会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 藉由雷射都卜勒效應以檢測用於微電子或光學的晶圓之方法與系統
    • 借由激光都卜勒效应以检测用于微电子或光学的晶圆之方法与系统
    • TW201802461A
    • 2018-01-16
    • TW106110548
    • 2017-03-29
    • 統一半導體公司UNITY SEMICONDUCTOR
    • 格斯塔多 飛利浦GASTALDO, PHILIPPE杜瑞恩德 迪 濟維格尼 馬耶爾DURAND DE GEVIGNEY, MAYEUL寇慢拜耳 特瑞史坦恩COMBIER, TRISTAN
    • G01N21/95
    • G01N21/9501G01N21/8806
    • 本發明係關於一種用以檢測用於微電子、光學或光電子學的晶圓(2)之方法,其包含:- 關於垂直於該晶圓的一個主表面(S)之一個對稱軸(X)而轉動晶圓(2);- 從其和一個干涉測量裝置(30)為耦合的一個光源(20)而發出二個入射的光束,以便在該二束之間的相交處而形成含有干涉條紋之一個測量容體(V),經配置以使得該晶圓的主表面(S)的一個區域係通過該測量容體的至少一個條紋,朝晶圓的一個徑向方向之該測量容體的尺度(Dy)係包含在5與100μm之間;- 收集由晶圓的該區域所散射之至少一部分的光線;- 取得該收集的光線,且發出一個電氣訊號,其代表該收集的光線之光強度的變化而為時間的一個函數;- 在該訊號中偵測在該收集的光線中之一個頻率分量,該頻率係通過該測量容體之一個缺陷的時間表徵。
    • 本发明系关于一种用以检测用于微电子、光学或光电子学的晶圆(2)之方法,其包含:- 关于垂直于该晶圆的一个主表面(S)之一个对称轴(X)而转动晶圆(2);- 从其和一个干涉测量设备(30)为耦合的一个光源(20)而发出二个入射的光束,以便在该二束之间的相交处而形成含有干涉条纹之一个测量容体(V),经配置以使得该晶圆的主表面(S)的一个区域系通过该测量容体的至少一个条纹,朝晶圆的一个径向方向之该测量容体的尺度(Dy)系包含在5与100μm之间;- 收集由晶圆的该区域所散射之至少一部分的光线;- 取得该收集的光线,且发出一个电气信号,其代表该收集的光线之光强度的变化而为时间的一个函数;- 在该信号中侦测在该收集的光线中之一个频率分量,该频率系通过该测量容体之一个缺陷的时间表征。