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2. 发明专利

TWI554753B 用於偵測在晶圓上之缺陷之方法、系統及非暫時性電腦可讀媒體有权
简体标题：用于侦测在晶圆上之缺陷之方法、系统及非暂时性电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI554753B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101127047
申请日：2012-07-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：陳魯 , CHEN, LU , 張強 , ZHANG, QIANG
IPC分类号： G01N21/95 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , H01L22/12

3. 发明专利

TW201825882A 用於極紫外光遮罩缺陷檢查之相位對比度監測审中-公开
简体标题：用于极紫外光遮罩缺陷检查之相位对比度监测
公开(公告)号：TW201825882A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106134445
申请日：2017-10-06
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：張強 , ZHANG, QIANG , 是瑞方 , SHI, RUI-FANG
IPC分类号： G01N21/33 , G01N21/88
摘要：本發明揭示使用一光學檢查工具檢查一極紫外光(EUV)倍縮光罩之方法及設備。使用具有定位於一成像光瞳處之一光瞳濾波器之一檢查工具從自一EUV測試倍縮光罩之一測試部分反射及散射之一輸出光束獲得一測試影像或信號。該光瞳濾波器經組態以提供該輸出光束中之相位對比度。針對經設計以相同於該測試倍縮光罩部分之一參考倍縮光罩部分獲得一參考影像或信號。比較該等測試及參考影像或信號且基於此比較判定該測試倍縮光罩部分是否具有任何候選缺陷。針對該倍縮光罩之複數個測試倍縮光罩部分之各者，重複使用該檢查工具、獲得一參考影像或信號、比較且判定之操作。基於已經判定而呈現之任何候選缺陷產生一缺陷報告。
简体摘要：本发明揭示使用一光学检查工具检查一极紫外光(EUV)倍缩光罩之方法及设备。使用具有定位于一成像光瞳处之一光瞳滤波器之一检查工具从自一EUV测试倍缩光罩之一测试部分反射及散射之一输出光束获得一测试影像或信号。该光瞳滤波器经组态以提供该输出光束中之相位对比度。针对经设计以相同于该测试倍缩光罩部分之一参考倍缩光罩部分获得一参考影像或信号。比较该等测试及参考影像或信号且基于此比较判定该测试倍缩光罩部分是否具有任何候选缺陷。针对该倍缩光罩之复数个测试倍缩光罩部分之各者，重复使用该检查工具、获得一参考影像或信号、比较且判定之操作。基于已经判定而呈现之任何候选缺陷产生一缺陷报告。

5. 发明专利

TWI586949B 極紫外光遮罩檢查系統之光學器具的波前像差測定有权
简体标题：极紫外光遮罩检查系统之光学器具的波前像差测定
公开(公告)号：TWI586949B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW102131412
申请日：2013-08-30
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：張強 , ZHANG, QIANG , 劉燕維 , LIU, YANWEI , 賽斯金納阿布都拉罕 , SEZGINER, ABDURRAHMAN
IPC分类号： G01M11/02 , G03F1/84
CPC分类号： G01J1/00 , G01J1/4257 , G02B5/0833 , G02B5/0891 , G03F1/24 , G03F1/50 , G03F1/52 , G03F1/84 , G21K7/00

6. 发明专利

TW201337245A 於半導體裝置檢查系統中用於切趾的系統及方法审中-公开
简体标题：于半导体设备检查系统中用于切趾的系统及方法
公开(公告)号：TW201337245A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW102105416
申请日：2013-02-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：蘇立文傑米M , SULLIVAN, JAMIE M. , 傑尼克喬瑞 , JANIK, GARY , 崔史帝夫宜豐 , CUI, STEVE YIFENG , 阮佑銳克斯 , RUNYOU, REX , 魏克底爾特 , WILK, DIETER , 秀特史帝夫 , SHORT, STEVE , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU, MIKHAIL , 張強 , ZHANG, QIANG , 陳葛雷斯秀玲 , CHEN, GRACE HSIU-LING , 達納羅伯特M , DANEN, ROBERT M. , 馬多諾蘇威平 , MARTONO, SUWIPIN , 維瑪秀柏希特 , VERMA, SHOBHIT , 蔡文建 , CAI, WENJIAN , 布藍德米爾 , BRENDER, MEIER
IPC分类号： G01N21/88
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/95623 , G01N2021/8825 , G02B27/58
摘要：本發明揭示一種具有可選擇切趾之檢查系統，該檢查系統包含：一照射源，其經組態以照射一樣本之一表面；一偵測器，其經組態以偵測自該樣本之該表面發出之光之至少一部分，該照射源及該偵測器經由一光學系統之一光學路徑而光學耦合；一可選擇性組態之切趾裝置，其沿該光學路徑安置，其中該切趾裝置包含操作地耦合至一或多個致動載台之一或多個切趾元件，該一或多個致動載台經組態以沿一或多個方向可選擇性地致動該一或多個切趾元件；及一控制系統，其通信地耦合至該一或多個致動載台且經組態以藉由控制該一或多個切趾元件之一致動狀態而可選擇性地控制沿該光學路徑所傳輸之照射之切趾。
简体摘要：本发明揭示一种具有可选择切趾之检查系统，该检查系统包含：一照射源，其经组态以照射一样本之一表面；一侦测器，其经组态以侦测自该样本之该表面发出之光之至少一部分，该照射源及该侦测器经由一光学系统之一光学路径而光学耦合；一可选择性组态之切趾设备，其沿该光学路径安置，其中该切趾设备包含操作地耦合至一或多个致动载台之一或多个切趾组件，该一或多个致动载台经组态以沿一或多个方向可选择性地致动该一或多个切趾组件；及一控制系统，其通信地耦合至该一或多个致动载台且经组态以借由控制该一或多个切趾组件之一致动状态而可选择性地控制沿该光学路径所传输之照射之切趾。

7. 发明专利

TWI615608B 用於偵測在晶圓上之缺陷之方法、系統及電腦可讀媒體有权
简体标题：用于侦测在晶圆上之缺陷之方法、系统及电脑可读媒体
公开(公告)号：TWI615608B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW105127602
申请日：2012-07-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：陳魯 , CHEN, LU , 張強 , ZHANG, QIANG
IPC分类号： G01N21/95 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , H01L22/12

8. 发明专利

TW201728898A 於半導體裝置檢查系統中用於切趾的檢查系統审中-公开
简体标题：于半导体设备检查系统中用于切趾的检查系统
公开(公告)号：TW201728898A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW106115639
申请日：2013-02-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：蘇立文傑米 M , SULLIVAN,JAMIE M. , 傑尼克喬瑞 , JANIK,GARY , 崔史帝夫宜豐 , CUI,STEVE YIFENG , 阮佑銳克斯 , RUNYOU,REX , 魏克底爾特 , WILK,DIETER , 秀特史帝夫 , SHORT,STEVE , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU,MIKHAIL , 張強 , ZHANG,QIANG , 陳葛雷斯秀-玲 , CHEN,GRACE HSIU-LING , 達納羅伯特 M , DANEN,ROBERT M. , 馬多諾蘇威平 , MARTONO,SUWIPIN , 維瑪秀柏希特 , VERMA,SHOBHIT , 蔡文建 , CAI,WENJIAN , 布藍德米爾 , BRENDER,MEIER
IPC分类号： G01N21/88
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/95623 , G01N2021/8825 , G02B27/58
摘要：本發明揭示一種具有可選擇切趾之檢查系統，該檢查系統包含：一照射源，其經組態以照射一樣本之一表面；一偵測器，其經組態以偵測自該樣本之該表面發出之光之至少一部分，該照射源及該偵測器經由一光學系統之一光學路徑而光學耦合；一可選擇性組態之切趾裝置，其沿該光學路徑安置，其中該切趾裝置包含操作地耦合至一或多個致動載台之一或多個切趾元件，該一或多個致動載台經組態以沿一或多個方向可選擇性地致動該一或多個切趾元件；及一控制系統，其通信地耦合至該一或多個致動載台且經組態以藉由控制該一或多個切趾元件之一致動狀態而可選擇性地控制沿該光學路徑所傳輸之照射之切趾。
简体摘要：本发明揭示一种具有可选择切趾之检查系统，该检查系统包含：一照射源，其经组态以照射一样本之一表面；一侦测器，其经组态以侦测自该样本之该表面发出之光之至少一部分，该照射源及该侦测器经由一光学系统之一光学路径而光学耦合；一可选择性组态之切趾设备，其沿该光学路径安置，其中该切趾设备包含操作地耦合至一或多个致动载台之一或多个切趾组件，该一或多个致动载台经组态以沿一或多个方向可选择性地致动该一或多个切趾组件；及一控制系统，其通信地耦合至该一或多个致动载台且经组态以借由控制该一或多个切趾组件之一致动状态而可选择性地控制沿该光学路径所传输之照射之切趾。

9. 发明专利

TW201414996A 極紫外光遮罩檢查系統之光學器具的波前像差測定审中-公开
简体标题：极紫外光遮罩检查系统之光学器具的波前像差测定
公开(公告)号：TW201414996A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102131412
申请日：2013-08-30
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：張強 , ZHANG, QIANG , 劉燕維 , LIU, YANWEI , 賽斯金納阿布都拉罕 , SEZGINER, ABDURRAHMAN
IPC分类号： G01M11/02 , G03F1/84
CPC分类号： G01J1/00 , G01J1/4257 , G02B5/0833 , G02B5/0891 , G03F1/24 , G03F1/50 , G03F1/52 , G03F1/84 , G21K7/00
摘要：本發明揭示一種用於量測一極紫外光(EUV)檢查系統之波前像差之測試結構。該測試結構包含：一基板，其由對EUV光實質上無反射性之一材料形成；及一多層(ML)堆疊部分(諸如一柱)，其形成於該基板上且包括具有不同折射率以反射EUV光之複數個交替層對。該等對之計數(數目)等於或小於15。
简体摘要：本发明揭示一种用于量测一极紫外光(EUV)检查系统之波前像差之测试结构。该测试结构包含：一基板，其由对EUV光实质上无反射性之一材料形成；及一多层(ML)堆栈部分(诸如一柱)，其形成于该基板上且包括具有不同折射率以反射EUV光之复数个交替层对。该等对之计数(数目)等于或小于15。

10. 发明专利

TW201643415A 用於偵測在晶圓上之缺陷之方法及系統审中-公开
简体标题：用于侦测在晶圆上之缺陷之方法及系统
公开(公告)号：TW201643415A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105127602
申请日：2012-07-26
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：陳魯 , CHEN, LU , 張強 , ZHANG, QIANG
IPC分类号： G01N21/95 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , H01L22/12
摘要：本發明提供偵測一晶圓上之缺陷的系統及方法。
简体摘要：本发明提供侦测一晶圆上之缺陷的系统及方法。

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