专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201734414A 用於相依於重複率的效能變數之線上校準审中-公开
简体标题：用于相依于重复率的性能变量之在线校准
公开(公告)号：TW201734414A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13
CPC分类号： G01J11/00 , G01J1/0228 , G01J1/0448 , G01J1/4257 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/10046 , H01S3/10069
摘要：本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一經排程期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。
简体摘要：本发明揭示依据操作激光所处之重复率变化的激光性能之在线校准。该校准可为周期性的且在一非曝光周期期间在一经调度期间进行。各种准则可用以自动地选择产生可靠之符合规范之性能的该等重复率。接着使重复率之可靠值作为所允许之值可用于扫描仪，且接着准许激光/扫描仪系统使用彼等所允许之重复率。

2. 发明专利

TWI473373B 間隔時間可調脈衝序列產生裝置有权
简体标题：间隔时间可调脉冲串行产生设备
公开(公告)号：TWI473373B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW101145023
申请日：2012-11-30
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：張耀文 , JHANG, YAO WUN , 蘇信嘉 , SU, HSIN CHIA , 黃健銘 , HUANG, CHIEN MING , 林士廷 , LIN, SHIH TING , 王芷琳 , WANG, CHIH LIN , 胡杰 , HU, CHIEH
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： B23K26/06 , H01S3/06791 , H01S3/08054 , H01S3/10046 , H01S3/105 , H01S3/235

3. 发明专利

TW200618920A 半導體元件之多重波長雷射微加工 MULTIPLE-WAVELENGTH LASER MICROMACHINING OF SEMICONDUCTOR DEVICES 审中-公开
简体标题：半导体组件之多重波长激光微加工 MULTIPLE-WAVELENGTH LASER MICROMACHINING OF SEMICONDUCTOR DEVICES
公开(公告)号：TW200618920A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW094143542
申请日：2005-12-09
申请人：伊雷克托科學工業股份有限公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：孫雲龍 SUN, YUNLONG , 凱利布蘭 BRULAND, KELLY , 羅柏特F. 海茵瑟 HAINSEY, ROBERT F. , 理查哈利斯 HARRIS, RICHARD , 威廉J. 喬登 JORDENS, WILLIAM J. , 盧可偉 LO, HO WAI , 孫蕾 SUN, LEI
IPC分类号： B23K
CPC分类号： H01L23/5258 , B23K26/0604 , B23K26/0613 , B23K26/0622 , B23K26/067 , B23K26/361 , B23K26/40 , B23K2203/08 , B23K2203/10 , B23K2203/12 , B23K2203/14 , B23K2203/172 , B23K2203/26 , B23K2203/50 , H01L2924/0002 , H01S3/10046 , H01S3/2383 , Y10S438/94 , H01L2924/00
摘要：一特殊型態的雷射脈衝能量分布(98，104，156)係具有在其分布之不同時點包含不同雷射波長之特徵，其係提供減少且受到控制的抖動以致能達到高品質處理和較小之可行的光點尺寸之半導體元件的微加工。
简体摘要：一特殊型态的激光脉冲能量分布(98，104，156)系具有在其分布之不同时点包含不同激光波长之特征，其系提供减少且受到控制的抖动以致能达到高品质处理和较小之可行的光点尺寸之半导体组件的微加工。

4. 发明专利

TW201807913A 用於短脈衝雷射的任意觸發的增益控制审中-公开
简体标题：用于短脉冲激光的任意触发的增益控制
公开(公告)号：TW201807913A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106137937
申请日：2016-11-22
申请人：盧曼頓運作有限公司 , LUMENTUM OPERATIONS LLC
发明人：安曼修伯特 , AMMANN, HUBERT , 貝內帝馬可 , BENETTI, MARCO
IPC分类号： H01S3/094 , H01S3/10 , H01S3/11 , H01S3/02
CPC分类号： H01S3/0941 , H01S3/0085 , H01S3/0092 , H01S3/10015 , H01S3/1003 , H01S3/10046 , H01S3/11 , H01S3/2308 , H01S3/2325 , H01S3/235 , H01S3/2375
摘要：一種裝置可包含一具有儲存的能量之瞬態光放大器，該儲存的能量係相關於一動態平衡的一下邊界及一上邊界、以及一目標位準，該目標位準係界定用於放大一高能量的輸入脈衝至一更高能量的輸出脈衝之儲存的能量。該裝置可包含一用以增加該放大器的儲存的能量的泵、以及一用以使得低能量的控制脈衝或是該高能量的輸入脈衝通過至該放大器的來源。該裝置可包含一控制器，其係被配置以藉由請求用於該放大器的在一高的重複頻率下的低能量的控制脈衝，來維持該放大器的儲存的能量處於該動態平衡。該控制器可以等待接收一觸發。根據接收該觸發，該裝置可以停止通過低能量的控制脈衝至該放大器，並且可以在該放大器的儲存的能量到達該目標位準時，使得該高能量的輸入脈衝通過至該放大器。
简体摘要：一种设备可包含一具有存储的能量之瞬态光放大器，该存储的能量系相关于一动态平衡的一下边界及一上边界、以及一目标位准，该目标位准系界定用于放大一高能量的输入脉冲至一更高能量的输出脉冲之存储的能量。该设备可包含一用以增加该放大器的存储的能量的泵、以及一用以使得低能量的控制脉冲或是该高能量的输入脉冲通过至该放大器的来源。该设备可包含一控制器，其系被配置以借由请求用于该放大器的在一高的重复频率下的低能量的控制脉冲，来维持该放大器的存储的能量处于该动态平衡。该控制器可以等待接收一触发。根据接收该触发，该设备可以停止通过低能量的控制脉冲至该放大器，并且可以在该放大器的存储的能量到达该目标位准时，使得该高能量的输入脉冲通过至该放大器。

5. 发明专利

TW201201467A 具有可依掃描速度調整的重複率之高功率飛秒雷射 HIGH POWER FEMTOSECOND LASER WITH REPETITION RATE ADJUSTABLE ACCORDING TO SCANNING SPEED 审中-公开
简体标题：具有可依扫描速度调整的重复率之高功率飞秒激光 HIGH POWER FEMTOSECOND LASER WITH REPETITION RATE ADJUSTABLE ACCORDING TO SCANNING SPEED
公开(公告)号：TW201201467A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW100106174
申请日：2011-02-24
申请人：愛爾康藍斯克斯股份有限公司
发明人：卡拉維提斯麥可
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/10046 , A61F9/00825 , A61F2009/00897 , H01S3/0057 , H01S3/08059 , H01S3/0811 , H01S3/0816 , H01S3/235
摘要：本發明提供用於建構與操作飛秒脈衝雷射的設計與技術。一種雷射引擎的示例包括振盪器,其可產生並輸出飛秒種子脈衝的光束;擴展壓縮器,其擴展該等種子脈衝的持續時間;及放大器,其接收該等擴展的種子脈衝,放大被選出的擴展種子脈衝之振幅以產生放大的擴展脈衝,並將經放大的擴展脈衝之雷射光束輸出回到該擴展壓縮器,以壓縮它們的持續時間,並輸出飛秒脈衝的雷射光束。該放大器包括色散控制器,其補償該等放大的擴展脈衝之色散,使得該雷射之重複率可在程序之間或根據掃描速率進行調整。該雷射引擎可被小型化為整體光學路徑少於500公尺,並具有較少量的光學元件,例如少於50個。
简体摘要：本发明提供用于建构与操作飞秒脉冲激光的设计与技术。一种激光发动机的示例包括振荡器,其可产生并输出飞秒种子脉冲的光束;扩展压缩器,其扩展该等种子脉冲的持续时间;及放大器,其接收该等扩展的种子脉冲,放大被选出的扩展种子脉冲之振幅以产生放大的扩展脉冲,并将经放大的扩展脉冲之激光光束输出回到该扩展压缩器,以压缩它们的持续时间,并输出飞秒脉冲的激光光束。该放大器包括色散控制器,其补偿该等放大的扩展脉冲之色散,使得该激光之重复率可在进程之间或根据扫描速率进行调整。该激光发动机可被小型化为整体光学路径少于500公尺,并具有较少量的光学组件,例如少于50个。

6. 发明专利

TWI322544B 用於修整同步化脈波形狀的方法與系統 METHODS AND SYSTEMS FOR SYNCHRONIZED PULSE SHAPE TAILORING 有权
简体标题：用于修整同步化脉波形状的方法与系统 METHODS AND SYSTEMS FOR SYNCHRONIZED PULSE SHAPE TAILORING
公开(公告)号：TWI322544B
公开(公告)日：2010-03-21
申请号：TW094141095
申请日：2005-11-23
申请人：伊雷克托科學工業股份有限公司
发明人：孫雲龍 , 孫蕾
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/082 , B23K26/0622 , H01S3/07 , H01S3/0805 , H01S3/0816 , H01S3/0941 , H01S3/10038 , H01S3/10046 , H01S3/117 , H01S3/127 , H01S3/1611 , H01S3/1643
摘要：若干個具有不同設計配置方式的次共振器(12、14)分享共用之共振器區段部份(18)，使得雷射作用能夠大致上被同步化以提供同調雷射脈衝，此同調雷射脈衝本身會合併不同的個別脈衝能量廓形和/或由該次共振器(12、14)之配置方式所給予的脈衝寬度特徵。此次共振器(12、14)可以分享位於共用區段部份內之雷射介質(42)，或是每一個分開的次共振器區段部份(28、36)則具有其本身之雷射介質(42)。作為示範性之長次共振器(12)和短次共振器(14)產生特別修整過的雷射脈衝，在一個波長或是二個不同波長之狀況下，此修整過的雷射脈衝具有較短上升時間和較長脈衝寬度，以利於得到包括有記憶體連結處理之不同雷射和微細加工應用。 A plurality of subresonators (12,14), having different design configuration, share a common resonator section (18) such that the lasing action can be substantially synchronized to provide coherent laser pulses that merge the different respective pulse energy profile and/or pulse width characteristics imparted by the configurations of the subresonators (12,14). The subresonators (12,14) may share a laser medium (42) in the common section, or each distinct subresonator section (28,36) may have its own laser medium (42). Exemplary long and short subresonators (12,14) generate specially tailored laser pulses having a short rise time and a long pulse width at one wavelength or two different wavelengths that may be beneficial for a variety of laser and micromachining applications including memory link processing. 【創作特點】若干實施例之一項目的是在提供一種雷射和/或用於控制雷射脈衝之能量廓形和/或脈衝寬度的方法。
本項發明之一項目的是採用二個或更多個次共振器，其分享一共用共振器區段部份，使得雷射作用能夠大致上被自我同步化。每一個次共振器是具有不同的設計配置方式(例如是次共振器長度)，其調適為提供至少一種不同的脈衝能量廓形和/或脈衝寬度特徵。當共振器的分享部份是包括有輸出埠時，所生成的雷射輸出是會提供獨特之雷射輸出脈衝，此雷射輸出脈衝本身則是會合併由次共振器之配置方式所傳送的能量廓形和/或脈衝寬度特徵。在一些實施例中，該次共振器分享一個位於共用共振器區段內之雷射介質；以及在一些實施例中，每一個次共振器區段是可以具有其本身之雷射介質。在一些實施例中，長次共振器與短次共振器分享一個共用共振器區段，用以產生具有較短上升時間和較長脈衝寬度的雷射脈衝。
在一些實施例中，共用共振器區段是包括有一個高反射鏡，同時，每一次共振器區段是具有其本身之輸出埠。接著，來自每一個次共振器的雷射廓形特徵是可以於共振器之外側而被重新組合，同時，許多與雷射脈衝抖動現象有關的負面影響亦可以被大幅減少。在該廓形被重新組合成為一雷射輸出脈衝之前，次共振器輸出的分開廓形是可以被承受到不同之選擇性諧波轉換技巧，容許雷射輸出脈衝能夠具有採用多於一個雷射波長的特別修整過之廓形。在其他的實施例中，此種不同的波長廓形可以被控制成發生於相對彼此為不同的時間。
從參考隨附圖形之較佳實施例的下列詳細描述內容中，本項發明之其他觀點和優點將可以被清楚得知。
简体摘要：若干个具有不同设计配置方式的次共振器(12、14)分享共享之共振器区段部份(18)，使得激光作用能够大致上被同步化以提供同调激光脉冲，此同调激光脉冲本身会合并不同的个别脉冲能量廓形和/或由该次共振器(12、14)之配置方式所给予的脉冲宽度特征。此次共振器(12、14)可以分享位于共享区段部份内之激光介质(42)，或是每一个分开的次共振器区段部份(28、36)则具有其本身之激光介质(42)。作为示范性之长次共振器(12)和短次共振器(14)产生特别修整过的激光脉冲，在一个波长或是二个不同波长之状况下，此修整过的激光脉冲具有较短上升时间和较长脉冲宽度，以利于得到包括有内存链接处理之不同激光和微细加工应用。 A plurality of subresonators (12,14), having different design configuration, share a common resonator section (18) such that the lasing action can be substantially synchronized to provide coherent laser pulses that merge the different respective pulse energy profile and/or pulse width characteristics imparted by the configurations of the subresonators (12,14). The subresonators (12,14) may share a laser medium (42) in the common section, or each distinct subresonator section (28,36) may have its own laser medium (42). Exemplary long and short subresonators (12,14) generate specially tailored laser pulses having a short rise time and a long pulse width at one wavelength or two different wavelengths that may be beneficial for a variety of laser and micromachining applications including memory link processing. 【创作特点】若干实施例之一项目的是在提供一种激光和/或用于控制激光脉冲之能量廓形和/或脉冲宽度的方法。本项发明之一项目的是采用二个或更多个次共振器，其分享一共享共振器区段部份，使得激光作用能够大致上被自我同步化。每一个次共振器是具有不同的设计配置方式(例如是次共振器长度)，其调适为提供至少一种不同的脉冲能量廓形和/或脉冲宽度特征。当共振器的分享部份是包括有输出端口时，所生成的激光输出是会提供独特之激光输出脉冲，此激光输出脉冲本身则是会合并由次共振器之配置方式所发送的能量廓形和/或脉冲宽度特征。在一些实施例中，该次共振器分享一个位于共享共振器区段内之激光介质；以及在一些实施例中，每一个次共振器区段是可以具有其本身之激光介质。在一些实施例中，长次共振器与短次共振器分享一个共享共振器区段，用以产生具有较短上升时间和较长脉冲宽度的激光脉冲。在一些实施例中，共享共振器区段是包括有一个高反射镜，同时，每一次共振器区段是具有其本身之输出端口。接着，来自每一个次共振器的激光廓形特征是可以于共振器之外侧而被重新组合，同时，许多与激光脉冲抖动现象有关的负面影响亦可以被大幅减少。在该廓形被重新组合成为一激光输出脉冲之前，次共振器输出的分开廓形是可以被承受到不同之选择性谐波转换技巧，容许激光输出脉冲能够具有采用多于一个激光波长的特别修整过之廓形。在其他的实施例中，此种不同的波长廓形可以被控制成发生于相对彼此为不同的时间。从参考随附图形之较佳实施例的下列详细描述内容中，本项发明之其他观点和优点将可以被清楚得知。

7. 发明专利

TW200915687A 半導體可飽和吸收體及其製作方法 SEMICONDUCTOR SATURABLE ABSORBER AND FABRICATION METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：半导体可饱和吸收体及其制作方法 SEMICONDUCTOR SATURABLE ABSORBER AND FABRICATION METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200915687A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW096135552
申请日：2007-09-21
申请人：黃凱風 HUANG, KAI FENG , 陳永富 CHEN, YUNG FU
发明人：黃凱風 HUANG, KAI FENG , 陳永富 CHEN, YUNG FU
IPC分类号： H01S , H01L
CPC分类号： H01S3/113 , G02F1/3523 , G02F2202/108 , H01S3/0621 , H01S3/0623 , H01S3/10046 , H01S3/1024 , H01S3/1118 , H01S3/1618 , H01S3/1673
摘要：本發明係關於一種半導體可飽和吸收體,其包含一砷化鋁鎵銦(AlGaInAs)晶體形成於一基板上,且該砷化鋁鎵銦晶體具有一量子井/井障(QW/barrier)結構,其中該量子井/井障結構的能隙差(��Ec)大於或等於50 meV。
简体摘要：本发明系关于一种半导体可饱和吸收体,其包含一砷化铝镓铟(AlGaInAs)晶体形成于一基板上,且该砷化铝镓铟晶体具有一量子井/井障(QW/barrier)结构,其中该量子井/井障结构的能隙差(��Ec)大于或等于50 meV。

8. 发明专利

TWI586058B 具有可變重複率之高功率飛秒雷射有权
简体标题：具有可变重复率之高功率飞秒激光
公开(公告)号：TWI586058B
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104124957
申请日：2011-02-24
申请人：愛爾康眼科手術激光股份有限公司 , ALCON LENSX, INC.
发明人：卡拉維提斯麥可 , KARAVITIS, MICHAEL
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/02 , A61F9/008
CPC分类号： H01S3/10046 , A61F9/00825 , A61F2009/00897 , H01S3/0057 , H01S3/08059 , H01S3/0811 , H01S3/0816 , H01S3/235

9. 发明专利

TWI582512B 具有高品質、穩定輸出光束及長壽命高轉換效率之非線性晶體之雷射有权
简体标题：具有高品质、稳定输出光束及长寿命高转换效率之非线性晶体之激光
公开(公告)号：TWI582512B
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：TW101125731
申请日：2012-07-17
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：杜立賓斯基維拉得摩 , DRIBINSKI, VLADIMIR , 莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 阿姆斯壯 J 喬瑟夫 , ARMSTRONG J. JOSEPH , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN
IPC分类号： G02F1/35 , H01S3/098 , G01N21/88
CPC分类号： H01S5/0092 , C03B33/02 , C30B1/02 , C30B29/10 , C30B29/14 , C30B29/22 , C30B29/30 , C30B33/02 , G01N21/88 , G01N21/8806 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N2201/06113 , G01N2201/0637 , G01N2201/068 , G02F1/353 , G02F1/3551 , G02F1/3553 , G02F1/37 , G02F2001/3505 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , G02F2202/20 , H01S3/0092 , H01S3/10 , H01S3/10038 , H01S3/10046 , H01S3/11

10. 发明专利

TWI530349B 雷射加工裝置、加工控制裝置及脈波頻率控制方法有权
简体标题：激光加工设备、加工控制设备及脉波频率控制方法
公开(公告)号：TWI530349B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW102123945
申请日：2013-07-04
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：城所仁志 , KIDOKORO, HITOSHI , 鈴木昭弘 , SUZUKI, AKIHIRO , 久留島宏 , KURUSHIMA, HIROSHI , 西川直樹 , NISHIKAWA, NAOKI , 金田充弘 , KANEDA, ATSUHIRO
IPC分类号： B23K26/062 , H01S3/13
CPC分类号： G02B26/105 , H01S3/10046

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式