专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2021239277A1 DÄMPFUNGSANORDNUNG ZUR SCHWINGUNGSDÄMPFUNG EINES ELEMENTS IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2021239277A1
公开(公告)日：2021-12-02
申请号：PCT/EP2021/054038
申请日：2021-02-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , NEFZI, Marwene , HEMBACHER, Stefan , SCHOENEN, David , KUGLER, Jens
发明人： NEFZI, Marwene , HEMBACHER, Stefan , SCHOENEN, David , KUGLER, Jens
IPC分类号： G03F7/20 , F16F5/00 , F16F9/00 , G02B7/02
摘要： Die Erfindung betrifft eine Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Eine erfindungsgemäße Dämpfungsanordnung weist ein Element (101, 401, 501), ein in einem Hohlraum befindliches Fluid (120, 220, 420, 520) und wenigstens einen an den Hohlraum angeschlossenen Kanal (130, 230, 430, 530) auf, wobei eine Schwingung des Elements durch teilweise Verdrängung des Fluids aus dem Hohlraum in den wenigstens einen Kanal eine Dissipation von Schwingungsenergie des Elements bewirkt.

2. 发明申请

WO2008122626A3 OPTICAL ELEMENT MODULE WITH IMAGING ERROR AND POSITION CORRECTION 审中-公开
标题翻译：具有成像误差和位置校正的光学元件模块
公开(公告)号：WO2008122626A3
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008054154
申请日：2008-04-07
申请人： ZEISS CARL SMT AG , GELLRICH BERNHARD , KUGLER JENS , LIMBACH GUIDO
发明人： GELLRICH BERNHARD , KUGLER JENS , LIMBACH GUIDO
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B27/0068 , G03F7/70258
摘要： There is provided an optical element module (106) comprising an optical element (107) and a support structure (108) supporting the optical element, the support structure comprising a first holding structure (109), an intermediate structure (110) and a second holding structure (111). The first holding structure (109) contacts the optical element (107) and is adapted to adjustably introduce defined deformations into the optical element. The intermediate structure (110) supports the first holding structure (109) while the second holding structure (111) supports the intermediate structure (110) and is adapted to adjust the -position of the intermediate structure. The optical element module is used 'in microlithography systems for compensating aberrations. The holding structures are arranged Kinematically in series. Also provided is an optical element module wherein the first holding structure is adapted to adjust the position and the second is adapted to adjustably introduce deformations. Further provided is an optical element module wherein one of the deformation or position adjustment is omitted.
摘要翻译：提供了一种包括光学元件（107）和支撑光学元件的支撑结构（108）的光学元件模块（106），该支撑结构包括第一保持结构（109），中间结构（110）和第二保持结构（111）。第一保持结构（109）接触光学元件（107）并且适于将限定的变形引入到光学元件中。中间结构（110）支撑第一保持结构（109），而第二保持结构（111）支撑中间结构（110）并且适于调节中间结构的位置。光学元件模块用于微光学系统中用于补偿像差。保持结构以运动学方式排列。还提供了一种光学元件模块，其中第一保持结构适于调节位置，第二保持结构适于可调节地引入变形。还提供了一种光学元件模块，其中省略了变形或位置调整之一。

3. 发明申请

WO2008122313A1 OPTICAL ELEMENT MODULE WITH IMAGING ERROR AND POSITION CORRECTION 审中-公开
标题翻译：具有成像误差和位置校正的光学元件模块
公开(公告)号：WO2008122313A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/EP2007/053382
申请日：2007-04-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , LIMBACH, Guido
发明人： GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , LIMBACH, Guido
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B27/0068 , G03F7/70258
摘要： There is provided an optical element module (106) comprising an optical element (107) and a support structure (108) supporting the optical element, the support structure comprising a first holding structure (109), an intermediate structure (110) and a second holding structure (111). The first holding structure (109) contacts the optical element (107) and is adapted to adjustably introduce defined deformations into the optical element. The intermediate structure (110) supports the first holding structure (109) while the second holding structure (111) supports the intermediate structure (110) and is adapted to adjust the position of the intermediate structure. The optical element module is used in microlithography systems for compensating aberrations. The holding structures are arranged Rinematically in series.
摘要翻译：提供了一种包括光学元件（107）和支撑光学元件的支撑结构（108）的光学元件模块（106），该支撑结构包括第一保持结构（109），中间结构（110）和第二保持结构（111）。第一保持结构（109）接触光学元件（107）并且适于将限定的变形引入到光学元件中。中间结构（110）支撑第一保持结构（109），而第二保持结构（111）支撑中间结构（110）并且适于调节中间结构的位置。光学元件模块用于微光刻系统中用于补偿像差。保持结构以串联方式排列。

4. 发明申请

WO2007128835A1 OPTICAL IMAGING DEVICE WITH THERMAL ATTENUATION 审中-公开
标题翻译：具有热衰减的光学成像装置
公开(公告)号：WO2007128835A1
公开(公告)日：2007-11-15
申请号：PCT/EP2007/054503
申请日：2007-05-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , ITTNER, Thomas , HEMBACHER, Stefan , SCHIMITZEK, Karl-Heinz , TAYEBATI, Payam , HOLDERER, Hubert
发明人： GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , ITTNER, Thomas , HEMBACHER, Stefan , SCHIMITZEK, Karl-Heinz , TAYEBATI, Payam , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： An optical imaging device, in particular for use in microlithography, comprising a mask device for receiving a mask comprising a projection pattern, a projection device with an optical element group, a substrate device for receiving a substrate and an immersion zone. The optical element group is adapted to project the projection pattern onto the substrate and comprises a plurality of optical elements with an immersion element to which the substrate is at least temporarily located adjacent to during operation. During operation, the immersion zone is located between the immersion element and the substrate and is at least temporarily filled with an immersion medium. According to the invention a thermal attenuation device is provided, said thermal attenuation device being adapted to reduce fluctuations within the temperature distribution TE of the immersion element induced by the immersion medium.
摘要翻译：特别是用于微光刻的光学成像装置，包括用于接收包括投影图案的掩模的掩模装置，具有光学元件组的投影装置，用于接收基板的基板装置和浸没区。光学元件组适于将投影图案投影到基板上，并且包括具有浸没元件的多个光学元件，基板在操作期间至少临时定位到该元件。在操作期间，浸没区域位于浸没元件和基底之间，并且至少暂时填充浸没介质。根据本发明，提供一种热衰减装置，所述热衰减装置适于减少由浸没介质引起的浸没元件的温度分布TE内的波动。

5. 发明申请

WO2005101131A1 SUPPORT DEVICE FOR POSITIONING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：用于定位光学元件的支撑装置
公开(公告)号：WO2005101131A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/EP2004/003920
申请日：2004-04-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , HAFENRICHTER, Sabine
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , HAFENRICHTER, Sabine
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023
摘要： Support device for positioning an optical element (2), in particular a lens, comprising a first frame unit (1.1) and a plurality of support units (1.2) for supporting said optical element (2), each of said support units (2) having a first end for fixedly engaging a part of said first frame unit (1.1) and a second end for supporting said optical element (2), said support units (1.2) being arranged for positioning said optical element (2) along a first direction, a second direction and a third direction in the manner of parallel kinematics, said first direction, said second direction and said third direction being translatory directions arranged mutually transverse to each other, wherein there are provided three support units (1.2) and wherein each of said support units (1.2) provides for restriction of a first degree of freedom and a second degree of freedom to support said optical element (2) in an isostatic manner.
摘要翻译：用于定位光学元件（2）的支撑装置，特别是透镜，包括用于支撑所述光学元件（2）的第一框架单元（1.1）和多个支撑单元（1.2），每个所述支撑单元（2）具有用于固定地接合所述第一框架单元（1.1）的一部分的第一端和用于支撑所述光学元件（2）的第二端，所述支撑单元（1.2）布置成用于沿着第一方向定位所述光学元件（2），平行运动学方式的第二方向和第三方向，所述第一方向，所述第二方向和所述第三方向是彼此相互横向布置的平移方向，其中设置有三个支撑单元（1.2），并且其中所述支撑单元（1.2）提供限制第一自由度和第二自由度以等静压方式支撑所述光学元件（2）。

6. 发明申请

WO2005015315A3 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUM EINBRINGEN EINER IMMERSIONSFLÜSSIGKEIT IN EINEM IMMERSIONSRAUM 审中-公开
公开(公告)号：WO2005015315A3
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/EP2004/007456
申请日：2004-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GELLRICH, Bernhard , REISINGER, Gerd , SCHMEREK, Dieter , KUGLER, Jens
发明人： GELLRICH, Bernhard , REISINGER, Gerd , SCHMEREK, Dieter , KUGLER, Jens
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie umfaßt eine Beleuchtungseinrichtung zur Erzeugung von Projektionslicht und ein Projektionsobjektiv mit mehreren optischen Elementen wie z.B. Linsen (L5), mit dem ein in einer Objektebene des Projektionsobjektivs anordenbares Retikel auf eine in einer Bildebene des Projektionsobjektivs anordenbare und auf einem Träger (30) aufgebrachte lichtempfindliche Oberfläche (26) abbildbar ist. Ferner ist eine Immersionseinrichtung zum Einbringen einer Immersionsflüssigkeit (34) in einen Immersionsraum (50) zwischen einem bildseitig letzten optischen Element (L5) des Projektionsobjektivs und der lichtempfindlichen Oberfläche (26) vorgesehen. Die Immersionseinrichtung weist Mittel (44; 66) auf, durch die das Auftreten von die Abbildungsqualität beeinträchtigenden Gasblasen (48) in der Immersionsflüssigkeit (34) verhindert werden kann und/oder bereits aufgetretene Gasblasen (48) entfernt werden können. Bei diesen Mitteln kann es sich z.B. um eine Ultraschallquelle (66) oder einen Entgaser (44) handeln.

7. 发明申请

WO2002093257A3 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE DER MIKROLITHOGRAPHIE, 审中-公开
公开(公告)号：WO2002093257A3
公开(公告)日：2002-11-21
申请号：PCT/EP2002/004900
申请日：2002-05-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BRUNOTTE, Martin , HARTMAIER, Jürgen , HOLDERER, Hubert , KAISER, Winfried , KOHL, Alexander , KUGLER, Jens , MAUL, Manfred , WAGNER, Christian
发明人： BRUNOTTE, Martin , HARTMAIER, Jürgen , HOLDERER, Hubert , KAISER, Winfried , KOHL, Alexander , KUGLER, Jens , MAUL, Manfred , WAGNER, Christian
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Bei einer Projektionsbelichtungsanlage besonders mit 157 oder 193 nm und bildseitigen NA von 0,8 bis 0,95, mit Fluorid-Kristallinsen (43, 43) wird deren winkelabhängige Doppelbrechung durch Relativdrehung um die optische Achse (O) und/oder durch ein Korrekturelement (44) nahe einer Pupillenenbene (P) in ihrem störenden Effekt vermindert.

8. 发明申请

WO2009043573A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是投影目标的微观算法
公开(公告)号：WO2009043573A1
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/EP2008/008288
申请日：2008-09-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , SCHWERTNER, Tilman
发明人： KUGLER, Jens , SCHWERTNER, Tilman
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B7/1822 , G03F7/70816
摘要： An optical system comprising at least one optical element (8, 80) is provided with adjusting elements. The optical element (8, 80) is connected to a rotatable carrying ring (12) via at least one connecting member (13) arranged on the carrying ring (12) directly or via one or a plurality of intermediate elements (14, 15) to the optical element (8). The rotatable carrying ring (12) is borne in a manner freely rotatable about an axis (z) relative to a fixed outer mount (9) or the optical element (8, 80) by means of a rotating device (16) wherein the outer mount (9), the rotatable carrying ring (12) and the connecting members (13) are constructed as rotatable kinematics in the form of parallel kinematics.
摘要翻译：包括至少一个光学元件（8,80）的光学系统设置有调节元件。光学元件（8,80）通过直接或经由一个或多个中间元件（14,15）布置在承载环（12）上的至少一个连接构件（13）连接到可旋转的承载环（12）到光学元件（8）。可旋转的承载环（12）以相对于固定的外部安装件（9）或光学元件（8,80）的轴线（z）可旋转的装置（16）承载，其中外部安装件（9），可旋转承载环（12）和连接构件（13）构造为平行运动学形式的可旋转运动学。

9. 发明申请

WO2009024192A1 OPTICAL ELEMENT MODULE WITH MINIMIZED PARASITIC LOADS 审中-公开
标题翻译：具有最小化PARASIIC负载的光学元件模块
公开(公告)号：WO2009024192A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/EP2007/058787
申请日：2007-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , SCHAFFER, Dirk
发明人： KUGLER, Jens , WEBER, Ulrich , SCHAFFER, Dirk
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/02 , G02B7/021 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element module comprising an optical element unit comprising an optical element and a support structure, the support structure supporting the optical element unit and comprising a support device and a contact device mounted to the support device. The contact device exerts a resulting holding force onto the optical element unit in a first direction via a first contact surface of the contact device, the first contact surface contacting a second contact surface of the optical element unit. The contact device comprises a first linking section and a second linking section extending along a second direction running transverse to the first direction and being arranged kinematically in series between the first contact surface and the support device. The first linking section and the second linking section are elastically deformed in response to a bending moment resulting from the resulting holding force. The first linking section and the second linking section are arranged on opposite sides of a reference plane, the reference plane comprising the resulting holding force and running transverse to the second direction.
摘要翻译：提供了一种光学元件模块，其包括光学元件单元，该光学元件单元包括光学元件和支撑结构，支撑结构支撑光学元件单元并且包括支撑装置和安装到支撑装置的接触装置。接触装置经由接触装置的第一接触表面在第一方向上向光学元件单元施加所产生的保持力，第一接触表面接触光学元件单元的第二接触表面。接触装置包括第一连接部分和沿着横向于第一方向延伸的第二方向延伸的第二连接部分，并且在第一接触表面和支撑装置之间以运动方式串联布置。第一连接部分和第二连接部分响应于由所产生的夹持力产生的弯矩而弹性变形。第一连接部分和第二连接部分布置在参考平面的相对侧上，参考平面包括所产生的夹持力并横向于第二方向延伸。

10. 发明申请

WO2007112997A1 REFLECTING OPTICAL ELEMENT WITH ECCENTRIC OPTICAL PASSAGEWAY 审中-公开
标题翻译：用偏心光学通道反射光学元件
公开(公告)号：WO2007112997A1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/EP2007/002951
申请日：2007-04-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
发明人： SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body (107.1, 108.1), a reflecting area (107.4, 108.4) and an optical passageway (107.6, 108.6). The optical element body defines an axis of rotational symmetry (107.3, 108.3). The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.
摘要翻译：提供了一种光学元件，包括光学元件主体（107.1,108.1），反射区域（107.4,108.4）和光学通道（107.6,108.6）。光学元件主体限定旋转对称轴（107.3,108.3）。反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式