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1. 发明申请

WO2019052736A1 OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR REPARATUR DER OPTISCHEN ANORDNUNG NACH EINER SCHOCKBELASTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2019052736A1
公开(公告)日：2019-03-21
申请号：PCT/EP2018/070627
申请日：2018-07-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B7/182 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/182 , G02B26/085 , G03F7/70258 , G03F7/70825
摘要： Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zur ersten Komponente (19) bewegliche zweite Komponente (13, 3), insbesondere einen Spiegel (13) oder ein Gehäuse (3), sowie mindestens einen Anschlag (20a) mit mindestens einer Anschlagfläche (21a, b) zur Begrenzung der Bewegung der zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19). Der Anschlag (20a, b) weist zur Absorption der kinetischen Energie der zweiten Komponente beim Anschlagen gegen die Anschlagfläche (21a) einen Metallschaum (22) auf. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Reparatur einer solchen optischen Anordnung nach einer Schockbelastung, umfassend: Austauschen mindestens eines Anschlags (20b), bei dem der Metallschaum (22) bei der Schockbelastung gestaucht wurde, gegen einen Anschlag (20b), bei dem der Metallschaum (22) nicht gestaucht ist.

2. 发明申请

WO2017102599A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是用于微型投影曝光设备
公开(公告)号：WO2017102599A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/080498
申请日：2016-12-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SCHÖNHOFF, Ulrich
发明人： SCHÖNHOFF, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
CPC分类号： G03F7/70258 , G02B5/122 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a first reflective surface (311, 411, 511), which is arranged in the optical beam path of the optical system and is movable for the correction of an aberration that occurs during the operation of the optical system, and at least one second reflective surface (312, 412, 512), arranged in the optical beam path of the optical system, wherein the optical system is configured in such a way that during the travel movement of the first reflective surface (311, 411, 511) the relative position of the first reflective surface (311, 411, 511) and of the second reflective surface (312, 412, 512) with respect to one another is maintainable in a stable manner, wherein either the first reflective surface (311, 411, 511) and the second reflective surface (312, 412, 512) directly succeed one another in the optical beam path or there are only reflective optical elements between the first reflective surface (311, 411, 511) and the second reflective surface (312, 412, 512).
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是用于微光刻投影曝光设备的光学系统，其包括第一反射表面（311,411,511），该第一反射表面布置在光学系统的光束路径中并且可移动用于校正在光学系统的操作期间发生的像差，以及至少一个第二反射表面（312,412,512），布置在光学系统的光束路径中，其中光学系统是以这样的方式配置：在第一反射表面（311,411,511）的行进移动期间，第一反射表面（311,411,511）和第二反射表面（312,412,512）的相对位置在第一反射表面所述第一反射表面（311,411,511）和所述第二反射表面（312,412,512）在所述光束路径中彼此直接接连或者仅存在于所述光束路径中反射光学元件在所述第一反射表面（311,411,511）和所述第二反射表面（312,412,512）之间延伸。

3. 发明申请

WO2017102321A1 OPTIMIZATION OF SOURCE AND BANDWIDTH FOR NEW AND EXISTING PATTERNING DEVICES 审中-公开
标题翻译：新的和现有的图案装置的源和带宽的优化
公开(公告)号：WO2017102321A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：PCT/EP2016/079190
申请日：2016-11-30
申请人： CYMER, LLC , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： CONLEY, Willard, Earl , HSIEH, Wei-An , CHIOU, Tsann-Bim , SHIEN, Jason
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/70
CPC分类号： G03F7/70125 , G03F7/70258 , G03F7/70441 , G03F7/705 , G03F7/70625
摘要： A method to improve a lithographic process of imaging a portion of a design layout onto a substrate using a lithographic apparatus, the method including: computing a multi-variable cost function, the multi-variable cost function being a function a plurality of design variables that represent characteristics of the lithographic process; and reconfiguring one or more of the characteristics of the lithographic process by adjusting one or more of the design variables until a certain termination condition is satisfied; wherein a bandwidth of a radiation source of the lithographic apparatus is allowed to change during the reconfiguration.
摘要翻译：一种改进使用光刻设备将设计布局的一部分成像到衬底上的光刻过程的方法，所述方法包括：计算多变量成本函数，所述多变量成本函数为表示光刻过程的特征的多个设计变量的函数; 以及通过调整一个或多个设计变量来重新配置光刻过程的一个或多个特性，直到满足某个终止条件; 其中允许光刻设备的辐射源的带宽在重新配置期间改变。

4. 发明申请

WO2016062466A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：投射曝光系统，微光刻
公开(公告)号：WO2016062466A1
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：PCT/EP2015/071433
申请日：2015-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , SCHOEMER, Ricarda , SCHMIDT, Holger
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70258
摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie weist ein Projektionsobjektiv (18) zur optischen Abbildung eines in einer Objektebene (16) angeordneten Musters in eine Bildebene (36) mittels elektromagnetischer Strahlung mit einer Arbeitswellenlänge λ 1 ) und in einer zur ersten Dimension (y) senkrechten zweiten Dimension (x) eine zweite Abmessung (D 2 ) aufweist, wobei die erste Abmessung (D 1 ) um einen Faktor von zumindest 1,5 kleiner ist als die zweite Abmessung (D 2 ), und einen Manipulator (60') zur Beeinflussung einer Wellenfront der elektromagnetischen Strahlung auf, wobei der Manipulator (60') zumindest ein optisches Manipulatorelement (62) mit einer ersten optischen Fläche (64) aufweist, die nahe einer Feldebene des Projektionsobjektivs (18) angeordnet ist. Die erste optische Fläche (64) des Manipulatorelements (62) weist zumindest einen Abschnitt aufweist, der ein Korrekturprofil in Form einer Asphärisierung zur Beeinflussung der Wellenfront aufweist, das in Richtung der ersten Dimension (y) bei gleichbleibender Profilform eine veränderliche mittlere Profilamplitude aufweist, und/oder die erste optische Fläche (64) weist in Richtung der ersten Dimension (y) einen ersten und zumindest einen zweiten Abschnitt aufweist, die jeweils ein Korrekturprofil in Form einer Asphärisierung zur Beeinflussung der Wellenfront aufweisen, wobei sich das Korrekturprofil des zumindest einen zweiten Abschnitts von dem Korrekturprofil des ersten Abschnitts hinsichtlich Profilform und/oder der mittleren Profilamplitude unterscheidet.
摘要翻译：用于微光刻的投射曝光系统包括一个投影透镜（18），用于光学成像通过电磁辐射的装置在工作波长λ<260nm的放置在物体平面的图像平面（36）（16）图案的物体，其中，所述投射物镜（18）（光学组件 20），其具有多个光学元件（22，24）（物体面（16之间）与图像平面36）被布置，照明系统（14），用于在所述物平面（图案16），其中的照明所述照明系统（14）产生在第一维度（y）的第一尺寸（D1），并在目标平面（16）上的照明场（44），一个与第一维度（y）垂直的第二尺寸（x）的第二维（D2），所述第一尺寸（D1）通过在至少1.5的因子小于所述第二尺寸（D2），以及一个操纵器（60“）用于影响波前更小的的电磁辐射，其中，所述操纵器（60“）包括具有第一光学表面（64），其被布置为靠近所述投射物镜（18）的场平面的至少一个光学操作器构件（62）。操纵器部件的第一光学表面（64）（62）具有在一个非球面的形式的修正廓形用于影响波前，这在第一维度（y）与具有变化的恒定轮廓形式的方向意味着轮廓振幅的至少一个部分，和在第一维度（y）的第一和至少一个第二部分，每一个都具有在用于影响波前的非球面化的形式的修正廓形，其中，所述至少一个第二部分的校正轮廓的方向/或所述第一光学表面（64）分从相对于所述第一部分的所述修正廓形的不同形状和/或中央剖面幅度。

5. 发明申请

WO2014202396A1 EUV IMAGING APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV成像设备
公开(公告)号：WO2014202396A1
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：PCT/EP2014/061719
申请日：2014-06-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KUGLER, Jens , HEMBACHER, Stefan , SCHMID, Michaela
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/1828 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： An EUV imaging apparatus is suggested, which comprises a reference structure (250, 400, 500), a first optical element (215), which is actuatable relative to the reference structure (250, 400, 500) with the aid of a first actuator (205), the first actuator (205) being a self-holding actuator, and a second optical element (315), which is actuatable relative to the reference structure (250, 400, 500) with the aid of a second actuator (300), the second actuator (300) being a non- self-holding actuator.
摘要翻译：提出了一种EUV成像装置，其包括参考结构（250,400,500），第一光学元件（215），其可相对于参考结构（250,400,500）致动，借助于第一致动器（205），所述第一致动器（205）是自保持致动器，以及第二光学元件（315），所述第二光学元件可借助于第二致动器（300）相对于所述参考结构（250,400,500）致动），第二致动器（300）是非自保持致动器。

6. 发明申请

WO2013098053A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2013098053A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/EP2012/074507
申请日：2012-12-05
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： BUTLER, Hans , BLEEKER, Arno , HENNUS, Pieter , HOEKS, Martinus , HOL, Sven, Antoin, Johan , VAN DER SCHOOT, Harmen , SLAGHEKKE, Bernardus , TINNEMANS, Patricius , VAN DER WIJST, Marc , ZAAL, Koen , CADEE, Theodorus, Petrus, Maria , BEERENS, Ruud , FISCHER, Olof , AANGENENT, Wouter , BOSCH, Niels, Johannes, Maria
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
摘要： An exposure apparatus (1) including a projection system (12, 14) configured to project a plurality of radiation beams onto a target; a movable frame (8) that is at least rotatable around an axis (10); and an actuator system (11) configured to displace the movable frame to an axis away from an axis corresponding to the geometric center of the movable frame and to cause the frame to rotate around an axis through the center of mass of the frame.
摘要翻译：一种曝光装置（1），包括被配置为将多个辐射束投影到目标上的投影系统（12,14）至少可绕轴线（10）旋转的可移动框架（8）; 以及致动器系统（11），其构造成将可移动框架移动到远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线上，并使框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。

7. 发明申请

WO2012117800A1 マイクロレンズアレイを使用した露光装置审中-公开
标题翻译：曝光装置使用微透镜阵列
公开(公告)号：WO2012117800A1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/JP2012/052374
申请日：2012-02-02
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , 梶山康一 , 水村通伸 , 畑中誠
发明人：梶山　康一 , 水村　通伸 , 畑中　誠
IPC分类号： G03F7/20 , G02B3/00 , H01L21/027
CPC分类号： G02B3/0006 , G02B7/005 , G03F7/70258 , G03F7/70275
摘要：　露光光の照射領域はマイクロレンズアレイの大きさに対応するものであり、マイクロレンズアレイは、スキャン方向に垂直の方向に関し、マスクの幅又はその幅の整数分の１の長さに対応する長さを有する。また、マイクロレンズアレイは製造せんとする小型の複数個のパネルに対応する長さに分割された２個以上のユニットを配列して構成されている。これにより、携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用することができる。
摘要翻译：在本发明中，由曝光光照射的区域对应于微透镜阵列的尺寸，并且所述微透镜阵列在与扫描方向垂直的方向上的长度等于掩模或整数的宽度分数。此外，所述微透镜阵列被分成两个或更多个具有对应于要制造的多个小面板的长度的单元。这使得可以根据用于移动电话的液晶显示面板的尺寸有效地使用所述微透镜阵列。

8. 发明申请

WO2012076300A1 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2012076300A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/070147
申请日：2011-11-15
申请人： ASML Netherlands B.V. , VAN ZWET, Erwin , DE JAGER, Pieter , ONVLEE, Johannes , DE MAN, Hendrik
发明人： VAN ZWET, Erwin , DE JAGER, Pieter , ONVLEE, Johannes , DE MAN, Hendrik
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70216 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70275 , G03F7/70375 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704
摘要： A system for controlling the focus of a maskless lithographic apparatus is provided, in which a projection system for projecting an image of a programmable patterning device onto a substrate is provided. A first actuator system is configured to move at least one of the lenses of the projection system in a direction perpendicular to the optical axis of the projection system. A radiation beam expander is also provided, that is configured to project an image of the programmable patterning device onto said lens. Furthermore, a second actuator system is provided, configured to move the radiation beam expander in a direction parallel to the optical axis of the projection system in order to control the focus of the image projected onto the substrate.
摘要翻译：提供了一种用于控制无掩模光刻设备的焦点的系统，其中提供了用于将可编程图案形成装置的图像投影到基板上的投影系统。第一致动器系统被配置为沿着垂直于投影系统的光轴的方向移动投影系统的透镜中的至少一个。还提供了辐射束扩展器，其被配置为将可编程图案形成装置的图像投影到所述透镜上。此外，提供第二致动器系统，其被配置为沿着平行于投影系统的光轴的方向移动辐射束扩展器，以便控制投射到基板上的图像的焦点。

9. 发明申请

WO2012046540A1 マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置审中-公开
标题翻译：扫描曝光装置使用微阵列
公开(公告)号：WO2012046540A1
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/JP2011/070735
申请日：2011-09-12
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , 梶山康一 , 水村通伸 , 畑中誠 , 新井敏成
发明人：梶山　康一 , 水村　通伸 , 畑中　誠 , 新井　敏成
IPC分类号： G03F7/20 , G02B3/00 , H01L21/027
CPC分类号： G02B3/0037 , G02B3/0062 , G02B26/0875 , G03F7/70258 , G03F7/70275
摘要：　スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ（２）により、マスク（３）の露光パターンが基板（１）上に投影される。このとき、基板上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスクの露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。不一致の場合に、マイクロレンズアレイを基板に平行な方向から傾斜させ、マイクロレンズアレイによる基板上の露光領域を調整して、マスクの露光パターンを基準パターンに一致させる。これにより、露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができる。
摘要翻译：在扫描曝光装置中，通过多个微透镜阵列（2）将掩模（3）的曝光图案投影到基板（1）上。然后通过线CCD相机检测基板上的图像，并且掩模的曝光图案被检测为匹配或不匹配参考图案，参考图案是基板上的第一图案。在图案不匹配的情况下，微透镜阵列从平行于衬底的方向倾斜以调节由微透镜阵列暴露的衬底上的区域，并使掩模的曝光图案与参考图案相匹配。因此，即使当曝光图案与参考图案不对准时，也可以在曝光期间检测到该未对准，可以防止曝光图案的位置的不对准，并且可以提高曝光图案的精度以重复曝光。

10. 发明申请

WO2011128162A1 SUBSTRATE HANDLING APPARATUS AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：基板处理装置和光刻装置
公开(公告)号：WO2011128162A1
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：PCT/EP2011/053810
申请日：2011-03-14
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , ONVLEE, Johannes , MUNNIG SCHMIDT, Robert-Han
发明人： ONVLEE, Johannes , MUNNIG SCHMIDT, Robert-Han
IPC分类号： G03F7/20 , B65G49/06 , H01L21/683 , B65G51/03 , B65H5/22 , B65G47/74
CPC分类号： G03F7/70258 , B65H23/245 , B65H2406/311 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70391 , G03F7/70525 , G03F7/70583 , G03F7/707 , G03F7/70775 , G03F7/70816
摘要： A substrate handling apparatus (902) for handling a substrate (928) is disclosed. The substrate handling apparatus includes a substrate feeding device (934) to feed the substrate towards an exposure area (904), a substrate receiving device (938) to receive the substrate from the exposure area, and a substrate stabilization device (946) to maintain, at least in the exposure area, the substrate substantially flat at an exposure height and/or tilt, the substrate stabilization device configured for contactless stabilization of the flexible substrate.
摘要翻译：公开了一种用于处理基板（928）的基板处理装置（902）。基板处理装置包括：基板馈送装置（934），用于将基板馈送到曝光区域（904）;基板接收装置（938），用于从曝光区域接收基板;以及基板稳定装置（946），用于维持至少在曝光区域中，基板在曝光高度和/或倾斜时基本平坦，所述基板稳定装置构造成用于柔性基板的非接触式稳定。

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