基本信息:
- 专利标题: 用於檢測晶圓上缺陷之系統
- 专利标题(英):System for detecting defects on a wafer
- 专利标题(中):用于检测晶圆上缺陷之系统
- 申请号:TW106133889 申请日:2014-02-05
- 公开(公告)号:TWI614722B 公开(公告)日:2018-02-11
- 发明人: 吳肯翁 , WU,KENONG , 高理升 , GAO,LISHENG , 陳葛雷斯 秀-玲 , CHEN,GRACE HSIU-LING , 碩爾特大衛 W , SHORTT,DAVID W.
- 申请人: 克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
- 专利权人: 克萊譚克公司,KLA-TENCOR CORPORATION
- 当前专利权人: 克萊譚克公司,KLA-TENCOR CORPORATION
- 代理人: 陳長文
- 优先权: 61/759,949 20130201;61/913,379 20131208;14/169,161 20140131
- 主分类号: G06T7/00
- IPC分类号: G06T7/00
公开/授权文献:
- TW201802770A 用於檢測晶圓上缺陷之系統 公开/授权日:2018-01-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
G | 物理 |
--G06 | 计算;推算;计数 |
----G06T | 一般的图像数据处理或产生 |
------G06T7/00 | 图像分析,例如从位像到非位像 |