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1. 发明申请

WO2008064859A2 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：光学系统具有可交换的可操作的校正装置，用于减少图像抖动
公开(公告)号：WO2008064859A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010286
申请日：2007-11-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，包括至少一个用于减小图像像差的操纵器（14），其中所述操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），所述至少一个光学元件可通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

2. 发明申请

WO2007112997A1 REFLECTING OPTICAL ELEMENT WITH ECCENTRIC OPTICAL PASSAGEWAY 审中-公开
标题翻译：用偏心光学通道反射光学元件
公开(公告)号：WO2007112997A1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/EP2007/002951
申请日：2007-04-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
发明人： SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body (107.1, 108.1), a reflecting area (107.4, 108.4) and an optical passageway (107.6, 108.6). The optical element body defines an axis of rotational symmetry (107.3, 108.3). The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.
摘要翻译：提供了一种光学元件，包括光学元件主体（107.1,108.1），反射区域（107.4,108.4）和光学通道（107.6,108.6）。光学元件主体限定旋转对称轴（107.3,108.3）。反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

3. 发明申请

WO2004038481A1 VORRICHTUNG ZUR AUFNAHME EINES STRAHLTEILERELEMENTS 审中-公开
标题翻译： DEVICE用于接收分光元件
公开(公告)号：WO2004038481A1
公开(公告)日：2004-05-06
申请号：PCT/EP2003/011042
申请日：2003-10-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , KOHL, Alexander , HOLDERER, Hubert , SCHOEPPACH, Armin , GABER, Erwin , KAISER, Winfried , GARREIS, Reiner , GRUNER, Toralf
发明人： WEBER, Ulrich , KOHL, Alexander , HOLDERER, Hubert , SCHOEPPACH, Armin , GABER, Erwin , KAISER, Winfried , GARREIS, Reiner , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/008 , G02B7/1805 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Aufnahme eines Strahlteilerelements (10) mit einer optisch wirksamen Strahlteilerschicht (18) in einer optischen Abbildungseinrichtung, wobei das Strahlteilerelement (10) mit wenigstens einem Trägerelement ( 28) verbunden ist, das im Gehäuse der Abbildungseinrichtung befestigt ist. Die Verbindung zwischen dem Strahlteilerelement (10) und dem wenigstens einen Trägerelement (28) ist derart ausgebildet, dass die Lage der Strahlteilerschicht (18) des Strahlteilerelements (10) unabhängig von Temperaturen und auf das Strahlteilerelement (10) wirkenden thermischen Spannungen relativ zum Gehäuse konstant bleibt.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于接收具有在光学成像装置的光学有效分束器层（18）的光束分离器元件（10），其中，所述分束器元件（10）与固定在成像装置的壳体的至少一个载体元件（28）。分束器元件（10）和所述至少一个支撑元件（28）之间的连接被设计成使得所述分束器元件（10）的分束器层（18）的位置是与温度无关的并且作用热应力相对恒定，以壳体分束器元件（10）上仍然存在。

4. 发明申请

WO2007022922A2 AUSTAUSCHVORRICHTUNG FÜR EIN OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：交换装置用于光学元件
公开(公告)号：WO2007022922A2
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：PCT/EP2006/008160
申请日：2006-08-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , WEBER, Ulrich
发明人： GELLRICH, Bernhard , WEBER, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70308 , G03F7/70691
摘要： Die Erfindung betrifft eine Austauschvorrichtung für wenigstens ein in einer lithographischen Projektionsbelichtungsanlage zumindest mittelbar gelagertes austauschbares optisches Element, mit wenigstens einer Aufnahme für das austauschbare optische Element, welche durch wenigstens eine Öffnung in einem Gehäuse eines Anlagenteils der Projektionsbelichtungsanlage in dasselbe einbringbar ist, wobei das austauschbare optische Element in dem Anlagenteil auf einer separaten Haltestruktur gehalten ist, wobei das austauschbare optische Element zur Fixierung auf der separaten Haltestruktur in eine Fixierungseinrichtung eingebracht ist, und wobei die separate Haltestruktur von den Wirkkräften der Fixierungseinrichtung wenigstens annähernd entkoppelt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在光刻投射曝光设备的至少一个的交换装置，至少间接地安装具有用于可更换光学元件，它可以通过在投射曝光设备的一个系统部件的外壳的至少一个开口在同引入，至少一个插座可交换光学元件，其中所述可更换光学元件在在单独的支撑结构，其中所述可更换光学元件被插入用于固定到单独的保持结构中的定影装置的轴承部保持，并且其中，所述单独的保持结构至少基本上从所述固定装置的有源力解耦。

5. 发明申请

WO2010009807A1 AKTUATOR UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：执行器和投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2010009807A1
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/EP2009/004892
申请日：2009-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , SCHÖPPACH, Armin
发明人： WEBER, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , SCHÖPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , H01L41/09
CPC分类号： G03F7/70141 , F16H21/44 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , H02N1/002 , H02N2/023 , Y10T74/18992
摘要： Der erfindungsgemäße Aktuator (1) weist ein Gehäuse (2) und einen gegenüber dem Gehäuse (2) in Wirkrichtung des Aktuators bewegbaren Läufer (3) auf, wobei der Aktuator (1) eine Vorschubeinheit aufweist, die mindestens zeitweise mit dem Läufer (3) in Verbindung steht. Die Vorschubeinheit zeigt mindestens eine Deformationseinheit (6) sowie mindestens einen Deformator (5) zur Verformung der Deformationseinheit (6); der mindestens eine Deformator (5) ist geeignet, die Deformationseinheit (6) senkrecht zur Wirkrichtung des Aktuators (1) derart zu verformen, dass sich die Gesamtlänge der Deformationseinheit (6) in Wirkrichtung als Ergebnis der Verformung ändert. Daneben betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage (310) für die Halbleiterlithographie mit einem erfindungsgemäßen Aktuator (1) sowie ein Verfahren zum Betrieb eines erfindungsgemäßen Aktuators (1).
摘要翻译：根据本发明（1）的致动器具有一个壳体（2）和在所述致动器可动流道（3）的有效方向的相对于所述壳体（2），其中，所述致动器（1）包括进给单元，其至少暂时与该转子（3）通信。进给单元具有至少一个变形部（6）和至少一个变形器（5），用于所述变形部的变形（6）; 所述至少一个变形器（5）适于在垂直于（1），使得所述变形单元（6）的在有效方向的总长度变化作为变形的结果，致动器的动作方向变形变形单元（6）。此外，本发明涉及一种投影曝光装置（310），用于半导体光刻的具有本发明的致动器（1）和根据本发明（1）操作的致动器的方法。

6. 发明申请

WO2006000352A1 POSITIONIEREINHEIT UND VORRICHTUNG ZUR JUSTAGE FÜR EIN OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：定位和装置调整的光学元件
公开(公告)号：WO2006000352A1
公开(公告)日：2006-01-05
申请号：PCT/EP2005/006583
申请日：2005-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , KUGLER, Jens
发明人： WEBER, Ulrich , KUGLER, Jens
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G02B7/005 , G02B7/003 , G02B7/004 , G02B7/02 , G02B7/023 , G02B7/1822 , G03F7/7015 , G03F7/70258 , G03F7/70825
摘要： Eine Positioniereinheit für ein optisches Element in einer mikrolithhographischen Projektionsbelichtungsanlage ist mit einem ersten Verbindungsbereich (A, 22) zum Verbinden mit den optischen Elementen und einem zweiten Verbindungsbereich (B, 20) zum Verbinden mit einem Gegenstand in der Nähe des optischen Elements versehen. Wenigstens zwei Hebel sind über ihre jeweiligen Hebellager mit dem zweiten Verbindungsbereich und deren jeweiliger Lastarm mittels eines Gelenks über ein an diesen Gelenken angreifendes Zwischenelement (31, 33, 36) mit dem ersten Verbindungsbereich verbunden. An den jeweiligen Kraftarmen der Hebel sind Verstelleinrichtungen (28, 29) oder Aktuatoren angeordnet, wobei in einer ersten Stellung der erste Verbindungsbereich und der zweite Verbindungsbereich relativ zueinander so angeordnet sind, dass die Hebellager wenigstens zweier Hebel und die diesen Hebeln zugeordneten Gelenke etwa parallele Drehachsen aufweisen, die in der ersten Stellung etwa in einer Ebene liegen.
摘要翻译：一种用于在mikrolithhographischen投射曝光设备的光学元件的定位单元为与所述光学元件和用于与所述光学元件的附近的对象的连接的第二连接区域（B，20）连接设置有第一连接部（A，22）。至少两个杆绕其各自的杆轴承到第二连接区域，并且其相应的负载臂通过围绕在连接到所述第一连接部这些关节的中间元件（31，33，36）的联合攻击的手段。提供的调节装置上的控制杆（28，29）的各自的功率臂布置或致动器，其中，所述第一连接部和第二连接区域相对于彼此在第一位置绕旋转平行轴线布置，杠杆带有至少两个杆和相关联的这些杠杆关节其在于在一个平面中的第一位置近似。

7. 发明申请

WO2005101131A1 SUPPORT DEVICE FOR POSITIONING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：用于定位光学元件的支撑装置
公开(公告)号：WO2005101131A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/EP2004/003920
申请日：2004-04-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , HAFENRICHTER, Sabine
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , HAFENRICHTER, Sabine
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023
摘要： Support device for positioning an optical element (2), in particular a lens, comprising a first frame unit (1.1) and a plurality of support units (1.2) for supporting said optical element (2), each of said support units (2) having a first end for fixedly engaging a part of said first frame unit (1.1) and a second end for supporting said optical element (2), said support units (1.2) being arranged for positioning said optical element (2) along a first direction, a second direction and a third direction in the manner of parallel kinematics, said first direction, said second direction and said third direction being translatory directions arranged mutually transverse to each other, wherein there are provided three support units (1.2) and wherein each of said support units (1.2) provides for restriction of a first degree of freedom and a second degree of freedom to support said optical element (2) in an isostatic manner.
摘要翻译：用于定位光学元件（2）的支撑装置，特别是透镜，包括用于支撑所述光学元件（2）的第一框架单元（1.1）和多个支撑单元（1.2），每个所述支撑单元（2）具有用于固定地接合所述第一框架单元（1.1）的一部分的第一端和用于支撑所述光学元件（2）的第二端，所述支撑单元（1.2）布置成用于沿着第一方向定位所述光学元件（2），平行运动学方式的第二方向和第三方向，所述第一方向，所述第二方向和所述第三方向是彼此相互横向布置的平移方向，其中设置有三个支撑单元（1.2），并且其中所述支撑单元（1.2）提供限制第一自由度和第二自由度以等静压方式支撑所述光学元件（2）。

8. 发明申请

WO2009024192A1 OPTICAL ELEMENT MODULE WITH MINIMIZED PARASITIC LOADS 审中-公开
标题翻译：具有最小化PARASIIC负载的光学元件模块
公开(公告)号：WO2009024192A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/EP2007/058787
申请日：2007-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , SCHAFFER, Dirk
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , SCHAFFER, Dirk
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/02 , G02B7/021 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element module comprising an optical element unit comprising an optical element and a support structure, the support structure supporting the optical element unit and comprising a support device and a contact device mounted to the support device. The contact device exerts a resulting holding force onto the optical element unit in a first direction via a first contact surface of the contact device, the first contact surface contacting a second contact surface of the optical element unit. The contact device comprises a first linking section and a second linking section extending along a second direction running transverse to the first direction and being arranged kinematically in series between the first contact surface and the support device. The first linking section and the second linking section are elastically deformed in response to a bending moment resulting from the resulting holding force. The first linking section and the second linking section are arranged on opposite sides of a reference plane, the reference plane comprising the resulting holding force and running transverse to the second direction.
摘要翻译：提供了一种光学元件模块，其包括光学元件单元，该光学元件单元包括光学元件和支撑结构，支撑结构支撑光学元件单元并且包括支撑装置和安装到支撑装置的接触装置。接触装置经由接触装置的第一接触表面在第一方向上向光学元件单元施加所产生的保持力，第一接触表面接触光学元件单元的第二接触表面。接触装置包括第一连接部分和沿着横向于第一方向延伸的第二方向延伸的第二连接部分，并且在第一接触表面和支撑装置之间以运动方式串联布置。第一连接部分和第二连接部分响应于由所产生的夹持力产生的弯矩而弹性变形。第一连接部分和第二连接部分布置在参考平面的相对侧上，参考平面包括所产生的夹持力并横向于第二方向延伸。

9. 发明申请

WO2010037778A1 STÜTZELEMENTE FÜR EIN OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：支持元件用于光学元件
公开(公告)号：WO2010037778A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/EP2009/062686
申请日：2009-09-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , WENGERT, Nicolai
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , WENGERT, Nicolai
IPC分类号： G02B7/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/003 , G02B7/02 , G03F7/70825
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Stützelement für ein optisches Element, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem Stützkörper, einem ersten Anschlusselement zum Anschluss des Stützkörpers an eine äußere Stützeinheit und einem zweiten Anschlusselement zum Anschluss des Stützkörpers an dem optischen Element. Das Stützelement ist dazu ausgebildet, mit weiteren Stützelementen nach Art einer Parallelkinematik zum Positionieren und Orientieren des optischen Elements bezüglich der äußeren Stützeinheit in sechs Freiheitsgraden zusammenzuwirken. Der Stützkörper umfasst eine Mehrzahl von ersten Biegegelenken, während das erste Anschlusselement und/oder das zweite Anschlusselement wenigstens ein zweites Biegegelenk aufweist, wobei jedes der ersten und zweiten Biegegelenke eine Biegeachse definiert. Über die Mehrzahl von ersten und zweiten Biegegelenken ist eine Bewegungseinschränkung des optischen Elements bezüglich der Stützeinheit in höchstens zwei Freiheitsgraden realisierbar. Jedes der ersten und zweiten Biegegelenke ist entlang der Biegeachse langgestreckt ausgebildet.
摘要翻译：本发明涉及一种支持元件用于光学元件，特别是用于微光刻，其包括支承体，该支承体连接到外部支撑单元和用于支承体连接到所述光学元件的第二连接元件的第一连接元件。所述支撑构件形成在用于定位和所述光学元件的定向的并联运动机构的方式进一步支撑元件相对于所述外部支撑单元在六个自由度的配合。所述支撑体包括：多个第一挠曲件，而所述第一连接元件和/或所述第二连接元件至少具有一第二弯曲接头，每个所述的确定一个弯曲轴的第一和第二挠曲件。在所述多个第一和第二弯曲的光学元件相对于所述支撑单元在多于两个自由度的移动限制被实现。所述第一和第二弯曲部中的每一个形成为沿着弯曲轴线伸长。

10. 发明申请

WO2003104897A2 OBJEKTIV, INSBESONDERE PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：镜头，尤其是投影镜头微光刻
公开(公告)号：WO2003104897A2
公开(公告)日：2003-12-18
申请号：PCT/EP2003/004772
申请日：2003-05-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEBER, Ulrich , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander
发明人： WEBER, Ulrich , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B7/1805 , G02B17/08 , G02B27/0025 , G02B27/144 , G03F7/70225 , G03F7/70258
摘要： Ein Objektiv ist mit mehreren in einem Objektivgehäuse (1) eingesetzten Linsen, Spiegeln und wenigstens einem Strahlenteilerelement (20) versehen. Ein oder mehrere im Strahlengang liegende Flächen (26, 27, 28) des Strahlenteilerelements (20) sind als Korrekturasphären vorgesehen. Das Strahlenteilerelement (20) kann mit Manipulatoren (22) versehen sein, die auf einem Manipulatorträger (23) angeordnet sind, welcher feststehend mit dem Objektivgehäuse verbunden ist.
摘要翻译：透镜设置有多个以客观壳体（1）中使用的透镜，反射镜和至少一个分束器元件（20）。一个或多个位于在分束器元件（20）的光束路径中的表面（26，27，28）被提供作为Korrekturasphären。分束器元件（20）可以设置有操纵器（22）被布置在其上固定地连接到透镜壳体中的操纵器支撑（23）。

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