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    • 53. 发明申请
    • センサパッケージ
    • 传感器包装
    • WO2003102601A1
    • 2003-12-11
    • PCT/JP2003/006784
    • 2003-05-29
    • 松下電工株式会社古久保 英一堀 正美野原 一也
    • 古久保 英一堀 正美野原 一也
    • G01P15/08
    • B81B7/0048B81B2201/0235B81C2203/032G01P1/023G01P15/0802G01P15/125H01L24/32H01L2224/05554H01L2224/48091H01L2224/48227H01L2224/49171H01L2224/73265H01L2224/83385H01L2924/16195H01L2924/3511H05K3/3442H01L2924/00014
    • このセンサパッケージPは、プリント基板200へ表面実装されるタイプであり、出力パッド101を有する半導体加速度センサチップ100を納めるケース1を備える。上記ケース1は底壁10を有し、上記底壁10は上記半導体加速度センサチップ100を保持する中央領域10aと、周縁領域10bとに区画される。上記周縁領域10bの外面に出力電極15が形成され、この出力電極15は上記出力パッド101と電気接続されている。この出力電極15をプリント基板200へ半田結合することで、半導体加速度センサチップ100の出力をこの出力電極15を介してプリント基板200の電気回路に電気接続すると共にセンサパッケージPをプリント基板上に機械的に保持する。そして、上記底壁10の内面において、上記中央領域10aと上記周縁領域10bとの間に溝12が設けられている。
    • 传感器封装(P)是表面安装在印刷电路板(200)上的类型,并且包括其中容纳有具有输出焊盘(101)的半导体加速度传感器芯片(100)的壳体(1)。 壳体(1)具有分隔成半导体加速度传感器芯片(100)被保持的中心区域(10a)的底壁(10)和周边区域(10b)。 输出电极(15)形成在外围区域(10b)的外表面上并电连接到输出焊盘(101)。 通过将输出电极(15)焊接到印刷电路板(200),半导体加速度传感器芯片(100)的输出通过输出电极(15)电连接到印刷电路板(200)的电路,并且 传感器封装(P)被机械地保持在印刷电路板上。 在底壁(10)的内表面上,在中心区域(10a)和周边区域(10b)之间形成有槽(12)。
    • 56. 发明申请
    • MEMS-BAUELEMENT MIT EINER STRESSENTKOPPLUNGSSTRUKTUR UND BAUTEIL MIT EINEM SOLCHEN MEMS-BAUELEMENT
    • 用这样的MEMS元件应力解耦组成和结构MEMS元件
    • WO2015185455A1
    • 2015-12-10
    • PCT/EP2015/061984
    • 2015-05-29
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • CLASSEN, JohannesREINMUTH, JochenHATTASS, MirkoREICHENBACH, RalfPUYGRANIER, Antoine
    • B81B7/00
    • B81B7/0048B81B2207/012B81B2207/07H01L2224/16225
    • Es werden Maßnahmen vorgeschlagen, die auf einfache Weise und zuverlässig zur mechanischen Entkopplung eines MEMS-Funktionselements aus dem Aufbau eines MEMS-Bauelements beitragen. Das MEMS-Bauelement (110) umfasst mindestens ein auslenkbares Funktionselement (14), das in einem Schichtaufbau (12) auf einem MEMS-Substrat (11) realisiert ist, so dass zwischen dem Schichtaufbau (12) und dem MEMS-Substrat (11) zumindest im Bereich des Funktionselements (14) ein Zwischenraum (15) besteht. Erfindungsgemäß ist im MEMS-Substrat eine Stressentkopplungsstruktur (17) in Form einer sacklochartigen Grabenstruktur (171) ausgebildet, die zu dem Zwischenraum (15) zwischen dem Schichtaufbau (12) und dem MEMS-Substrat (11) geöffnet ist und sich nur bis zu einer vorgegebenen Tiefe ins MEMS-Substrat (11) erstreckt, so dass das MEMS-Substrat (11) zumindest im Bereich der Grabenstruktur (171) rückseitig geschlossen ist.
    • 有迹象表明,有助于容易且可靠地用于MEMS器件的结构的MEMS功能元件的机械去耦提出的措施。 的MEMS装置(110)包括其在MEMS衬底(11)上的层结构(12)实现的,至少一个可偏转的功能元件(14),以使层结构(12)和MEMS衬底(11)之间 至少在所述功能元件(14)的空间(15)的区域中。 在一个盲孔状的严重结构(171)的形式,根据本发明的MEMS衬底适于将所述中间空间(15)(12)和MEMS衬底(11)的应力去耦结构(17)的层结构之间,并且最多只有一个开 预定深度到MEMS衬底(11),从而使MEMS衬底(11)至少在严重的结构(171)的区域中的后部封闭。
    • 58. 发明申请
    • MIKROMECHANISCHE DRUCKSENSORVORRICHTUNG UND ENTSPRECHENDES HERSTELLUNGSVERFAHREN
    • MICRO机械压力传感器装置及相应方法
    • WO2015106855A1
    • 2015-07-23
    • PCT/EP2014/074752
    • 2014-11-17
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • CLASSEN, JohannesREINMUTH, JochenKAELBERER, Arnd
    • G01L9/00G01L13/02G01L19/06
    • G01L9/0041B81B7/0048B81B2201/0235B81B2201/0242B81B2201/0264B81B2207/012G01L9/0073G01L13/026G01L19/0636
    • Die Erfindung schafft eine mikromechanische Drucksensorvorrichtung und ein entsprechendes Herstellungsverfahren. Die mikromechanische Drucksensorvorrichtung umfasst einen ASIC-Wafer (1 a) mit einer Vorderseite (VSa) und einer Rückseite (RSa) und eine auf der Vorderseite (VSa) des ASIC-Wafers (1 a) gebildeten Umverdrahtungseinnchtung (25a) mit einer Mehrzahl von gestapelten Leiterbahnebenen (LB0, LB1) und Isolationsschichten (I). Weiterhin umfasst sie einen MEMS-Wafer (1) mit einer Vorderseite (VS) und einer Rückseite (RS), eine über der Vorderseite (VS) des MEMS-Wafers (1) gebildeten ersten mikromechanischen Funktionsschicht (3) und eine über der ersten mikromechanischen Funktionsschicht (3) gebildeten zweiten mikromechanischen Funktionsschicht (5). In einer der ersten und zweiten mikromechanischen Funktionsschicht (3; 5) ist ein Membranbereich (16; 16a; 16') als eine auslenkbare erste Druckdetektionselektrode ausgebildet, welcher über eine Durchgangsöffnung (12; 12'; 12a') im MEMS-Wafer (1) mit Druck beaufschlagbar ist. In der anderen der ersten und zweiten mikromechanischen Funktionsschicht (3; 5) ist eine feststehende zweite Druckdetektionselektrode (11'; 11"; 11"'; 11""; 11a; 111) beabstandet gegenüberliegend dem Membranbereich (16; 16a; 16') ausgebildet. Die zweite mikromechanische Funktionsschicht (5) ist über eine Bondverbindung (7; 7, 7a; 7, 7b) mit der Umverdrahtungseinrichtung (25a) derart verbunden ist, dass die feststehende zweite Druckdetektionselektrode (11 '; 11"; 11"'; 11""; 11a; 111) in einer Kaverne (9; 9a) eingeschlossen ist.
    • 本发明提供了一种微机械压力传感器装置和相应的制造方法。 微机械压力传感器装置包括一个ASIC晶片(1 a)具有前表面(VSA)和背面(RSA)和一个在具有多个堆叠在所述ASIC晶片(1)形成Umverdrahtungseinnchtung(25A)的前面(VSA) 导体轨道平面(LB0,LB1)和绝缘层(I)。 此外,它包括(1)具有形成的前侧(VS)和后侧(RS),一个在MEMS晶片(1)的前侧(VS)第一微机械功能层的MEMS晶片(3)以及在所述第一微机械 (5)形成的功能层(3)第二微机械的功能层。 在第一和第二微机械的功能层(3; 5)中的一个是膜部分(16; 16; 16A“)形成为可偏转的第1压力检测电极,其通过通孔(12; 12”; 12A“)在MEMS晶片(1 )可以在与压力被作用。 (11 '; 11 “; 11”'; 11 “”; 11; 111),在所述第一和第二微机械的功能层(3 5)的是隔膜部相对地间隔开固定的第二压力检测电极(16; 16A; 16“) 形成。 第二微机械功能层(5)经由接合连接而连接(7; 7,图7A,图7,图7b)被连接到再布线装置(25A),使得所述固定的第二压力检测电极(11“; 11‘; 11’”; 11“ “; 11A; 111)中的腔(9; 9A)也包括在内。
    • 59. 发明申请
    • アクチュエータ
    • 执行器
    • WO2015004710A1
    • 2015-01-15
    • PCT/JP2013/068634
    • 2013-07-08
    • パイオニア株式会社パイオニア・マイクロ・テクノロジー株式会社
    • 藤本 健二郎山村 雄一
    • G02B26/10
    • G02B26/101B81B7/0048B81B2201/042B81B2203/0154B81B2203/058G02B26/085
    •  アクチュエータ(1)は、平面状の可動部(120)と、可動部を支持するための支持部(210)と、長手方向に沿った回転軸を中心として可動部が揺動可能なように、長手方向に沿って可動部と支持部とを接続するトーションバー(230)と、を備える。可動部の一の表面には、反射部(121)が形成されており、可動部の該一の表面とは反対側の他の表面には、当該可動部の平坦性を維持する一又は複数のリブ(123)が形成されている。一又は複数のリブに含まれる第1リブは、他の表面上で短手方向に沿って延びている。他の表面上で平面的に見て、第1リブのトーションバー側の側面は、回転軸から離れた部分において凹であり、前記側面の回転軸から離れた部分における凹の程度は、前記側面の回転軸近傍の凹の程度に比べて大きい。
    • 致动器(1)设置有:平面可动部分(120); 用于支撑可移动部分的支撑部分(210); 以及扭力杆(230),其将所述可动部和所述支撑部在长度方向上彼此连接,使得所述可动部能够以中心的长度方向的旋转轴摆动。 在可移动部分的一个表面上形成反射部分,并且在一个表面的相反侧上的另一可动部分表面上,保持可动部分的平面度的一个或多个肋条123是 形成。 一个或多个肋中包括的第一肋在另一个表面上沿横向方向延伸。 在平面图的另一面上,扭杆侧的第一肋侧表面在距离旋转轴线一定距离的部分处具有凹陷形状,并且侧表面部分的凹部的距离距离 旋转轴与靠近旋转轴的侧面凹部的程度相比较大。