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1. 发明授权

KR101667745B1 리소그래피 투영 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC投影设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR101667745B1
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：KR1020117027222
申请日：2010-01-28
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 다멘,요한네스 , 반두이벤보데,예뢴 , 반호우트,함
IPC分类号： H01R13/53 , H01R13/03 , G03F7/20
CPC分类号： H01R13/53 , G03F7/70708 , G03F7/70991
摘要： 예를들어, 저압환경에서고전압전달케이블들을연결하기에적절한전기커넥터가전도성표면을갖는하우징및 복수의케이블삽입부들을포함하고, 각각의케이블삽입부는전기케이블에연결되도록구성된전기도체및 전기도체를둘러싸는절연슬리브를포함하며, 상기하우징은복수의케이블삽입부들을둘러싼다.

2. 发明授权

KR101652782B1 기판 홀더 및 리소그래피 장치 有权
标题翻译：基板支架和平面设备
公开(公告)号：KR101652782B1
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：KR1020147022756
申请日：2013-01-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 라파레레이몬드빌헬무스루이스 , 돈데르스셔드니콜라스람베르투스 , 텐케이트니콜라스 , 드지옴키나니나블라디미로브나 , 카라데요헤쉬 , 로덴버그엘리자베쓰코리니
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： B22F7/062 , B05D3/06 , B05D5/00 , B22F3/1055 , B23K26/0081 , B23K26/342 , B23Q3/18 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , G03F7/20 , G03F7/70341 , G03F7/70416 , G03F7/707 , G03F7/70708 , G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F7/708
摘要： 리소그래피장치용기판홀더(100)는표면상에제공되는박막스택(110)을구비하는본체부를갖는다. 박막스택은전극, 센서, 히터, 트랜지스터, 또는논리소자와같은전자또는전기컴포넌트를형성하고, 상부격리층을갖는다. 기판(W)을지지하기위한복수의버얼(106)이박막스택상에형성되거나박막스택의개구부에형성된다.
摘要翻译：用于光刻设备的物体保持器具有具有表面的主体。在薄膜堆叠的表面上或孔中形成有用于支撑物体的多个毛刺。通过激光烧结形成至少一个毛刺。通过激光烧结形成的毛刺中的至少一个可以是先前通过激光烧结形成的损伤的隆起的修复或其他方法。

3. 发明公开

KR1020150016508A 기판 홀더, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：基板保持器，平面设备和器件制造方法
公开(公告)号：KR1020150016508A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：KR1020147032173
申请日：2013-03-19
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 라파레,레이몬드 , 드지옴키나,니나 , 카라데,요게시 , 로덴버그,엘리자베스 , 싱,하미트
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70733 , G03F7/70341 , G03F7/70708 , H01L21/6831 , H01L21/6875
摘要： 리소그래피 장치에서 사용하기 위한 기판 홀더가 제공되며, 상기 기판 홀더는, 표면(107)을 갖는 본체(100); 상기 표면으로부터 돌출되고, 기판을 지지하기 위한 단부면들을 갖는 복수의 버얼(106); 및 전기 구성요소를 형성하는 상기 본체의 표면의 박막 스택(200)을 포함하고, 상기 박막 스택은 상기 스택의 평면 전반에 걸쳐 실질적으로 균일하게 전하를 분포시키도록 구성되는 전도성 층(108)을 포함하며, 상기 평면에 전도성 층이 위치된다.

4. 发明授权

KR101460597B1 기판 홀더, 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법, 및 기판 홀더 제조방법 有权
标题翻译：基板支架，光刻装置，装置制造方法及制造基板支架的方法
公开(公告)号：KR101460597B1
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：KR1020120016588
申请日：2012-02-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 라파레,레이몬드빌헬무스루이스 , 텐카테,니콜라스 , 드지옴키나,니나블라디미로브나 , 카라데,요게시프라모드 , 트롬프,지그프리트알렉산더 , 리센,야코부스요세푸스 , 로덴버그,엘리자베스코린 , 피츠,마우리스빌헬무스레오나르두스헨드리쿠스 , 후이스만,헨드릭
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , B05D3/02 , G01J5/0285 , G01J5/20 , G03F7/70341 , G03F7/70708
摘要： 리소그래피 장치용 기판 홀더의 표면에는 평탄화 층이 제공된다. 평탄화 층은 전자 구성요소를 형성하는 박막 스택의 형성을 위한 매끈한 표면을 제공한다. 박막 스택은 (선택적) 절연 층, 전극을 형성하는 금속 층, 센서, 히터, 트랜지스터 또는 논리 디바이스, 및 최상부 절연 층을 포함한다.

5. 发明公开

KR1020140114430A 기판 홀더 및 리소그래피 장치 有权
标题翻译：基板支架和平面设备
公开(公告)号：KR1020140114430A
公开(公告)日：2014-09-26
申请号：KR1020147022756
申请日：2013-01-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 라파레레이몬드빌헬무스루이스 , 돈데르스셔드니콜라스람베르투스 , 텐케이트니콜라스 , 드지옴키나니나블라디미로브나 , 카라데요헤쉬 , 로덴버그엘리자베쓰코리니
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： B22F7/062 , B05D3/06 , B05D5/00 , B22F3/1055 , B23K26/0081 , B23K26/342 , B23Q3/18 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , G03F7/20 , G03F7/70341 , G03F7/70416 , G03F7/707 , G03F7/70708 , G03F7/70716 , G03F7/70733 , G03F7/708
摘要： 리소그래피 장치용 기판 홀더(100)는 표면 상에 제공되는 박막 스택(110)을 구비하는 본체부를 갖는다. 박막 스택은 전극, 센서, 히터, 트랜지스터, 또는 논리 소자와 같은 전자 또는 전기 컴포넌트를 형성하고, 상부 격리 층을 갖는다. 기판(W)을 지지하기 위한 복수의 버얼(106)이 박막 스택 상에 형성되거나 박막 스택의 개구부에 형성된다.
摘要翻译：用于光刻设备的物体保持器具有具有表面的主体。在薄膜堆叠的表面上或孔中形成有用于支撑物体的多个毛刺。通过激光烧结形成至少一个毛刺。通过激光烧结形成的毛刺中的至少一个可以是先前通过激光烧结形成的损伤的隆起的修复或其他方法。

6. 发明公开

KR1020140017928A 기판 지지용 진공 테이블 无效
标题翻译：支撑基板的真空表
公开(公告)号：KR1020140017928A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：KR1020120084837
申请日：2012-08-02
申请人： 삼성전기주식회사
发明人： 연제식 , 신종훈 , 김진호 , 안현욱
IPC分类号： H01L21/027 , H05K3/28 , G03F7/20 , H05K13/04
CPC分类号： H01L21/0274 , G03F7/70708 , H05K3/282 , H05K13/0408
摘要： The present invention relates to a vacuum table for supporting a substrate. According to the embodiment of the present invention, the vacuum table for supporting a substrate includes a stage which a substrate is mounted on and has at least one vacuum hole, and a sealing member which is formed on the upper and the lower part of the substrate to form a sealing space by sealing the substrate and the stage.
摘要翻译：本发明涉及一种用于支撑基板的真空台。根据本发明的实施例，用于支撑基板的真空工作台包括：基板安装在其上并具有至少一个真空孔的台，以及形成在基板的上部和下部的密封构件以通过密封基板和台架形成密封空间。

7. 发明授权

KR101347009B1 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 有权
标题翻译：基板加工设备，基板加工方法和储存介质
公开(公告)号：KR101347009B1
公开(公告)日：2014-01-02
申请号：KR1020080004678
申请日：2008-01-16
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 모로쇼오껜 , 다까끼야스히로 , 가네다마사또시
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G03F7/70708 , B05C11/00 , C23C14/541 , C23C16/00 , C23C16/46 , H01L21/67109 , H01L21/67288 , H01L21/683 , H01L21/6838 , H01L21/6875
摘要： 기판과 이 기판을 재치하기 위한 가열 플레이트의 사이에 형성된 간극을 통하여, 상기 기판을 가열할 때에, 여러 가지 형상으로 휘어진 기판이더라도, 기판의 온도를 신속하게 균일하게 하여, 기판의 형상을 교정하기 위한 흡인량을 줄이는 것을 과제로 한다. 기판을 지지하기 위한 돌기가 복수 형성된 가열 플레이트 상에, 이 돌기보다 낮은 높이의 링 형상의 격벽을 복수 바퀴 설치하여, 상기 간극을 복수의 영역으로 구획하여, 이 복수의 영역을 통하여 기판의 흡인을 행한다.
가열 플레이트, 기판, 흡인량, 돌기, 격벽

8. 发明公开

KR1020100015494A 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 无效
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020100015494A
公开(公告)日：2010-02-12
申请号：KR1020097021216
申请日：2008-03-12
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히라야나기노리유키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/6719 , G03F7/70691 , G03F7/70708 , H01L21/67225 , H01L21/67745 , H01L21/681 , H01L21/6831 , H01L21/68742 , G03F7/70733 , G03F7/70841 , H01L21/67706
摘要： An exposure apparatus is configured so that a wafer carrier robot (23) can deliver a wafer (W) to a wafer holder (WH2) held by a holder carrier robot (26) or can carry out a wafer from the wafer holder held by the holder carrier robot, under a reduced-pressure environment. According to the apparatus, the wafer exchange operation of replacing the wafer on the wafer holder used inside the reduced pressure space and a predetermined operation (the exposure apparatus main section operation) using a stage (WST) on which a wafer holder (WH1) holding the wafer is mounted are concurrently performed. Therefore, the influence that the exchange time of an object such as a wafer under a reduced-pressure environment has on the throughput can be suppressed.
摘要翻译：曝光装置被配置为使得晶片载体机器人（23）可以将晶片（W）输送到由保持架支架机器人（26）保持的晶片保持器（WH2），或者可以从由保持架托架机器人，在减压环境下。根据该装置，使用在其上保持有晶片保持器（WH1）的载物台（WST）进行更换在减压空间内使用的晶片保持架上的晶片和预定操作（曝光装置主要部分操作）的晶片更换操作同时执行晶片的安装。因此，可以抑制在减压环境下的诸如晶片的物体的交换时间对吞吐量的影响。

9. 发明授权

KR100861199B1 전자석이 설치된 노광장치 失效
标题翻译：步进电机
公开(公告)号：KR100861199B1
公开(公告)日：2008-09-30
申请号：KR1020070080175
申请日：2007-08-09
申请人： 주식회사 디비하이텍
发明人： 하보현
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0274 , G03F7/70708
摘要： An exposure apparatus including an electromagnet is provided to improve resolution and a DOF(Depth Of Focus) margin by generating magnetic field in a space between a lens and a wafer. An exposure apparatus includes a magnetic body(32). The magnetic body has a circular structure. The magnetic body is installed around a lens and a wafer within a focal distance between the lens and the wafer in order to generate magnetic field within the focal distance. The magnetic body is composed of an electromagnet for controlling the intensity of the magnetic field in order to adjust arbitrarily a refractive index of a space between the lens and the wafer. The magnetic field is formed in the focal distance between the lens and the wafer by applying the current to the electromagnet while light of a light source penetrates the lens. A control unit(40) controls the current applied to the electromagnet.
摘要翻译：提供包括电磁体的曝光装置，以通过在透镜和晶片之间的空间中产生磁场来提高分辨率和DOF（聚焦深度）余量。曝光装置包括磁体（32）。磁体具有圆形结构。在透镜和晶片之间的焦距范围内，将磁体安装在透镜和晶片周围，以便在焦距内产生磁场。磁体由用于控制磁场强度的电磁体组成，以便任意地调整透镜和晶片之间的空间的折射率。当光源透过透镜时，通过将电流施加到电磁体，在透镜和晶片之间的焦距中形成磁场。控制单元（40）控制施加到电磁体的电流。

10. 发明公开

KR1020080067972A 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 有权
标题翻译：基板加工设备，基板加工方法和储存介质
公开(公告)号：KR1020080067972A
公开(公告)日：2008-07-22
申请号：KR1020080004678
申请日：2008-01-16
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 모로쇼오껜 , 다까끼야스히로 , 가네다마사또시
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G03F7/70708 , B05C11/00 , C23C14/541 , C23C16/00 , C23C16/46 , H01L21/67109 , H01L21/67288 , H01L21/683 , H01L21/6838 , H01L21/6875
摘要： A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a storage medium are provided to maintain uniformly temperature by correcting rapidly a shape of a substrate. A heat exchange plate is formed to heat or cool a substrate. A plurality of protrusions(81) are formed on a surface of the heat exchange plate in order to support the substrate and to form a gap between the heat exchange plate and the substrate. A plurality of suction holes(83) are formed at the heat exchange plate in order to attract the substrate through the protrusions and to correct a shape of the substrate. A barrier rib(82) is formed on the surface of the heat exchange plate in order to divide the gap into a plurality of regions. An absorbing unit(86) is connected to the suction holes. At least one of the regions is surrounded with the barrier rib.
摘要翻译：提供基板处理装置，基板处理方法和存储介质，以通过快速校正基板的形状来维持均匀的温度。形成热交换板以加热或冷却基底。在热交换板的表面上形成多个突起（81），以支撑基板并在热交换板和基板之间形成间隙。在热交换板上形成多个吸孔（83），以便通过突起吸引基板并校正基板的形状。隔热板（82）形成在热交换板的表面上，以将间隙分成多个区域。吸收单元（86）连接到抽吸孔。至少一个区域被隔离肋围绕。

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