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1. 发明专利

TWI614722B 用於檢測晶圓上缺陷之系統有权
简体标题：用于检测晶圆上缺陷之系统
公开(公告)号：TWI614722B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW106133889
申请日：2014-02-05
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：吳肯翁 , WU,KENONG , 高理升 , GAO,LISHENG , 陳葛雷斯秀-玲 , CHEN,GRACE HSIU-LING , 碩爾特大衛 W , SHORTT,DAVID W.
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G06T7/0008 , G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8822 , G01N2021/8848 , G06T7/001 , G06T2207/30148 , H01L22/12 , H01L22/34

2. 发明专利

TW201802461A 藉由雷射都卜勒效應以檢測用於微電子或光學的晶圓之方法與系統审中-公开
简体标题：借由激光都卜勒效应以检测用于微电子或光学的晶圆之方法与系统
公开(公告)号：TW201802461A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106110548
申请日：2017-03-29
申请人：統一半導體公司 , UNITY SEMICONDUCTOR
发明人：格斯塔多飛利浦 , GASTALDO, PHILIPPE , 杜瑞恩德迪濟維格尼馬耶爾 , DURAND DE GEVIGNEY, MAYEUL , 寇慢拜耳特瑞史坦恩 , COMBIER, TRISTAN
IPC分类号： G01N21/95
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/8806
摘要：本發明係關於一種用以檢測用於微電子、光學或光電子學的晶圓(2)之方法，其包含：- 關於垂直於該晶圓的一個主表面(S)之一個對稱軸(X)而轉動晶圓(2)；- 從其和一個干涉測量裝置(30)為耦合的一個光源(20)而發出二個入射的光束，以便在該二束之間的相交處而形成含有干涉條紋之一個測量容體(V)，經配置以使得該晶圓的主表面(S)的一個區域係通過該測量容體的至少一個條紋，朝晶圓的一個徑向方向之該測量容體的尺度(Dy)係包含在5與100μm之間；- 收集由晶圓的該區域所散射之至少一部分的光線；- 取得該收集的光線，且發出一個電氣訊號，其代表該收集的光線之光強度的變化而為時間的一個函數；- 在該訊號中偵測在該收集的光線中之一個頻率分量，該頻率係通過該測量容體之一個缺陷的時間表徵。
简体摘要：本发明系关于一种用以检测用于微电子、光学或光电子学的晶圆(2)之方法，其包含：- 关于垂直于该晶圆的一个主表面(S)之一个对称轴(X)而转动晶圆(2)；- 从其和一个干涉测量设备(30)为耦合的一个光源(20)而发出二个入射的光束，以便在该二束之间的相交处而形成含有干涉条纹之一个测量容体(V)，经配置以使得该晶圆的主表面(S)的一个区域系通过该测量容体的至少一个条纹，朝晶圆的一个径向方向之该测量容体的尺度(Dy)系包含在5与100μm之间；- 收集由晶圆的该区域所散射之至少一部分的光线；- 取得该收集的光线，且发出一个电气信号，其代表该收集的光线之光强度的变化而为时间的一个函数；- 在该信号中侦测在该收集的光线中之一个频率分量，该频率系通过该测量容体之一个缺陷的时间表征。

3. 发明专利

TW201801131A 多通道光倍增管總成审中-公开
简体标题：多信道光倍增管总成
公开(公告)号：TW201801131A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106110496
申请日：2017-03-29
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：麥凱德瑞克 , MACKAY, DEREK
IPC分类号： H01J40/04 , H01J43/20 , H01J43/06 , G01N21/88 , G01N21/95
CPC分类号： H01J43/20 , G01N21/8806 , G01N21/9501
摘要：本發明揭示一種多通道光倍增管(PMT)偵測器總成，其包含一光陰極。該偵測器總成包含一第一倍增極通道，其包含一第一組倍增極(dynode)路徑。該第一組倍增極路徑包含複數個倍增極級，其經組態以接收光電子之一第一部分且將一第一經放大光電子電流導引至一第一陽極上。該偵測器總成包含一額外倍增極通道，其包含一額外組倍增極路徑。該額外組倍增極路徑包含複數個倍增極級，其經組態以接收光電子之一額外部分且將一額外經放大光電子電流導引至一額外陽極上。該偵測器總成包含一柵極，其經組態以將光電子之該第一部分導引至該第一組路徑之一或多者且將光電子之一額外部分導引至該額外組路徑之一或多者。
简体摘要：本发明揭示一种多信道光倍增管(PMT)侦测器总成，其包含一光阴极。该侦测器总成包含一第一倍增极信道，其包含一第一组倍增极(dynode)路径。该第一组倍增极路径包含复数个倍增极级，其经组态以接收光电子之一第一部分且将一第一经放大光电子电流导引至一第一阳极上。该侦测器总成包含一额外倍增极信道，其包含一额外组倍增极路径。该额外组倍增极路径包含复数个倍增极级，其经组态以接收光电子之一额外部分且将一额外经放大光电子电流导引至一额外阳极上。该侦测器总成包含一栅极，其经组态以将光电子之该第一部分导引至该第一组路径之一或多者且将光电子之一额外部分导引至该额外组路径之一或多者。

4. 发明专利

TWI605246B 檢查裝置有权
简体标题：检查设备
公开(公告)号：TWI605246B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW101112956
申请日：2012-04-12
申请人：伊斯美加半導體控股公司 , ISMECA SEMICONDUCTOR HOLDING SA
发明人：克法菲羅法蘭寇 , CRAVEIRO, FRANCO , 艾瑞亞爾彼瑞克 , ABRIAL, PIERRICK , 謝耀勇 , SIA, YAW YOONG
IPC分类号： G01N21/88
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/95 , G01N21/95684

5. 发明专利

TW201734435A 用於在檢測系統中聚焦的方法及裝置审中-公开
简体标题：用于在检测系统中聚焦的方法及设备
公开(公告)号：TW201734435A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105142407
申请日：2016-12-21
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：薛瑪葉伊慈康斯坦那屈 , SHMAREV, YEVGENIY KONSTANTINOVICH , 史莫諾夫史塔尼拉夫 , SMIRNOV, STANISLAV , 曾倩虹 , TSENG, CHIEN-HUNG , 柯蘭愛曼德尤金尼愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/95 , G01N21/956 , G03F7/20
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8822 , G01N2021/95676 , G01N2201/0638 , G03F7/70625 , G03F7/70641
摘要：本發明係關於一種檢測設備，其包括：一基板固持器，其經組態以固持一基板；一孔徑裝置；及一光學系統，其經組態以將一第一量測輻射光束導向至該基板上，該第一量測光束具有一第一強度分佈，且該光學系統經組態以在與將該第一量測光束導向於該基板上之時間相同的一時間將一第二聚焦輻射光束導向至該基板上，該第二聚焦光束具有一第二強度分佈，其中該第二強度分佈之至少部分至少在該基板及/或該孔徑裝置處與該第一強度分佈空間上分離。
简体摘要：本发明系关于一种检测设备，其包括：一基板固持器，其经组态以固持一基板；一孔径设备；及一光学系统，其经组态以将一第一量测辐射光束导向至该基板上，该第一量测光束具有一第一强度分布，且该光学系统经组态以在与将该第一量测光束导向于该基板上之时间相同的一时间将一第二聚焦辐射光束导向至该基板上，该第二聚焦光束具有一第二强度分布，其中该第二强度分布之至少部分至少在该基板及/或该孔径设备处与该第一强度分布空间上分离。

6. 发明专利

TW201728898A 於半導體裝置檢查系統中用於切趾的檢查系統审中-公开
简体标题：于半导体设备检查系统中用于切趾的检查系统
公开(公告)号：TW201728898A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW106115639
申请日：2013-02-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：蘇立文傑米 M , SULLIVAN,JAMIE M. , 傑尼克喬瑞 , JANIK,GARY , 崔史帝夫宜豐 , CUI,STEVE YIFENG , 阮佑銳克斯 , RUNYOU,REX , 魏克底爾特 , WILK,DIETER , 秀特史帝夫 , SHORT,STEVE , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU,MIKHAIL , 張強 , ZHANG,QIANG , 陳葛雷斯秀-玲 , CHEN,GRACE HSIU-LING , 達納羅伯特 M , DANEN,ROBERT M. , 馬多諾蘇威平 , MARTONO,SUWIPIN , 維瑪秀柏希特 , VERMA,SHOBHIT , 蔡文建 , CAI,WENJIAN , 布藍德米爾 , BRENDER,MEIER
IPC分类号： G01N21/88
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/95623 , G01N2021/8825 , G02B27/58
摘要：本發明揭示一種具有可選擇切趾之檢查系統，該檢查系統包含：一照射源，其經組態以照射一樣本之一表面；一偵測器，其經組態以偵測自該樣本之該表面發出之光之至少一部分，該照射源及該偵測器經由一光學系統之一光學路徑而光學耦合；一可選擇性組態之切趾裝置，其沿該光學路徑安置，其中該切趾裝置包含操作地耦合至一或多個致動載台之一或多個切趾元件，該一或多個致動載台經組態以沿一或多個方向可選擇性地致動該一或多個切趾元件；及一控制系統，其通信地耦合至該一或多個致動載台且經組態以藉由控制該一或多個切趾元件之一致動狀態而可選擇性地控制沿該光學路徑所傳輸之照射之切趾。
简体摘要：本发明揭示一种具有可选择切趾之检查系统，该检查系统包含：一照射源，其经组态以照射一样本之一表面；一侦测器，其经组态以侦测自该样本之该表面发出之光之至少一部分，该照射源及该侦测器经由一光学系统之一光学路径而光学耦合；一可选择性组态之切趾设备，其沿该光学路径安置，其中该切趾设备包含操作地耦合至一或多个致动载台之一或多个切趾组件，该一或多个致动载台经组态以沿一或多个方向可选择性地致动该一或多个切趾组件；及一控制系统，其通信地耦合至该一或多个致动载台且经组态以借由控制该一或多个切趾组件之一致动状态而可选择性地控制沿该光学路径所传输之照射之切趾。

7. 发明专利

TW201721266A 具有高品質、穩定輸出光束及長壽命高轉換效率之非線性晶體之雷射审中-公开
简体标题：具有高品质、稳定输出光束及长寿命高转换效率之非线性晶体之激光
公开(公告)号：TW201721266A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW106107276
申请日：2012-07-17
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：杜立賓斯基維拉得摩 , DRIBINSKI,VLADIMIR , 莊勇和艾力克斯 , CHUANG,YUNG-HO ALEX , 阿姆斯壯J 喬瑟夫 , ARMSTRONG,J. JOSEPH , 費爾登約翰 , FIELDEN,JOHN
IPC分类号： G02F1/35 , H01S3/098 , G01N21/88
CPC分类号： H01S5/0092 , C03B33/02 , C30B1/02 , C30B29/10 , C30B29/14 , C30B29/22 , C30B29/30 , C30B33/02 , G01N21/88 , G01N21/8806 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N2201/06113 , G01N2201/0637 , G01N2201/068 , G02F1/353 , G02F1/3551 , G02F1/3553 , G02F1/37 , G02F2001/3505 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , G02F2202/20 , H01S3/0092 , H01S3/10 , H01S3/10038 , H01S3/10046 , H01S3/11
摘要：本發明揭示一種可以低溫操作之鎖模雷射系統，其可包含一退火頻率轉換晶體及用以在該低溫標準操作期間維持該晶體之一退火條件之一外殼。在一實施例中，該晶體可具有一增加長度。第一光束塑形光學器件可經組態以將來自一光源之一光束聚焦至位於該晶體中或該晶體接近處之一光束腰處之一橢圓形橫截面。一諧波分離區塊可將來自該晶體之一輸出分成空間中被分離之不同頻率光束。在一實施例中，該鎖模雷射系統可進一步包含第二光束塑形光學器件，其經組態以將一橢圓形橫截面之所要頻率光束轉換成具有一所要縱橫比(諸如一圓形橫截面)之一光束。
简体摘要：本发明揭示一种可以低温操作之锁模激光系统，其可包含一退火频率转换晶体及用以在该低温标准操作期间维持该晶体之一退火条件之一外壳。在一实施例中，该晶体可具有一增加长度。第一光束塑形光学器件可经组态以将来自一光源之一光束聚焦至位于该晶体中或该晶体接近处之一光束腰处之一椭圆形横截面。一谐波分离区块可将来自该晶体之一输出分成空间中被分离之不同频率光束。在一实施例中，该锁模激光系统可进一步包含第二光束塑形光学器件，其经组态以将一椭圆形横截面之所要频率光束转换成具有一所要纵横比(诸如一圆形横截面)之一光束。

8. 发明专利

TW201716772A 晶圓檢測审中-公开
简体标题：晶圆检测
公开(公告)号：TW201716772A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105141093
申请日：2012-07-12
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：羅曼諾夫斯基阿那托利 , ROMANOVSKY, ANATOLY , 馬立夫伊凡 , MALEEV, IVAN , 卡瓦德傑夫丹尼爾 , KAVALDJIEV, DANIEL , 由第斯基由里 , YUDITSKY, YURY , 沃爾德克 , WOLL, DIRK , 比耶雅克史帝芬 , BIELLAK, STEPHEN
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/47
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/47 , G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/956
摘要：本發明揭示一種經組態以檢測晶圓之系統。
简体摘要：本发明揭示一种经组态以检测晶圆之系统。

9. 发明专利

TW201715197A 用於元件操控裝置的成像傳感器审中-公开
简体标题：用于组件操控设备的成像传感器
公开(公告)号：TW201715197A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105130581
申请日：2016-09-22
申请人：紐豹有限責任合資公司 , MUEHLBAUER GMBH & CO. KG
发明人：帕卡潘卡烏拉底米 , PRAKAPENKA, ULADIMIR , 拉卡達努塞爾黑 , LAKHADANOU, SIARHEI , 史畢許廷格史蒂芬 , SPICHTINGER, STEPHAN , 米利希萊納 , MIEHLICH, RAINER
IPC分类号： G01B11/00 , H05K13/02 , G01C11/00 , G01B11/24 , G01B11/30 , G01J3/46 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/95 , G01N21/95684 , G01N2021/8825 , H01L21/681
摘要：一種成像傳感器，特別是在一元件操控裝置內，用於檢測元件的位置和/或特性傳感器，該成像傳感器配備有至少兩個不同的感測光譜，其特別適用於檢測特性誤差和/或檢測位於接收裝置接收處上元件的位置誤差，該成像傳感器適合與輻射源共同搭配作用，而相對於成像傳感器該些與輻射源相關的輻射譜、輻射射入角和/或輻射反射角皆與該成像傳感器對應配合；該成像傳感器被設置成，可為其後續圖像判斷的每一檢測光譜提供獨立的圖像採集。
简体摘要：一种成像传感器，特别是在一组件操控设备内，用于检测组件的位置和/或特性传感器，该成像传感器配备有至少两个不同的传感光谱，其特别适用于检测特性误差和/或检测位于接收设备接收处上组件的位置误差，该成像传感器适合与辐射源共同搭配作用，而相对于成像传感器该些与辐射源相关的辐射谱、辐射射入角和/或辐射反射角皆与该成像传感器对应配合；该成像传感器被设置成，可为其后续图像判断的每一检测光谱提供独立的图像采集。

10. 发明专利

TW201712324A 檢查設備及物品製造方法审中-公开
简体标题：检查设备及物品制造方法
公开(公告)号：TW201712324A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105130329
申请日：2016-09-20
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：植村卓典 , UEMURA, TAKANORI
IPC分类号： G01N21/88 , G01B11/30
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/892 , G01N21/94 , G01N2021/8816 , G01N2021/8835 , G01N2021/8924 , G06T5/007 , G06T5/50 , G06T7/0004 , G06T2207/10004 , G06T2207/10152 , G06T2207/20212 , G06T2207/30108
摘要：一種用於執行物體的檢查的檢查設備包括：照明裝置，其對於物體執行各向異性照明和各向同性照明；成像裝置，其使藉由照明裝置而被照明的物體成像；以及處理器，其基於由成像裝置所獲得的影像來執行檢查的處理。處理器基於由成像裝置在照明裝置分別執行複數個各向異性照明時所獲得的複數個第一影像、以及由成像裝置在照明裝置執行各向同性照明時所獲得的第二影像來產生檢查影像，並且基於檢查影像來執行處理。
简体摘要：一种用于运行物体的检查的检查设备包括：照明设备，其对于物体运行各向异性照明和各向同性照明；成像设备，其使借由照明设备而被照明的物体成像；以及处理器，其基于由成像设备所获得的影像来运行检查的处理。处理器基于由成像设备在照明设备分别运行复数个各向异性照明时所获得的复数个第一影像、以及由成像设备在照明设备运行各向同性照明时所获得的第二影像来产生检查影像，并且基于检查影像来运行处理。

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