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    • 33. 发明申请
    • 不揮発性半導体記憶装置及びその消去方法
    • 非易失性半导体存储器件及其擦除方法
    • WO2011064866A1
    • 2011-06-03
    • PCT/JP2009/069974
    • 2009-11-26
    • 富士通セミコンダクター株式会社鳥井 智史
    • 鳥井 智史
    • H01L21/8247G11C16/02G11C16/06H01L27/10H01L27/115H01L29/788H01L29/792
    • G11C16/14H01L21/823462H01L27/0922H01L27/11519H01L27/11526H01L27/11546
    •  メモリセルMCのドレイン側を共通接続する第1のビット線LBLと、メモリセルトランジスタMTのコントロールゲートを共通接続するワード線WLと、第2のビット線MBLの電位を制御する列デコーダ12と、ワード線の電位を制御する行デコーダ14と、第1のビット線と第2のビット線との間に設けられた第1のトランジスタであって、ソースが第1のビット線に接続され、ドレインが第2のビット線を介して列デコーダに接続された第1のトランジスタSSTと、第1のトランジスタのゲートの電位を制御する第1の制御部23とを有し、メモリセルは第1のウェル26上に形成されており、第1のトランジスタは第1のウェルと電気的に分離された第2のウェル74PS上に形成されており、第1のトランジスタのゲート絶縁膜の膜厚は、行デコーダ内に設けられ、ワード線に接続された第2のトランジスタのゲート絶縁膜の膜厚より薄い。
    • 公开了一种非易失性半导体存储器件,其具有:在存储器单元(MC)的漏极侧之间形成公共连接的第一位线(LBL); 形成存储单元晶体管(MT)的控制栅极之间的公共连接的字线(WL); 控制第二位线(MBL)的电位的列解码器(12); 行解码器(14),其控制字线的电位; 设置在第一位线和第二位线之间的第一晶体管(SST),其源极连接到第一位线,其漏极经由第二位线连接到列解码器; 以及控制第一晶体管的栅极的电位的第一控制单元(23)。 存储单元形成在第一阱(26)中,并且第一晶体管形成在与第一阱电隔离的第二阱(74PS)中。 第一晶体管上的栅极绝缘膜比在行解码器中设置并连接到字线的第二晶体管上的栅极绝缘膜薄。
    • 35. 发明申请
    • 不揮発性半導体記憶装置における書き込み方法及び不揮発性半導体記憶装置
    • 用于写入非易失性半导体存储器件和非易失性半导体存储器件的方法
    • WO2011055755A1
    • 2011-05-12
    • PCT/JP2010/069622
    • 2010-11-04
    • 三井田 高
    • 三井田 高
    • G11C16/02G11C16/04G11C16/06H01L21/8247H01L27/115H01L29/788H01L29/792
    • G11C16/3418G11C16/0483G11C16/10H01L27/11521
    •  N型の半導体からなるNウェルの中にP型の半導体からなるPウェルを形成するとともに、前記Pウェルの表面上に、電気的に書き換え可能な複数の不揮発性のメモリセルを直列に接続したNAND束をマトリックス状に配列してなるメモリセルアレイを具備する不揮発性半導体記憶装置における書き込み方法であって、前記メモリセルに対する書き込み期間(t0→t4の期間)におけるプログラム電圧の印加による書き込み動作(t3→t4の期間)の前の期間に前記NAND束の全てのメモリセルのワード線に第1の電圧を印加するとともに、前記Pウェルに第1の電圧よりも高い第2の電圧CPWを印加し、さらに前記書き込み期間において前記Pウェルに対し前記Nウェルが逆バイアスされるように前記Pウェル及び前記Nウェル間に逆バイアス電圧CNWを印加する。
    • 公开了一种在由N型半导体制成的N阱中形成的P型半导体构成的P阱的非易失性半导体存储器件中写入的方法,其特征在于,具备由 以矩阵形式布置在其中多个电可重写非易失性存储单元串联连接的P阱NAND束的表面上。 在通过在写入周期(周期t0〜t4)中施加编程电压而执行的写入操作(周期t3→t4)之前的周期期间,将第一电压施加到NAND束中的所有存储单元的字线, 并且将高于第一电压的第二电压(CPW)施加到P阱。 此外,在P阱和N阱之间施加反向偏置电压(CNW),使得N阱在写入周期内相对于P阱反向偏置。
    • 36. 发明申请
    • 不揮発性メモリ
    • 非易失性存储器
    • WO2010146770A1
    • 2010-12-23
    • PCT/JP2010/003415
    • 2010-05-21
    • パナソニック株式会社冨田泰弘
    • 冨田泰弘
    • G11C16/06G11C16/02
    • G11C16/0475G11C16/10
    •  不揮発性メモリにおいて、バッファ6に、対向ビットがプログラム状態である外部ビットデータを格納して、プログラムを行う。プログラムレベルはパルス毎にステップアップする。プログラムレベルがしきい値に到達すると、前記バッファ6に未プログラムデータを格納し、プログラムを継続する。従って、対向ビットのプログラム状態によりプログラム特性が変動し、プログラムパルス数の増加やプログラム時のしきい値分布が広がることを抑制し、低コストで高速かつ高信頼性のプログラムを実現する。
    • 公开了一种非易失性存储器,其中相对的位表示程序的执行状态的外部位数据被存储在缓冲器(6)中,并且执行程序。 程序执行级别在每个脉冲上加大。 当程序执行级别达到阈值时,默认数据存储在缓冲区(6)中,程序继续执行。 以这种方式,可以抑制由相对位的程序执行状态引起的程序执行特性的变化,程序执行脉冲的数量的增加和执行程序时的阈值分布的扩展,以及程序 可高速执行,可靠性高,成本低廉。