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1. 发明申请

WO2017153152A1 MULTILAYER REFLECTOR, METHOD OF MANUFACTURING A MULTILAYER REFLECTOR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS 审中-公开
标题翻译：多层反射器，制造多层反射器和光刻设备的方法
公开(公告)号：WO2017153152A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/EP2017/053643
申请日：2017-02-17
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： VAN BERKEL, Koos , KOEVOETS, Adrianus, Hendrik
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/24 , G02B7/18
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B7/1815 , G03F1/24 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： A reflector for EUV radiation, the reflector comprising a reflector substrate and a reflective surface, the reflector substrate having a plurality of coolant channels formed therein, the coolant channels being substantially straight, substantially parallel to each other and substantially parallel to the reflective surface and configured so that coolant flows in parallel through the coolant channels and in contact with the reflector substrate.
摘要翻译：一种用于EUV辐射的反射器，所述反射器包括反射器基板和反射表面，所述反射器基板具有形成在其中的多个冷却剂通道，所述冷却剂通道基本上是直的，彼此基本平行，以及基本上平行于反射表面并且被配置为使得冷却剂平行地流过冷却剂通道并且与反射器基板接触。

2. 发明申请

WO2016107714A1 RETICLE COOLING BY NON-UNIFORM GAS FLOW 审中-公开
标题翻译：非均匀气体流量的冷却
公开(公告)号：WO2016107714A1
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：PCT/EP2015/078318
申请日：2015-12-02
申请人： ASML HOLDING N.V. , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： VENTURINO, Thomas , SCHULTZ, Geoffrey , GALBURT, Daniel, Nicholas , BURBANK, Daniel, Nathan , DELPUERTO, Santiago, E. , VOGEL, Herman , ONVLEE, Johannes , VAN BOKHOVEN, Laurentius, Johannes, Adrianus , WARD, Christopher, Charles
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875
摘要： An apparatus, system, and method cool a patterning device by supplying a non-uniform gas flow. The apparatus and system include a gas supply structure that supplies a gas flow across the first surface of the patterning device. The gas supply structure includes a gas supply nozzle specially configured to create a non-uniform gas flow distribution. A greater volume or velocity of the gas flow is directed to desired portion of the patterning device.
摘要翻译：装置，系统和方法通过提供不均匀的气流冷却图案形成装置。该装置和系统包括一个气体供应结构，其供应穿过图案形成装置的第一表面的气流。气体供给结构包括特别构造成产生不均匀气体流量分布的气体供给喷嘴。气流的较大体积或速度被引导到图案形成装置的期望部分。

3. 发明申请

WO2016066392A1 COMPONENT FOR A LITHOGRAPHY TOOL, LITHOGRAPHY APPARATUS, INSPECTION TOOL AND A METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE 审中-公开
标题翻译：雕刻工具的组件，雕刻设备，检查工具以及制造设备的方法
公开(公告)号：WO2016066392A1
公开(公告)日：2016-05-06
申请号：PCT/EP2015/073213
申请日：2015-10-08
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： VAN DE RIJDT, Johannes, Hubertus, Antonius
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341 , G03F7/70783 , G03F7/70858 , G03F7/70891 , G03F7/709
摘要： A component for a lithography tool, the component comprising: • a member (50) having a primary surface (53); • a conduit (51) defined within the member and configured to receive a fluid under pressure; • a compressible region (52a, 52b) within the member and located between the conduit and the primary surface; and • a deformable region (55) between the compressible region and the conduit; • wherein the compressible region and the deformable region are configured to accommodate local deformation of the member resulting from the pressure of the fluid.
摘要翻译：一种用于光刻工具的部件，该部件包括：•具有主表面（53）的部件（50）; •导管（51），其限定在所述构件内并且构造成在压力下接收流体; •在所述构件内并位于所述导管和所述主表面之间的可压缩区域（52a，52b）和•可压缩区域和导管之间的可变形区域（55）; •其中所述可压缩区域和所述可变形区域构造成适应由所述流体的压力产生的所述构件的局部变形。

4. 发明申请

WO2016020170A1 A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN OBJECT POSITIONING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：平面设备和对象定位系统
公开(公告)号：WO2016020170A1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/EP2015/066314
申请日：2015-07-16
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： KOEVOETS, Adrianus, Hendrik , BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes , CORTIE, Rogier, Hendrikus, Magdalena , OVERKAMP, Jim, Vincent , NEEFS, Patricius, Jacobus , SAPUTRA, Putra , BLOKS, Ruud, Hendricus, Martinus, Johannes , RENDERS, Michael, Johannes, Hendrika, Wilhelmina , KUNNEN, Johan, Gertrudis, Cornelis , LAURENT, Thibault, Simon, Mathieu
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70341 , G03F7/70783 , G03F7/70875
摘要： A lithographic apparatus comprising an object table which carries an object. The lithographic apparatus may further comprise at least one sensor as part of a measurement system to measure a characteristic of the object table, the environment surrounding the lithographic apparatus or another component of the lithographic apparatus. The measured characteristic may be used to estimate the deformation of the object due to varying loads during operation of the lithographic apparatus, for example varying loads induced by a two- phase flow in a channel formed within the object table. Additionally, or alternatively, the lithographic apparatus comprises a predictor to estimate the deformation of the object based on a model. The positioning of the object table carrying the object can be controlled based on the estimated deformation. The positioning of a projection beam, used to pattern a substrate, can be controlled relative to the object, to alter the position of the pattern and/or the projection beam on the substrate, based on the estimated deformation.
摘要翻译：一种光刻设备，包括承载物体的物体台。光刻设备还可以包括至少一个传感器作为测量系统的一部分，以测量物体表的特征，光刻设备周围的环境或光刻设备的另一部件。测量的特性可以用于估计由于在光刻设备的操作期间变化的负载的物体的变形，例如由形成在物体表内的通道中的两相流引起的变化的负载。另外或替代地，光刻设备包括基于模型来估计物体的变形的预测器。可以基于估计的变形来控制携带物体的物体台的定位。基于估计的变形，可以相对于物体来控制用于图案化基板的投影光束的定位，以改变图案和/或投影光束在基板上的位置。

5. 发明申请

WO2016013589A1 載置用部材审中-公开
标题翻译：安装会员
公开(公告)号：WO2016013589A1
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：PCT/JP2015/070862
申请日：2015-07-22
申请人：京セラ株式会社
发明人：堀内　雅彦
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6833 , G03F7/70708 , G03F7/70875 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/6875
摘要：　対象物が載置される載置面を表面の一部に備える本体部と、該本体部の内部に設けられた流路と、前記流路の内面に設けられた、前記本体部に比べて熱伝導率が高い第１層とを備えていることを特徴とする載置用部材を提供する。
摘要翻译：本发明提供一种安装构件，其特征在于，具有：主体，其在所述表面的一部分上具有安装物体的安装面; 设置在主体内的流路; 以及设置在所述流路内部并且与所述主体相比具有更高导热性的第一层。

6. 发明申请

WO2013050243A1 CHUCK, LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF USING A CHUCK 审中-公开
标题翻译： CHUCK，LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF USING CHUCK
公开(公告)号：WO2013050243A1
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：PCT/EP2012/068386
申请日：2012-09-19
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： GILISSEN, Noud , LOOPSTRA, Erik , SIJBEN, Anko , CORNELISSEN, Bas , VAN SCHOOT, Jan , NOTENBOOM, Arnoud , VAN DER WILK, Ronald
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70708 , G03F7/707 , G03F7/70875 , G03F7/70908 , G10L15/08 , G10L2015/223 , H01L21/6831
摘要： A chuck, chuck control system, lithographic apparatus and method of using a chuck are disclosed. In an embodiment, there is provided a chuck (43) for use in holding a patterning device (MA) or a substrate (W) onto a supporting table (MT, WT) of a lithography apparatus (100) by electrostatic force, in which the patterning device is for imparting a radiation beam (B) with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, and the substrate is for receiving the patterned radiation beam; said chuck comprising: a dielectric member (45); a temperature conditioning fluid channel (48) formed within the chuck; a drive electrode (40, 42) for applying a potential difference between the drive electrode and the patterning device or substrate across the dielectric member in order to electrostatically attract the patterning device or substrate towards the drive electrode; and a first shield electrode (60) for reducing or preventing the development of an electric field across temperature conditioning fluid in the temperature conditioning fluid channel due to a voltage applied to the drive electrode, in order to reduce or prevent electrolysis in the fluid.
摘要翻译：公开了一种卡盘，卡盘控制系统，光刻设备和使用卡盘的方法。在一个实施例中，提供了一种用于通过静电力将图案形成装置（MA）或基板（W）保持在光刻设备（100）的支撑台（MT，WT）上的卡盘，其中图案形成装置用于在其横截面中赋予具有图案的辐射束（B）以形成图案化的辐射束，并且该衬底用于接收图案化的辐射束; 所述卡盘包括：电介质构件（45）; 形成在卡盘内的温度调节流体通道（48）用于在驱动电极和图案形成装置或基板之间跨越电介质构件施加电位差的驱动电极（40,42），以便静电地将图案形成装置或衬底吸引到驱动电极; 以及第一屏蔽电极（60），用于减少或防止由于施加到驱动电极的电压而在温度调节流体通道中的温度调节流体的电场的发展，以便减少或防止流体中的电解。

7. 发明申请

WO2011065380A1 プリアライメント装置及びプリアライメント方法审中-公开
标题翻译：预对准设备和预对准方法
公开(公告)号：WO2011065380A1
公开(公告)日：2011-06-03
申请号：PCT/JP2010/070933
申请日：2010-11-24
申请人：日本精工株式会社 , 橋永宙
发明人：橋永　宙
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70875 , G03F7/70991 , G03F9/7011 , H01L21/67109 , H01L21/67225
摘要：　露光ユニット全体を小型化することができ、また、タクトタイムの短縮を図ることができるプリアライメント装置及びプリアライメント方法を提供する。　プリアライメント装置２０は、精密温調プレート２２に載置された基板Ｗを温調する基板温調機構、精密温調プレート２２に載置された基板の異物を検出する異物検出機構３４を有することで、プリアライメント装置２０と基板温調機構と異物検出機構が単一の装置となり、また、搬送用ロボットの数も削減でき、露光ユニット全体を小型化することができる。また、温調が行われている基板にプリアライメント、異物検出を行うことで、タクトタイムの短縮を図ることができる。
摘要翻译：公开了一种可以减小整个曝光单元的尺寸的预对准装置，并且可以缩短节拍时间。还公开了预对准方法。预对准装置（20）具有控制放置在精密温度控制板（22）上的基板（W）的温度的基板温度控制机构和检测异物的异物检测机构（34）在放置在精密温度控制板（22）上的基板上。因此，预定位装置（20），基板温度控制机构和异物检测机构被集成到单个装置中，减少了传送机器人的数量，并且减小了整个曝光单元的尺寸。此外，通过对其温度进行控制的基板进行预对准和异物检测来缩短生产节拍时间。

8. 发明申请

WO2009150018A1 METHOD AND SYSTEM FOR THERMALLY CONDITIONING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：用于热调制光学元件的方法和系统
公开(公告)号：WO2009150018A1
公开(公告)日：2009-12-17
申请号：PCT/EP2009/056131
申请日：2009-05-20
申请人： ASML NETHERLANDS B.V. , SCHMITZ, Roger , VAN EMPEL, Tjarko , MUITJENS, Marcel , CHENG, Lun , JANSSEN, Frank , VAN HELDEN, William , VERSLUIS, Richard , SCHAAREMAN, Paul , LEXMOND, Axel , NIEUWKOOP, Evert , POTTS, Bill , LEMMEN, Martin , VAN DER GRAAF, Rik , DE KROON, Machteld , VELTHUIS, Han
发明人： SCHMITZ, Roger , VAN EMPEL, Tjarko , MUITJENS, Marcel , CHENG, Lun , JANSSEN, Frank , VAN HELDEN, William , VERSLUIS, Richard , SCHAAREMAN, Paul , LEXMOND, Axel , NIEUWKOOP, Evert , POTTS, Bill , LEMMEN, Martin , VAN DER GRAAF, Rik , DE KROON, Machteld , VELTHUIS, Han
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B7/008 , G03F7/70875 , G03F7/709 , G03F7/70983 , G21K2201/067
摘要： A method for thermally conditioning an optical element includes irradiating the optical element with radiation, not-irradiating the optical element with the radiation, allowing heat flow between the optical element and a conditioning fluid that is held in a conditioning fluid reservoir, and providing a fluid flow of the conditioning fluid, to supply thermally conditioned fluid to the reservoir. A flow rate of the fluid during the irradiating of the optical element is lower than a flow rate of the fluid when the optical element is not-irradiated.
摘要翻译：用于热调节光学元件的方法包括用辐射照射光学元件，不用辐射照射光学元件，允许光学元件和保持在调节液体储存器中的调节流体之间的热流动，并且提供流体调节流体的流动，以将热调节的流体供应到储存器。在光学元件的照射期间，流体的流量比不照射光学元件时的流体的流量低。

9. 发明申请

WO2009013278A1 VORRICHTUNG ZUR TEMPERATUREINSTELLUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
标题翻译： DEVICE FOR温度设定光学元素
公开(公告)号：WO2009013278A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059549
申请日：2008-07-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HEMBACHER, Stefan , HAUF, Markus
发明人： HEMBACHER, Stefan , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70291 , G03F7/70875
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Temperatureinstellung eines optischen Elements, insbesondere von optischen Elementen in Objektiven für die Mikrolithographie, wobei eine Kammer (1) zur Aufnahme mindestens eines optischen Elements, insbesondere einer Spiegelanordnung aus einer Vielzahl kleiner, verstellbarer, in einem Feld angeordneter Spiegel (Micro Mirror Array MMA) (4) mit mindestens einer transparenten Abdeckung (2) vorgesehen ist, wobei in der Kammer (1) ein Medium vorgesehen ist, welches eine höhere Wärmeleitfähigkeit als Luft aufweist, sowie ein Objektiv, insbesondere Beleuchtungsobjektiv für die Mikrolithographie mit einer entsprechenden Vorrichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于在透镜，用于微光刻的，用于接收至少一个光学元件，尤其是多个的小，可调节的反射镜组件设置的光学元件的温度，特别是光学元件，其特征在于，腔室（1），布置在视场反射镜（微反射镜阵列MMA）（4）设置有至少一个透明盖（2），其中，在被提供（1）的介质的腔室，其具有较高的热导率比空气，以及一个透镜，特别是照明目标与微光刻相应设备的。

10. 发明申请

WO2008122335A2 APPARATUS FOR MEASUREMENT OF SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：测量基板的装置
公开(公告)号：WO2008122335A2
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/EP2008001817
申请日：2008-03-07
申请人： ZEISS CARL SMS GMBH , STROESSNER ULRICH , KLOSE GERD , HOF ALBRECHT , FREY MONIKA
发明人： STROESSNER ULRICH , KLOSE GERD , HOF ALBRECHT , FREY MONIKA
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F1/84 , G03F7/70775 , G03F7/70875
摘要： The invention relates to an apparatus for measurement of substrates, comprising a carrier (2) for receiving the substrate to be measured; a measurement objective which images onto a detector a portion of the substrate held by the carrier (2); a measurement device by which the position of the carrier (2) is imaged onto a detector (12); a measurement device by which the position of the carrier (2) holding the substrate is determined relative to the measurement objective, with the measurement device comprising at least one laser interferometer (5) for position determination; a first flushing device which passes a first flushing medium in a laminar flow through the apparatus for generating a constant measurement atmosphere, as well as an adjustment device by which the carrier (2) can be moved relative to the measurement objective. In such an apparatus, a second flushing device is provided which passes a second flushing medium through the region of the measurement device in which the at least one laser interferometer (5) is located.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量衬底的设备，包括用于接收待测衬底的载体（2）测量目标，其将由载体（2）保持的基板的一部分成像到检测器上; 测量装置，通过该测量装置将载体（2）的位置成像到检测器（12）上; 测量装置，通过该测量装置，相对于测量目标确定保持基板的载体（2）的位置，测量装置包括用于位置确定的至少一个激光干涉仪（5）; 第一冲洗装置，其使层流中的第一冲洗介质通过用于产生恒定测量气氛的装置，以及调节装置，通过该调节装置，载体（2）能够相对于测量目标移动。在这种装置中，提供第二冲洗装置，其通过第二冲洗介质穿过至少一个激光干涉仪（5）所在的测量装置的区域。

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