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1. 发明授权

KR101791268B1 ＥＵＶ 마스크 평평함을 평가하기 위한 방법 및 시스템 有权
标题翻译：用于评估EUV掩模平坦度的方法和系统
公开(公告)号：KR101791268B1
公开(公告)日：2017-11-20
申请号：KR1020110097254
申请日：2011-09-27
申请人： 아이엠이씨 브이제트더블유
发明人： 로루소,지안프랜시스코 , 상,리
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F1/24 , G03F1/84 , G03F7/70525 , G03F7/70616 , G03F7/70783
摘要： 리소그래피시스템또는컴포넌트를평가하기위한방법(200)이설명된다. 상기방법(200)은 - 리소그래피시스템에서리소그래피처리를위한제1 파장또는파장영역의전자기방사선과는다른, 제2 파장또는파장영역의전자기방사선을한 리소그래피광학요소로향하도록하고(204) 그리고감광층을포함하는기판에서전자기리소그래피광학요소로부터반사되는전자기방사선적어도일부를검사하며; 그뒤에상기검사된전자기방사선을평가하고(205); 그리고노광된감광층평가로부터리소그래피광학요소및/또는그 홀더의윤곽파라미터를결정(206)함을포함한다.
摘要翻译：描述了用于评估光刻系统或部件的方法200。方法200 - 第一个波长或波长范围为在光刻系统中的光刻工艺的电磁辐射是面对，另外，第二波长或波长范围的光刻光学元件204的电磁辐射和光敏层检查从基底中的电磁光刻光学元件反射的至少一部分电磁辐射; （205）之后评估所检查的电磁辐射; 并且它包括：确定光学光刻元件和/或保持器从暴露的感光层评价206也的轮廓参数。

2. 发明公开

KR1020170113383A 반송 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：转印装置，光刻设备和制造物品的方法
公开(公告)号：KR1020170113383A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170040431
申请日：2017-03-30
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 마츠히라야스나오
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7075 , G03F7/70783
摘要： 본발명은기판을스테이지에반송하는반송장치를제공하며, 이장치는기판을보유지지하여회전시키도록구성된보유지지유닛, 보유지지유닛에의해보유지지된기판의높이를검출하도록구성된검출유닛, 보유지지유닛으로부터스테이지로기판을반송하도록구성된반송유닛, 및보유지지유닛이기판을회전시키는동안획득된검출유닛의검출결과에기초하여, 반송유닛에의한기판의반송을제어하도록구성된제어유닛을포함한다.
摘要翻译：本发明提供了一种输送装置的基板输送到舞台，并保持值章基片保持配置为旋转所述支撑部，所述保持和检测单元，用于检测由所述单元中，保持保持在支撑衬底的高度和通过输送装置，和保持单元被配置为将衬底从单元传输到基于在旋转的同时在基板获得的检测单元的检测结果的阶段中，以及控制单元，配置为通过所述输送单元，以控制所述衬底的所述传输。

3. 发明公开

KR1020170024768A 마스크 오차 측정 장치 및 마스크 오차 측정 방법 审中-实审
标题翻译：用于测量掩模误差的装置和测量掩模误差的方法
公开(公告)号：KR1020170024768A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020150120195
申请日：2015-08-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 한학승 , 이동근 , 정동훈
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/033 , H01L27/146
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F1/84
摘要： 마스크오차측정장치및 그의동작방법이제공된다. 마스크오차측정장치는, 상면상에형성된기준패턴을포함하는기준마스크(reference mask), 상기기준마스크와인접하게배치되고, 상면상에형성된마스크패턴을포함하는대상마스크, 제1 광을생성하고, 상기제1 광을상기기준마스크및 상기대상마스크에조사하는광원부, 이미지센서를포함하되, 상기기준패턴으로부터생성된제1 이미지와, 상기마스크패턴으로부터생성된제2 이미지를상기이미지센서에각각제공하는수광부로, 상기이미지센서는상기제1 이미지와상기제2 이미지로부터제3 이미지를생성하는수광부, 및상기제3 이미지로부터상기마스크패턴의오차를측정하는측정부를포함한다.
摘要翻译：提供了一种用于测量掩模误差的装置和用于测量掩模误差的方法。用于测量掩模误差的装置包括被配置为容纳具有参考图案的参考掩模的台和与参考掩模相邻的目标掩模，使得目标掩模的掩模图案面向参考图案，被配置为照射第一光束到参考掩模和目标掩模上，光接收单元包括图像传感器，并且图像传感器被配置为接收包括从参考图案生成的第一图像和从掩模图案生成的第二图像的合成图像，并从第一图像和第二图像生成第三图像，以及测量单元，被配置为从第三图像测量掩模图案的误差。

4. 发明公开

KR1020170013975A 노광 공정에서 노광 오차를 보상하는 방법 审中-实审
标题翻译：在曝光过程中补偿曝光错误的方法
公开(公告)号：KR1020170013975A
公开(公告)日：2017-02-07
申请号：KR1020177000045
申请日：2015-04-24
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 베렌드센,크리스티아누스빌헬무스요한네스 , 베커스,마르셀 , 카스텔린스,헨드리쿠스요제프 , 제라에츠,후베르투스안토니우스 , 코에보에츠,아드리아누스헨드릭 , 레바지어,레온마르틴 , 샤프,피터 , 스트리프커크,밥 , 트롬프,지그프리트알렉산더
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70033 , G03F7/70625 , G03F7/70783 , G03F7/70875 , G03F7/70891 , G03F7/70941 , G03F7/2022 , G03F7/706
摘要： 기판테이블을포함하는리소그래피장치의노광공정에서노광오차를보상하는방법이제공되고, 본방법은: 기판레벨에도달하는 IR 방사선의도즈를나타내는도즈측정을얻는단계 - 도즈측정은노광공정시 리소그래피장치에서대상물에의해흡수되는 IR 방사선의양을계산하는데 사용될수 있음 -; 및노광공정시 대상물에의해흡수되는 IR 방사선과연계된노광오차를보상하기위해도즈측정을이용하여노광공정을제어하는단계를포함한다.
摘要翻译：一种用于补偿包括衬底台的光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，所述方法包括：获得表示达到衬底水平的IR辐射的剂量的剂量测量，其中所述剂量测量可以用于计算在曝光过程中由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量; 并且使用剂量测量来控制曝光过程，以补偿在曝光过程期间被物体吸收的IR辐射相关的曝光误差。

5. 发明授权

KR101674484B1 위치설정 시스템, 리소그래피 장치, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：定位系统平台设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR101674484B1
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：KR1020157000726
申请日：2013-06-13
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 비렌스루드안토니우스카타리나마리아 , 제우닌크안드레베르나르더스 , 반데발마리너스마리아요하네스 , 안게넨트윌헬무스헨리쿠스데오도러스마리아 , 반리에샤우트리차드헨리쿠스아드리아누스 , 반데그로스헨리쿠스마르티너스요한 , 반데르호벤사르츠윌렘
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70783
摘要： 리소그래피장치에서물체의위치를설정하기위한위치설정시스템이제공된다. 위치설정시스템은, 지지체, 위치측정디바이스, 변형센서, 및프로세서를포함한다. 지지체는물체를유지하도록구성된다. 위치측정디바이스는지지체의위치를측정하도록구성된다. 위치측정디바이스는, 하나이상의위치센서타겟과, 하나이상의위치센서타겟과함께동작하여지지체의위치를표현하는중복세트의위치신호를제공하는복수의위치센서를포함한다. 변형센서는지지체와위치측정디바이스중의하나의변형을표현하는변형신호를제공하도록배치된다. 프로세서는변형신호와중복세트의위치신호에기초하여위치측정디바이스와변형센서중의하나를교정하도록구성된다.

6. 发明公开

KR1020160110025A 노광 장치 및 웨이퍼 스테이지 有权
标题翻译：曝光装置，烘干阶段和曝光订购装置
公开(公告)号：KR1020160110025A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：KR1020150119281
申请日：2015-08-25
申请人： 가부시끼가이샤 도시바
发明人： 스즈키마사루
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70425 , G03F7/70783
摘要： 일실시예에따르면, 노광장치는웨이퍼스테이지와, 조사광학시스템및 투영광학시스템을포함한다. 웨이퍼스테이지는웨이퍼클램프와, 규소기판상에형성된사전에결정된필름을갖는규소플레이트를보유하도록구성된플레이트클램프를포함한다. 규소플레이트의후방표면온도를측정하도록구성된복수의센서가플레이트클램프의상위표면측상에배치된다. 투영광학시스템은규소플레이트의노광시 플레이트클램프상의규소플레이트에노광광을가한다.
摘要翻译：本发明涉及一种曝光装置，晶片台和用于设定曝光顺序的装置。曝光装置包括：晶片台; 辐射光学系统; 以及投影光学系统，其中所述晶片台包括：晶片夹; 以及包括在硅板上形成有预定膜的硅板的板夹。用于测量硅板的后表面温度的多个传感器布置在板夹的上表面的一侧。此外，当暴露硅板时，投影光学系统将曝光光施加到板夹上的硅板。

7. 发明授权

KR101561148B1 분할형 공기정압 베어링 有权
标题翻译：分体式航空轴承
公开(公告)号：KR101561148B1
公开(公告)日：2015-10-26
申请号：KR1020137024198
申请日：2012-02-13
申请人： 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
发明人： 리진춘 , 팡지에 , 정예친 , 시아하이 , 우리웨이
IPC分类号： F16C32/06
CPC分类号： F16C32/0614 , F16C29/025 , F16C32/0674 , F16C2370/00 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70816
摘要： 플랫폼(4) 상에마찰없이이동하게이동식테이블을지지하기위한분할형공기정압베어링이개시된다. 분할형공기정압베어링은공기정압베어링플레이트(6); 공기정압베어링플레이트(6)의하단에배치된공기부상소자들들(2'a,2'b,2'c,2'd); 및공기정압베어링플레이트(6)에배치된진공사전-결합식구조(7)를포함한다. 진공사전-결합식구조(7)는분할형태로공기정압베어링플레이트(6)에결합된다. 진공사전-결합식구조(7)로부터공기부상소자들들(2'a,2'b,2'c,2'd)의분리로공기정압베어링플레이트(6)가진공사전-결합력하에서휘는것이방지되고, 따라서공기부상영역에영향을주지않을것이다.

8. 发明公开

KR1020150103153A 와핑된 실리콘 웨이퍼 흡착 장치 및 흡착 방법 无效
标题翻译：加热硅胶吸附装置及其吸附方法
公开(公告)号：KR1020150103153A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：KR1020157020394
申请日：2013-12-26
申请人： 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
发明人： 왕신신 , 장쉬추 , 쉬타오 , 주원징 , 쑨팡슝 , 쑨쥔
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683 , G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/6838 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/67288 , Y10T29/413 , Y10T279/11
摘要： 와핑(warped)된 실리콘 웨이퍼 흡착 장치 및 그 흡착 방법으로서, 상기 장치는, 실리콘 웨이퍼를 진공 흡착하기 위한 척(chuck; 100) 및 적어도 3개의 흡착 헤드 어셈블리(200)를 가지며, 척(100)은 적어도 3개의 개구(101)를 구비하고, 각 개구(101)는 하나의 흡착 헤드 어셈블리(200)에 대응되며, 여기서 각 흡착 헤드 어셈블리(200)는 척(100)에 고정 연결된 실린더(230), 및 실린더(230)에 활성 연결된 노즐(210)을 포함하고, 노즐(210)은 실린더(230)의 구동 하에 전부 개구(101) 내에 위치하거나 또는 적어도 일부분이 척(100)의 표면 상부에 위치한다. 척(100) 상에 적어도 3개의 흡착 헤드 어셈블리(200)를 증가하는 것을 통해, 와핑된 실리콘 웨이퍼(300)을 와핑된 실리콘 웨이퍼(300)의 하부 표면 및 척(100)의 상부 표면이 접합될 때까지 흡착 헤드 어셈블리(200)로 흡착하고 연장할 수 있어 와핑된 실리콘 웨이퍼(300)의 흡착이 완성된다.
摘要翻译：公开了一种用于吸附晶片的装置和方法。该设备包括用于真空吸附晶片的吸盘（100）和至少三个吸头组件（200）。卡盘（100）具有至少三个对应于吸头组件（200）的开口（101）。吸头组件（200）包括：与卡盘（100）固定连接的气缸（230）; 以及可移动地连接到气缸（210）的喷嘴（230）。喷嘴（230）完全位于相应的开口（101）内或至少部分地位于卡盘（100）的表面之上。通过在卡盘（100）中增加至少三个吸头组件（200），晶片（300）可被吸头组件（200）吸附和拉伸，直到晶片（300）的下表面附接到卡盘100的上表面，从而实现晶片（300）的吸附。

9. 发明授权

KR101539153B1 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101539153B1
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：KR1020137010655
申请日：2011-12-13
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70708 , G03F7/7035 , G03F7/70358 , G03F7/70733 , G03F7/70783 , H01L21/0273
摘要： 노광장치 (100) 는, 노광빔 (IL) 으로마스크 (M) 를조명하는조명광학장치 (10) 와, 마스크의패턴면이 XY 평면에실질적으로평행해지도록마스크의패턴영역의주위를상방으로부터유지함과함께, 마스크에대하여적어도 XY 평면에평행한면내의힘을작용시키는마스크테이블 (MTB) 과, 웨이퍼 (W) 를 XY 평면에실질적으로평행하게유지하여, XY 평면을따라이동하는웨이퍼스테이지 (WST) 를구비하고있다. 이때문에, 프록시미티방식, 즉투영광학계를사용하지않는노광장치임에도불구하고, 마스크의패턴과기판상의하지패턴의고정밀도의중첩을실현하는것이가능해진다.

10. 发明公开

KR1020150079785A 패터닝 디바이스 조작 시스템 및 리소그래피 장치 有权
标题翻译：绘图设备操纵系统和平面设备
公开(公告)号：KR1020150079785A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020157013660
申请日：2013-09-20
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
发明人： 발렌틴,크리스티안 , 루프스트라,에릭 , 워드,크리스토퍼 , 버뱅크,대니얼 , 슈스터,마크 , 그라페오,피터
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/70266 , G03F7/70433 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70825
摘要： 교환가능한대상물(302)을지지하는시스템(300)은이동가능한구조체(304) 및상기이동가능한구조체에대해이동가능하도록구성된대상물홀더(306)를포함할수 있다. 상기대상물홀더는교환가능한대상물을유지하도록구성될수 있다. 또한, 상기시스템은제 1 액추에이터조립체(308) 및제 2 액추에이터조립체(316)를포함할수 있다. 제 1 액추에이터조립체는전반적으로평면을따라교환가능한대상물을병진시키기위해대상물홀더에힘을인가하도록구성될수 있다. 제 2 액추에이터조립체는대상물홀더에휨 모멘트를인가하도록구성될수 있다. 교환가능한대상물은리소그래피장치의패터닝디바이스일수 있다.

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