiven für die Mikrolithographie, wobei eine Kammer (1) zur Aufnahme mindestens eines optischen Elements, insbesondere einer Spiegelanordnung aus einer Vielzahl kleiner, verstellbarer, in einem Feld angeordneter Spiegel (Micro Mirror Array MMA) (4) mit mindestens einer transparenten Abdeckung (2) vorgesehen ist, wobei in der Kammer (1) ein Medium vorgesehen ist, welches eine höhere Wärmeleitfähigkeit als Luft aufweist, sowie ein Objektiv, insbesondere Beleuchtungsobjektiv für die Mikrolithographie mit einer entsprechenden Vorrichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于在透镜，用于微光刻的，用于接收至少一个光学元件，尤其是多个的小，可调节的反射镜组件设置的光学元件的温度，特别是光学元件，其特征在于，腔室（1），布置在视场反射镜（微反射镜阵列MMA）（4）设置有至少一个透明盖（2），其中，在被提供（1）的介质的腔室，其具有较高的热导率比空气，以及一个透镜，特别是照明目标与微光刻相应设备的。

2. 发明申请

WO2008012022A1 OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KORREKTUR BZW. VERBESSERUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER SOLCHEN VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光学装置和方法纠正或改善PICTURE行为这种装置
公开(公告)号：WO2008012022A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006407
申请日：2007-07-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70041 , G03F7/70266
摘要： Eine optische Vorrichtung weist eine Lichtquelle, die Licht in Form von Lichtpulsen mit einer Pulsfrequenz abstrahlt, und mindestens ein optisches Element auf, das mit Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung mit einer Schwingungsfrequenz verbunden ist. Die Schwingung des optischen Elements führt zu einer zeitlich periodischen Modulation zumindest eines für die optische Abbildung relevanten Parameters des optischen Elements. Die Schwingungsfrequenz ist mittels der Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung des optischen Elements so einstellbar, dass sie mit der Pulsfrequenz der Lichtquelle synchronisiert ist. Es ist ein Taktgeber für die Pulsfrequenz der Lichtpulse vorgesehen, wobei mit dem Taktgeber zumindest ein Frequenzvervielfacher verbunden ist, dessen Ausgang mit den Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung verbunden ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung beschrieben.
摘要翻译：一种光学器件，包括：在具有脉冲频率的光脉冲的形式发射光的光源，和其中至少一个是在振荡频率连接到用于振荡的激发光学元件。该光学元件的振动导致相关的光学元件的光学成像参数的至少一个的时间上周期性的调制。使得它由设备用于光学元件的振荡的激励的装置与所述光源的脉冲频率同步的振荡频率是可调整的。提供了一种用于在光脉冲的脉冲频率，其中至少一个倍频器连接到所述时钟，其输出被连接到所述装置用于振荡的激励一个时钟发生器。此外，用于校正或改善所述的光学器件的成像特性的方法。

3. 发明申请

WO2009115370A1 REINIGUNGSMODUL, EUV-LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZU IHRER REINIGUNG 审中-公开
标题翻译：清理模块，EUV光刻设备和方法清洁
公开(公告)号：WO2009115370A1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：PCT/EP2009/051330
申请日：2009-02-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HEMBACHER, Stefan , KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich , SCHMIDT, Stefan-Wolfgang , KÖHLER, Stefan , CZAP, Almut , WIESNER, Stefan , CHUNG, Hin Yiu Anthony
发明人： HEMBACHER, Stefan , KRAUS, Dieter , EHM, Dirk Heinrich , SCHMIDT, Stefan-Wolfgang , KÖHLER, Stefan , CZAP, Almut , WIESNER, Stefan , CHUNG, Hin Yiu Anthony
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： Um eine schonendere Reinigung von optischen Komponenten (35) innerhalb einer EUV- Lithographievorrichtung zu erlauben, wird ein Reinigungsmodul für eine EUV- Lithographievorrichtung mit einer Zuleitung für molekularen Wasserstoff und einem Heizdraht zur Herstellung von atomarem Wasserstoff und Wasserstoffionen zu Reinigungszwecken vorgeschlagen, bei dem in Strömungsrichtung des Wasserstoffs (31, 32) hinter dem Heizdraht (29) Mittel (33) zum Anlegen eines elektrischen und/oder magnetischen Feldes angeordnet sind. Die Mittel können als Umlenkeinheit sowie als Filtereinheit und/oder Beschleunigungseinheit für den Ionenstrahl (32) ausgebildet sein.
摘要翻译：以允许EUV光刻设备内的光学部件（35）的更温和的清洁，为具有用于分子氢和用于生产原子氢和氢离子用于纯化目的的加热丝的入口EUV光刻设备中的清洁模块，建议，其中，在流动方向上氢（31，32）中的加热丝的后面（29）包括装置（33）被设置用于施加电场和/或磁场。该装置可以被形成为一个偏转单元，以及一个过滤器单元和/或加速度单元，用于将离子束（32）。

4. 发明申请

WO2007128835A1 OPTICAL IMAGING DEVICE WITH THERMAL ATTENUATION 审中-公开
标题翻译：具有热衰减的光学成像装置
公开(公告)号：WO2007128835A1
公开(公告)日：2007-11-15
申请号：PCT/EP2007/054503
申请日：2007-05-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , ITTNER, Thomas , HEMBACHER, Stefan , SCHIMITZEK, Karl-Heinz , TAYEBATI, Payam , HOLDERER, Hubert
发明人： GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , ITTNER, Thomas , HEMBACHER, Stefan , SCHIMITZEK, Karl-Heinz , TAYEBATI, Payam , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： An optical imaging device, in particular for use in microlithography, comprising a mask device for receiving a mask comprising a projection pattern, a projection device with an optical element group, a substrate device for receiving a substrate and an immersion zone. The optical element group is adapted to project the projection pattern onto the substrate and comprises a plurality of optical elements with an immersion element to which the substrate is at least temporarily located adjacent to during operation. During operation, the immersion zone is located between the immersion element and the substrate and is at least temporarily filled with an immersion medium. According to the invention a thermal attenuation device is provided, said thermal attenuation device being adapted to reduce fluctuations within the temperature distribution TE of the immersion element induced by the immersion medium.
摘要翻译：特别是用于微光刻的光学成像装置，包括用于接收包括投影图案的掩模的掩模装置，具有光学元件组的投影装置，用于接收基板的基板装置和浸没区。光学元件组适于将投影图案投影到基板上，并且包括具有浸没元件的多个光学元件，基板在操作期间至少临时定位到该元件。在操作期间，浸没区域位于浸没元件和基底之间，并且至少暂时填充浸没介质。根据本发明，提供一种热衰减装置，所述热衰减装置适于减少由浸没介质引起的浸没元件的温度分布TE内的波动。

5. 发明申请

WO2010009807A1 AKTUATOR UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：执行器和投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2010009807A1
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/EP2009/004892
申请日：2009-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , SCHÖPPACH, Armin
发明人： WEBER, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , SCHÖPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , H01L41/09
CPC分类号： G03F7/70141 , F16H21/44 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , H02N1/002 , H02N2/023 , Y10T74/18992
摘要： Der erfindungsgemäße Aktuator (1) weist ein Gehäuse (2) und einen gegenüber dem Gehäuse (2) in Wirkrichtung des Aktuators bewegbaren Läufer (3) auf, wobei der Aktuator (1) eine Vorschubeinheit aufweist, die mindestens zeitweise mit dem Läufer (3) in Verbindung steht. Die Vorschubeinheit zeigt mindestens eine Deformationseinheit (6) sowie mindestens einen Deformator (5) zur Verformung der Deformationseinheit (6); der mindestens eine Deformator (5) ist geeignet, die Deformationseinheit (6) senkrecht zur Wirkrichtung des Aktuators (1) derart zu verformen, dass sich die Gesamtlänge der Deformationseinheit (6) in Wirkrichtung als Ergebnis der Verformung ändert. Daneben betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage (310) für die Halbleiterlithographie mit einem erfindungsgemäßen Aktuator (1) sowie ein Verfahren zum Betrieb eines erfindungsgemäßen Aktuators (1).
摘要翻译：根据本发明（1）的致动器具有一个壳体（2）和在所述致动器可动流道（3）的有效方向的相对于所述壳体（2），其中，所述致动器（1）包括进给单元，其至少暂时与该转子（3）通信。进给单元具有至少一个变形部（6）和至少一个变形器（5），用于所述变形部的变形（6）; 所述至少一个变形器（5）适于在垂直于（1），使得所述变形单元（6）的在有效方向的总长度变化作为变形的结果，致动器的动作方向变形变形单元（6）。此外，本发明涉及一种投影曝光装置（310），用于半导体光刻的具有本发明的致动器（1）和根据本发明（1）操作的致动器的方法。

6. 发明申请

WO2008064859A2 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：光学系统具有可交换的可操作的校正装置，用于减少图像抖动
公开(公告)号：WO2008064859A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010286
申请日：2007-11-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，包括至少一个用于减小图像像差的操纵器（14），其中所述操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），所述至少一个光学元件可通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

7. 发明申请

WO2012013751A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013751A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/063002
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light. The lens further comprises support means for passively or actively supporting at least one optical element which is controlled to a temperature by a first tempering means. The support means comprising a temperature sensitive element, wherein the temperature sensitive element is controlled to a constant or to a predefined temperature by a second tempering element which is arranged between the temperature sensitive element and the first tempering element.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV灯的曝光强度。透镜还包括用于被动或主动地支撑由第一回火装置控制到温度的至少一个光学元件的支撑装置。所述支撑装置包括温度敏感元件，其中所述温度敏感元件通过布置在所述温度敏感元件和所述第一回火元件之间的第二回火元件被控制到恒定或预定温度。

8. 发明申请

WO2012013748A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013748A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062997
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

9. 发明申请

WO2012013747A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013747A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062996
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system with at least two reflective optical elements each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein the bodies of at least two reflective optical elements comprise a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at respective zero cross temperatures, and wherein the absolute value of the difference between the zero cross temperatures is more than 6K.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，其具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件均包括主体和反射表面，用于在掩模版上将物场投射到基板上的图像场上，如果投影透镜曝光 EUV光的功率，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在相应的零交叉温度下为零，并且其中零交叉温度之间的差的绝对值更多超过6K。

10. 发明申请

WO2012013746A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013746A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062995
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A mirror comprising a body and a reflective surface, the body comprising a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature T 0k- Further, at least a part of the surface of the body comprises a wire grid for electrically resistive heating of the body and the mirror is adapted for a projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light.
摘要翻译：一种包括主体和反射表面的反射镜，所述主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在零交叉温度T0k为零。此外，主体的表面的至少一部分包括用于本体和反射镜的电阻加热适用于EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，用于将掩模版上的物场投影到基板上的图像场上，如果投影透镜以曝光量曝光 EUV灯。

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